[实用新型]NPN型三极管有效

专利信息
申请号: 201721825396.9 申请日: 2017-12-22
公开(公告)号: CN207587739U 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 冯荣杰;刘东;胡铁刚 申请(专利权)人: 杭州士兰微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/735 分类号: H01L29/735;H01L29/06;H01L21/331
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 310012 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型提供了一种NPN型三极管,自所述N型注入层表面开始并延伸至所述N型外延层内部的P型掺杂区域,所述P型掺杂区域包括第一P型掺杂区域及自所述第一P型掺杂区域表面开始并延伸至所述第一P型掺杂区域内部且超出所述第一P型掺杂区域外侧的第二P型掺杂区域,所述第二P型掺杂区域的掺杂浓度比所述第一P型掺杂区域的掺杂浓度低,由此形成了缓变的掺杂区,减少了电场的集中程度,从而所述第二P型掺杂区域能够补偿所述N型注入层所引起的BVcbo降低问题,同时,可以将所形成的NPN型三极管的电场集中点从表面位置移至底部位置,即移到高压击穿位置,由此可以提高发射极悬空时集电极对基极的击穿电压BVcbo。
搜索关键词: 掺杂 本实用新型 电场 表面位置 底部位置 电场集中 高压击穿 击穿电压 掺杂区 发射极 集电极 浓度比 缓变 延伸 悬空
【主权项】:
1.一种NPN型三极管,其特征在于,所述NPN型三极管包括:P型衬底;位于所述P型衬底上的N型外延层;位于所述N型外延层表面的N型注入层;自所述N型注入层表面开始并延伸至所述N型外延层内部的P型掺杂区域,所述P型掺杂区域包括第一P型掺杂区域及自所述第一P型掺杂区域表面开始并延伸至所述第一P型掺杂区域内部且超出所述第一P型掺杂区域外侧的第二P型掺杂区域,所述第二P型掺杂区域的掺杂浓度比所述第一P型掺杂区域的掺杂浓度低;自所述P型掺杂区域表面开始并延伸至所述P型掺杂区域内部的第一N型掺杂区域;及自所述N型注入层表面开始并延伸至所述N型外延层内部的第二N型掺杂区域。
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