[发明专利]一种含硫杂环衍生物及其有机发光器件在审
| 申请号： | 201710957167.0 | 申请日： | 2017-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN107556326A | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | 蔡辉;王雪 | 申请（专利权）人： | 长春海谱润斯科技有限公司 |
| 主分类号： | C07D495/20 | 分类号： | C07D495/20;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 130000 吉林省长春市北湖科技*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含硫杂环衍生物及其有机发光器件，涉及有机光电材料技术领域。本发明以螺[环戊二烯并[1,2‑b4,3‑b']二噻吩‑7,9'‑噻吨]10',10'‑二氧化物为主体结构，因硫元素具有较强的缺电子特性，硫砜基团具有良好的电子注入和传输特性，通过合理设计减小分子的三重态单重态能级差，合理调节分子能级，合成新型含硫有机发光材料，可有效提高器件发光效率，具有开启电压低，光色稳定性好、寿命长等优点，在启动电压较低的情况下也具有高的发光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含硫杂环 衍生物 及其 有机 发光 器件 | ||
【主权项】：
一种含硫杂环衍生物，其特征在于，其分子结构通式如下式(Ⅰ)所示：其中：R1～R2可独立地选自氢原子、氰基、取代或未取代的C1～C20的烷基、取代或未取代的C1～C10的烷氧基、取代或未取代的C6～C60芳基、取代或未取代的C10～C60稠环基、或取代或未取代的C5～C60杂环基。
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本发明不需要“多步法”合成路线，一锅法线路简单，利于大规模制备。通过合理的分子设计，利用傅克反应具有反应条件温和、高产率、高选择性、后处理简便、绿色无毒等诸多优点，克服了传统闭环分子合成步骤复杂、后处理有毒、污染较大等问题。不仅适合于实验室的小量合成，也易于实现产业化，应用前景十分广阔。
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其中，Ar1、Ar2独立的选自氢原子、C3～C30的取代或者非取代的咔唑基团、C3～C30取代或者非取代的芳胺基团、C3～C30取代或者非取代的吩噻嗪基团、C3～C30取代或者非取代的吩噁嗪基团、C3～C30取代或者非取代的吩嗪基团、C3～C30取代或者非取代的吖啶基团，Ar1、Ar2不同时为氢。本发明还涉及一种包括至少一层所述双极性化合物作为主体材料的器件和制造所述器件的方法。
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