[发明专利]晶圆级芯片的封装方法有效
申请号: | 201811032114.9 | 申请日: | 2018-09-05 |
公开(公告)号: | CN109273406B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 王玉;许红权;吴震;张强 | 申请(专利权)人: | 苏州科阳光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 215143 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种晶圆级芯片的封装方法,包括:晶圆级芯片的封装产品包括基板以及依次形成在基板上的第一绝缘层、有机粘合层和晶圆,晶圆设置非焊盘区;在非焊盘区,在晶圆的第一表面形成抵达有机粘合层的第一通孔,露出第二表面上的绝缘薄膜;在非焊盘区,在第一通孔的表面形成第二绝缘层;以第一通孔作为第一切割道,去除第一切割道内的绝缘薄膜以及第二绝缘层,并减薄第一切割道内的有机粘合层,沿第一切割道,切割至基板远离第一绝缘层的一面。本发明实施例提供的技术方案,在将多个芯片单元切割成一个一个的分立的部分之前,减薄了有机粘合层,消除了现有技术中晶圆表面的绝缘层的鼓包,改善了产品的电学性能,提高了产品的良率。 | ||
搜索关键词: | 晶圆级 芯片 封装 方法 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆级芯片的封装方法,其特征在于,包括:步骤110、提供晶圆级芯片的封装产品,所述晶圆级芯片的封装产品包括基板,形成在所述基板上的第一绝缘层,形成在所述第一绝缘层上的有机粘合层,形成在所述有机粘合层上的晶圆,所述晶圆具有第一表面以及与第一表面相对的第二表面,所述晶圆的第二表面设置有绝缘薄膜;所述晶圆内含多个芯片单元,每个所述芯片单元在所述第二表面的一侧设置非焊盘区;在所述非焊盘区,在所述第二表面上的绝缘薄膜与所述有机粘合层直接接触,所述有机粘合层用于粘合所述晶圆和所述第一绝缘层;步骤120、在所述非焊盘区,在所述晶圆的第一表面形成抵达所述绝缘薄膜的第一通孔,露出所述绝缘薄膜;步骤130、在所述非焊盘区,在所述第一通孔的表面形成第二绝缘层,覆盖所述第一通孔、所述绝缘薄膜和所述第一表面;步骤140、在所述非焊盘区,以所述第一通孔作为第一切割道,去除所述第一切割道内的绝缘薄膜以及第二绝缘层,并减薄所述第一切割道内的有机粘合层;步骤150、在所述非焊盘区,沿所述第一切割道,切割至所述基板远离所述第一绝缘层的一面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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