[发明专利]像素界定层及其制备方法和应用有效
申请号: | 201710169725.7 | 申请日: | 2017-03-21 |
公开(公告)号: | CN107689421B | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 陈亚文 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 44224 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郑彤;陈凌 |
地址: | 510000 广东省广州市中*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明一种像素界定层及其制备方法和应用,包括如下步骤:S1、获取基板,所述基板具有图形化像素电极;S2、于所述基板上沉积一层负性光阻薄膜;S3、获取光照掩板,所述光照掩板与所述负性光阻薄膜之间设有间隔,所述间隔为50‑200μm;S4、利用所述光照掩板对所述负性光阻薄膜进行曝光,曝光剂量为100‑300mj/cm | ||
搜索关键词: | 像素 界定 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种像素界定层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:/nS1、获取基板,所述基板具有图形化像素电极;/nS2、于所述基板上沉积一层负性光阻薄膜;/nS3、获取光照掩板,所述光照掩板设有遮蔽区域和光照区域,所述光照掩板与所述负性光阻薄膜之间设有间隔,所述间隔为50-200μm;/nS4、利用所述光照掩板对所述负性光阻薄膜进行曝光,过曝曝光剂量为100-300mj/cm
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- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
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H01L51-52 ..器件的零部件
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择