[发明专利]一种半导体变容器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810980459.0 申请日: 2018-08-27
公开(公告)号: CN109326655B 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 刘欢;方孺牛;缪旻;金玉丰 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L29/94 分类号: H01L29/94;H01L27/10;H01L21/82;H01L21/329
代理公司: 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 代理人: 余长江
地址: 100871 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种半导体变容器及其制造方法,该半导体变容器包括具有相对的第一表面和第二表面的衬底、衬底上的深孔、与衬底导电类型相反的第一高掺杂区和相同的第二高掺杂区、衬底的第一表面上的介质层和控制电极;深孔可为盲孔或通孔,填充有绝缘层和导电材料;控制电极位于介质层之上,并且两者的外缘与绝缘层和第一高掺杂区邻接。本发明通过利用两个金属‑氧化物‑半导体结构来实现变容器,使得变容器的可调范围和调制电压可以分别设计优化,具有较好的灵活性且制作工艺简单。
搜索关键词: 一种 半导体 容器 及其 制造 方法
【主权项】:
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