[发明专利]氮化物半导体发光二极管外延片、器件及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201410056782.0 申请日: 2014-02-19
公开(公告)号: CN103811609A 公开(公告)日: 2014-05-21
发明(设计)人: 闫建昌;王军喜;张韵;丛培沛;孙莉莉;董鹏;田迎冬;李晋闽 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 曹玲柱
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种氮化物半导体发光二极管外延片、器件及其制备方法。该氮化物发光二极管外延片包括:衬底;以及依次沉积于衬底上的氮化物材料的模板层、n型层、量子阱有源区、载流子阻挡层和p型层;其中,p型层中掺杂元素至少包括Mg;载流子阻挡层为含有Al元素的氮化物材料,且除后期由p型层渗入的Mg元素之外,其前期沉积工艺中未掺入Mg元素。本发明通过在量子阱有源区和p型层之间插入合适厚度的非有意掺杂载流子阻挡层,可以有效减少p型层中掺杂剂Mg往量子阱有源区中的扩散效应,从而提高量子阱的辐射复合效率,即有效提高氮化物LED的内量子效率。
搜索关键词: 氮化物 半导体 发光二极管 外延 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种氮化物半导体发光二极管外延片,其特征在于,包括:衬底;以及依次沉积于所述衬底上的氮化物材料的模板层、n型层、量子阱有源区、载流子阻挡层和p型层;其中,所述p型层中掺杂元素至少包括Mg;所述载流子阻挡层为含有Al元素的氮化物材料,且除后期由p型层渗入的Mg元素之外,其前期沉积工艺中未掺入Mg元素。
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