[发明专利]一种多沟槽终端肖特基器件及其制备方法有效
申请号: | 201210158561.5 | 申请日: | 2012-05-10 |
公开(公告)号: | CN103390654B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 朱江 | 申请(专利权)人: | 朱江 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/06;H01L21/329 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 113200 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明公开了一种多沟槽终端肖特基器件,本发明的半导体器件具有多个沟槽结构的终端,将浮空场限环加入到器件的沟槽终端结构中,同时简化了器件的制造流程。本发明还提供了一种多沟槽终端肖特基器件的制备方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 沟槽 终端 肖特基 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种多沟槽终端肖特基器件,其特征在于:包括:衬底层,为半导体材料;漂移层,为第一传导类型的半导体材料,位于衬底层之上;多个沟槽,位于器件边缘漂移层中,临靠沟槽整个侧壁区域设置有第二传导类型半导体材料,器件边缘沟槽之间的漂移层中设置有第二传导类型半导体材料,第二传导类型半导体材料的结深大于沟槽的深度;绝缘材料,位于沟槽内壁,漂移层表面不设置绝缘材料;肖特基势垒结,位于漂移层表面。
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