[发明专利]单晶异种二维材料的外延生长方法及层叠结构体在审

专利信息
申请号: 201910951006.X 申请日: 2019-10-08
公开(公告)号: CN111005066A 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 金秀珉;李柱松;高厦荣;具惠英 申请(专利权)人: 韩国科学技术研究院
主分类号: C30B25/18 分类号: C30B25/18;C30B29/68
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开单晶异种二维材料的外延生长方法及层叠结构体。该方法包括如下步骤:形成单晶h‑BN模板;在所述h‑BN模板上沉积异种前体,以形成多个核;以及使被沉积的多个核进行范德华外延生长,以形成异种结构层,其中,所述异种结构层为单晶。
搜索关键词: 单晶异种 二维 材料 外延 生长 方法 层叠 结构
【主权项】:
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  • 利用化学气相沉积法合成大尺寸金刚石晶体的方法-202310355224.3
  • 薄一恒;徐如颜;林军 - 浙江桦茂科技有限公司
  • 2023-04-06 - 2023-06-27 - C30B25/18
  • 本发明公开了利用化学气相沉积法合成大尺寸金刚石晶体的方法,以单晶硅为基底,然后依次沉积SiO2膜及TiCN膜,在TiCN膜上蚀刻出窗口,再蚀刻去除窗口下方的SiO2膜及相邻窗口间的部分SiO2膜,经清洗、干燥、中间退火,得到支撑衬底;在支撑衬底上采用碳氢氟体系沉积形成金刚石过渡层,再采用碳氢体系沉积生长出金刚石外延层,然后超声处理、分离、去应力退火。本发明通过材料选择、结构优化及工艺控制,减小了材料膨胀系数差异所带来的内应力,且有助于金刚石的分离,减少了金刚石的组织缺陷,提高了金刚石的力学性能,避免了金刚石合成与分离过程中的脆性断裂。
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