[发明专利]基于c面SiC衬底的c面Ⅲ族氮化物的发光二极管有效

专利信息
申请号: 201710207374.4 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN107068812B 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 许晟瑞;彭若诗;范晓萌;林志宇;刘大为;张进成;孟锡俊;李培咸;牛牧童;马德璞;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/16;H01L33/18;H01L33/20;H01L33/32
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于c面SiC衬底的c面Ⅲ族氮化物的发光二极管,主要解决现有LED生长步骤多,工艺周期长的问题。其自下而上包括:c面SiC衬底层、AlN成核层、发光层和电极,其中AlN成核层由Ⅴ/Ⅲ比为15000‑23000的高Ⅴ/Ⅲ比AlN成核层条纹和Ⅴ/Ⅲ比为800‑1200的低Ⅴ/Ⅲ比AlN成核层条纹交错组成,发光层为一层c面Ⅲ族氮化物薄膜,由N面Ⅲ族氮化物条纹和金属面Ⅲ族氮化物条纹交错组成。该Ⅲ族氮化物采用GaN或InGaN,分别发紫外光和绿光。本发明利用c面Ⅲ族氮化物内的反型畴代替传统LED的量子阱发光,简化了器件结构和制作流程,缩短了工艺周期,可用于照明,显示屏和背光源。
搜索关键词: 基于 sic 衬底 氮化物 发光二极管
【主权项】:
1.一种基于c面SiC衬底的c面Ⅲ族氮化物的发光二极管,包括:c面SiC衬底层、AlN成核层、发光层和电极,其特征在于:AlN成核层由Ⅴ/Ⅲ比为15000‑23000的高Ⅴ/Ⅲ比AlN条纹和Ⅴ/Ⅲ比为800‑1200的低Ⅴ/Ⅲ比AlN条纹交错组成,发光层为一层c面Ⅲ族氮化物薄膜,该氮化物薄膜由N面Ⅲ族氮化物条纹和金属面Ⅲ族氮化物条纹交错组成。
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