[发明专利]一种功率型发光二极管的制作方法有效

专利信息
申请号: 201210361848.8 申请日: 2012-09-25
公开(公告)号: CN103681981A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 朱广敏;郝茂盛;齐胜利;陶淳;潘尧波;张楠;陈诚;陈耀;袁根如;李士涛 申请(专利权)人: 上海蓝光科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/78
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 余明伟
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种功率型发光二极管的制作方法,先于蓝宝石衬底表面制作u-GaN层,并刻蚀该u-GaN层形成由多个走道隔成多个独立的u-GaN单元;于各该u-GaN单元表面溅射周期性的介质层,并将其刻蚀成多个六角阵列排列且具有预设图案的介质层单元;然后沉积LED结构外延层、清理走道、制备电极、背面激光内切、背镀反射镜,最后裂片完成芯片制备。采用较薄的u-GaN层进行晶胞隔离,可以大大减小隔离时对u-GaN层及晶胞侧壁的损伤,制作图形化的介质层可以有效的提高发光二极管的亮度,采用激光内切,不但可以提高LED芯片的出光效率,并且可以大大降低芯片制备过程中的碎片率。
搜索关键词: 一种 功率 发光二极管 制作方法
【主权项】:
一种功率型发光二极管的制作方法,其特征在于,所述制作方法至少包括以下步骤:1)提供一蓝宝石衬底,于所述蓝宝石衬底上制备u‑GaN层;2)刻蚀所述u‑GaN层至所述蓝宝石衬底形成多个走道,以隔出多个相互独立的u‑GaN单元;3)于各该u‑GaN单元上形成介质层;4)对各该介质层进行图案化处理,以在各该u‑GaN单元表面的形成多个周期性排列且具有预设图案的介质层单元;5)于上述结构表面形成发光外延层;6)清除各该走道内的发光外延层,并于所述发光外延层中刻蚀出N电极制备区域,然后制备P电极及N电极,形成多个发光二极管晶胞;7)对所述蓝宝石衬底进行减薄;8)依据各该发光二极管晶胞对所述蓝宝石衬底进行激光内切处理;9)于所述蓝宝石衬底背表面制作背镀反射镜;10)对上述结构进行裂片以获得多个独立的发光二极管晶胞。
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