[发明专利]含有多环芳香族乙烯基化合物的自组装膜的下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201380066230.1 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN104854205B | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 染谷安信;若山浩之;远藤贵文;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09D201/00 | 分类号： | C09D201/00;B05D1/38;B05D3/10;B05D7/24;C09D5/00;C09D125/00;C09D139/04;C09D145/00;G03F7/11;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;李照明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供一种不会与上层的自组装膜发生互混(层混合)而在自组装膜上形成垂直图案的自组装膜的下层膜。解决手段是一种自组装膜的下层膜形成用组合物，其特征在于，含有在聚合物的全部结构单元中具有0.2摩尔％以上的多环芳香族乙烯基化合物结构单元的聚合物。所述聚合物为聚合物在全部结构单元中具有20摩尔％以上的芳香族乙烯基化合物的结构单元，且芳香族乙烯基化合物在全部结构单元中具有1摩尔％以上的多环芳香族乙烯基化合物的结构单元的聚合物。所述芳香族乙烯基化合物包含可分别被取代的乙烯基萘、苊或乙烯基咔唑，所述多环芳香族乙烯基化合物为乙烯基萘、苊或乙烯基咔唑。另外，所述芳香族乙烯基化合物包含可被取代的苯乙烯、和可分别被取代的乙烯基萘、苊或乙烯基咔唑，多环芳香族乙烯基化合物为乙烯基萘、苊或乙烯基咔唑。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 芳香族 乙烯基 化合物 组装 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.一种图案结构，包含自组装膜的下层膜和自组装膜，所述自组装膜的下层膜是由含有在聚合物的全部结构单元中具有20摩尔％以上的多环芳香族乙烯基化合物结构单元的聚合物的下层膜形成用组合物形成的，所述自组装膜是由包含有机聚合物链A和聚合物链B的嵌段聚合物获得的，所述有机聚合物链A含有有机单体a作为结构单元，所述聚合物链B含有与有机单体a不同的单体b作为结构单元且键合于该有机聚合物链A，上层的自组装膜中的嵌段聚合物相对于基板垂直地微相分离，所述下层膜形成用组合物中含有的所述聚合物，在聚合物的全部结构单元中具有20摩尔％以上的芳香族乙烯基化合物结构单元，且在该芳香族乙烯基化合物的全部结构单元中具有1摩尔％以上的多环芳香族乙烯基化合物结构单元。
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