[发明专利]一种提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法有效

专利信息
申请号: 201410554907.2 申请日: 2014-10-17
公开(公告)号: CN104300063A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 韩沈丹 申请(专利权)人: 西安神光安瑞光电科技有限公司
主分类号: H01L33/22 分类号: H01L33/22;H01L33/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 胡乐
地址: 710100 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种提高皇冠型蓝宝石图形化衬底均匀性的套刻方法。其实现步骤包括:(1)在抛光后的衬底表面旋涂光刻胶;(2)选择第一光刻板,用光刻机对涂胶后的衬底表面进行曝光并显影;(3)使用ICP刻蚀显影后的带胶衬底;(4)将刻蚀后的衬底酸洗去胶,甩干;(5)在衬底表面再次旋涂光刻胶;选择第二光刻板,用光刻机对涂胶后的衬底表面进行再次曝光并显影;(6)使用ICP再次对带胶衬底进行刻蚀,得到皇冠型图形衬底;(7)对制得的皇冠型图形化衬底进行化学清洗。本发明通过使用两套不同样式的光刻板并进行两次曝光、显影、刻蚀,解决了最小曝光尺寸小于机台分辨率的问题,提高了图形均匀性及稳定性,以供量产。
搜索关键词: 一种 提高 皇冠 图形 衬底 均匀 方法
【主权项】:
一种提高皇冠型图形化衬底均匀性的套刻方法,其特征在于:采用了两套光刻板,其中第一光刻板为圆面,第一光刻板的直径记为a,第二光刻板为圆环,圆环的内环直径记为b,要求b>a,且b>光刻机的分辨率;该套刻方法主要包括以下步骤:(1)在抛光后的衬底表面旋涂光刻胶;(2)选择第一光刻板,使用光刻机对涂胶后的衬底表面进行曝光并显影;(3)使用ICP刻蚀显影后的带胶衬底,使衬底本体的刻蚀深度达到0.5μm‑1.0μm时停止;(4)将刻蚀后的衬底酸洗去胶,甩干;(5)在衬底表面再次旋涂光刻胶;选择第二光刻板,使第二光刻板与第一光刻板的图形圆心重合,使用光刻机对涂胶后的衬底表面进行再次曝光并显影;(6)使用ICP再次对带胶衬底进行刻蚀,得到目标尺寸的皇冠型图形衬底;(7)对制得的皇冠型图形化衬底进行化学清洗。
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