[发明专利]一种黑硅太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810001986.2 申请日: 2018-01-02
公开(公告)号: CN108172657B 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 胡进;蔡赛 申请(专利权)人: 东阳市特意新材料科技有限公司
主分类号: H01L31/074 分类号: H01L31/074;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 322100 浙江省金*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种黑硅太阳能电池及其制备方法,所述黑硅太阳能电池的制备方法包括:n型硅片表面黑硅层的制备;黑硅层表面的钝化处理;硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层的制备;n型硅片背面ZnO/PEI复合插入层的制备;ITO透明导电层的制备;正面电极的制备;背面电极的制备。通过制备硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层,改善复合活性层与黑硅层之间的半导体接触性能,进而提高黑硅太阳能电池的光电转换效率。
搜索关键词: 制备 黑硅太阳能电池 复合活性 黑硅层 硼掺杂 石墨烯 光电转换效率 背面电极 钝化处理 接触性能 正面电极 插入层 半导体 背面 复合
【主权项】:
1.一种黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)n型硅片表面黑硅层的制备;(2)黑硅层表面的钝化处理;(3)硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层的制备,其包括:步骤3a,通过湿法转移法将硼掺杂石墨烯转移至黑硅层表面,步骤3b,接着旋涂Spiro‑OMeTAD溶液,多次重复交替执行所述步骤3a和所述步骤3b,然后进行退火处理,以形成所述硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层;(4)n型硅片背面ZnO/PEI复合插入层的制备;(5)在所述硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层的表面制备ITO透明导电层;(6)正面电极的制备;(7)背面电极的制备。
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  • 林时胜;钟汇凯;李晓强 - 浙江大学
  • 2016-02-05 - 2016-06-29 - H01L31/074
  • 本发明公开了一种基于石墨烯/半导体异质结的多功能发电机,包括半导体衬底、第一电极、第二电极、两块绝缘层、石墨烯;第一电极和第二电极均位于半导体衬底上,且各电极与上述衬底之间均分别被一块绝缘层隔离,石墨烯覆盖于最上方,与第一电极、第二电极以及位于两电极之间的半导体衬底均接触,所述的第一电极、第二电极为功函数不同的金属电极。本发明的石墨烯/半导体异质结多功能发电机能够同时从太阳光和水流的动能之中获取电能,具有实用价值。
  • 一种基于P/N异质结协同消反射性能的硅/二氧化钛三维复合材料及应用-201510997090.0
  • 石刚;李赢;王大伟;倪才华;何飞;迟力峰;吕男 - 江南大学
  • 2015-12-28 - 2016-05-25 - H01L31/074
  • 本发明涉及一种基于P/N异质结协同消反射性能的硅/二氧化钛三维复合材料,依以下方法制备:(1)首先用碱液对硅片进行各向异性刻蚀,在硅片表面形成紧密排列的四方锥形貌;(2)然后将步骤(1)刻蚀后的硅片进行亲水处理,在其表面生长二氧化钛晶种,并置于马弗炉内煅烧;(3)最后将步骤(2)中所得到的表面二氧化钛晶种的硅片置于反应釜中,采用水热法得到的硅/二氧化钛三维复合材料。本发明所涉及的复合材料兼具优异消反射和高效分离光生电荷的能力,可以应用到光催化、光电转化器件和太阳能电池等领域。
  • 背接触式异质结太阳能电池-201610111551.4
  • 孙嵩泉;王杨阳;孙友巍;葛怀庆;马磊;李晨;彭为报 - 普乐新能源(蚌埠)有限公司
  • 2016-02-29 - 2016-05-25 - H01L31/074
  • 背接触式异质结太阳能电池,包括由上到下依次叠层的ITO导电膜、掺杂非晶硅薄膜、P型非晶硅薄膜、N型硅片基板、N型非晶硅层薄膜、掺杂非晶硅薄膜和ITO导电膜,上层的ITO导电膜上表面印刷有正导电栅线,下层的ITO导电膜下表面印刷有背导电栅线,背导电栅线上印刷有封装点,所述的太阳能电池的两侧涂有绝缘涂层,绝缘涂层外有导电胶层,导电胶层与正导电栅线相接触,导电胶层与背导电栅线之间有绝缘槽隔离。本电池在电池周围涂导电胶层,将电池正面电极引到背面,制作工艺简单,而且不会因打孔造成短路,而且由于正面电极只在两侧通过导电胶层引出,在封装时,背面电极与正面电极接触的几率很低,即封装时不易短路。
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