[发明专利]制造半导体器件的方法在审
| 申请号: | 201710265482.7 | 申请日: | 2017-04-21 |
| 公开(公告)号: | CN107393875A | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
| 发明(设计)人: | 马库斯·布鲁恩鲍尔 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L23/00 | 分类号: | H01L23/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 蔡胜有,苏虹 |
| 地址: | 德国瑙伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种用于制造半导体器件的方法,包括提供晶片,该晶片包括机械均匀的半导体基底。该方法还包括在半导体基底中形成机械结构。在包括半导体基底上的半导体器件的晶片中,半导体基底包括机械结构。在包括半导体基底上的半导体器件的管芯中,半导体基底包括机械结构。 | ||
| 搜索关键词: | 制造 半导体器件 方法 | ||
【主权项】:
一种方法,包括:提供机械均匀的半导体基底;以及在所述基底中形成机械结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710265482.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种BCD工艺中寄生型NPN三极管的制作方法
- 下一篇:一种抗冲击过载电路





