[发明专利]晶体管结构和晶体管的制作方法有效
申请号: | 201711076141.1 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN108054214B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 黄北洲 | 申请(专利权)人: | 惠科股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L27/12;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶体管结构和晶体管的制作方法。本发明所述的薄膜晶体管结构包括:源极,漏极,以及源极和漏极之间的有源层;所述有源层包括铟镓锌氧化物框架,所述有源层包括铟镓锌氧化物框架,所述铟镓锌氧化物框架内设置包含铟镓锌氧化物的合成纳米材料。本发明可以提升薄膜晶体管的性能。 | ||
搜索关键词: | 晶体管 结构 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种晶体管,其特征在于,包括:源极,漏极,以及源极和漏极之间的有源层;绝缘层,形成在有源层上;介电层,形成在绝缘层上;栅极,形成在介电层上;钝化层,形成在栅极上;所述有源层包括铟镓锌氧化物框架,所述铟镓锌氧化物框架内设置包含铟镓锌氧化物的合成纳米材料。
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