[实用新型]NPN型三极管有效
申请号: | 201721825396.9 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN207587739U | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 冯荣杰;刘东;胡铁刚 | 申请(专利权)人: | 杭州士兰微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/735 | 分类号: | H01L29/735;H01L29/06;H01L21/331 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 310012 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种NPN型三极管,自所述N型注入层表面开始并延伸至所述N型外延层内部的P型掺杂区域,所述P型掺杂区域包括第一P型掺杂区域及自所述第一P型掺杂区域表面开始并延伸至所述第一P型掺杂区域内部且超出所述第一P型掺杂区域外侧的第二P型掺杂区域,所述第二P型掺杂区域的掺杂浓度比所述第一P型掺杂区域的掺杂浓度低,由此形成了缓变的掺杂区,减少了电场的集中程度,从而所述第二P型掺杂区域能够补偿所述N型注入层所引起的BVcbo降低问题,同时,可以将所形成的NPN型三极管的电场集中点从表面位置移至底部位置,即移到高压击穿位置,由此可以提高发射极悬空时集电极对基极的击穿电压BVcbo。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 本实用新型 电场 表面位置 底部位置 电场集中 高压击穿 击穿电压 掺杂区 发射极 集电极 浓度比 缓变 延伸 悬空 | ||
【主权项】:
1.一种NPN型三极管,其特征在于,所述NPN型三极管包括:P型衬底;位于所述P型衬底上的N型外延层;位于所述N型外延层表面的N型注入层;自所述N型注入层表面开始并延伸至所述N型外延层内部的P型掺杂区域,所述P型掺杂区域包括第一P型掺杂区域及自所述第一P型掺杂区域表面开始并延伸至所述第一P型掺杂区域内部且超出所述第一P型掺杂区域外侧的第二P型掺杂区域,所述第二P型掺杂区域的掺杂浓度比所述第一P型掺杂区域的掺杂浓度低;自所述P型掺杂区域表面开始并延伸至所述P型掺杂区域内部的第一N型掺杂区域;及自所述N型注入层表面开始并延伸至所述N型外延层内部的第二N型掺杂区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州士兰微电子股份有限公司,未经杭州士兰微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721825396.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类