[发明专利]半导体芯片制造中产品上焦距偏移的计量方法和结构有效
申请号: | 201310409824.X | 申请日: | 2013-09-10 |
公开(公告)号: | CN103676497B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | T.A.布鲁纳 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/56;H01L21/66 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种划线板上的焦距监控结构包括光刻特征区域、水平格栅区域和竖直格栅区域,水平格栅区域包括位于光刻特征区域的一侧上的水平格栅,竖直格栅区域包括位于光刻特征区域的相对侧上的竖直格栅。偏振照射束导致光刻特征区域的印刷图像以一种方式朝着水平格栅区域的方向或者朝着竖直格栅区域的方向移动,该方式取决于光致抗蚀剂层相对于曝光工具的透镜的焦距偏移的符号。焦距偏移的大小和符号可被监控以通过测量光刻特征区域的印刷图像的位移提供曝光工具的焦距偏移上的实时反馈。 | ||
搜索关键词: | 半导体 芯片 制造 产品 焦距 偏移 计量 方法 结构 | ||
【主权项】:
一种划线板,包括焦距监控结构,所述焦距监控结构包括多个焦距监控单元,其中所述多个焦距监控单元的每一个包括:光刻特征区域,其整体上对于电磁辐射具有相同的透射系数,所述光刻特征区域包括所述划线板的不透明区域;水平格栅区域,其位于所述光刻特征区域的第一侧上;以及竖直格栅区域,其位于所述光刻特征区域的第二侧上,其中所述第二侧相对于所述光刻特征区域与所述第一侧相对;其中所述多个焦距监控单元沿着所述水平格栅区域中的所述水平格栅的方向周期性排列,所述多个焦距监控单元的第一焦距监控单元的第一水平格栅区域相对于该光刻特征区域的相对位置是在所述多个焦距监控单元的与该第一焦距监控单元相邻的第二焦距监控单元的第二水平格栅区域相对于下一个光刻特征区域的相对位置的相反方向上。
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