[发明专利]光学活性有机羧酸的制造方法无效
| 申请号： | 200980143614.2 | 申请日： | 2009-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN102203047A | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | 久古阳一 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C51/43 | 分类号： | C07C51/43;C07B57/00;C07C51/487;C07C53/134;C07D311/66 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明为在对映异构体的存在摩尔比不等的、光学活性有机羧酸的对映异构体混合物中添加特定量的碱，或者在用碱中和该光学活性有机羧酸的对映异构体混合物后添加特定量的酸，从而将母液中的有机羧酸盐与以晶体形式析出的有机羧酸分离这种简便的方法，其能够获得对映异构体过量率提高了的光学活性有机羧酸。本发明提供一种由对映异构体的存在摩尔比不等的光学活性有机羧酸的对映异构体混合物得到对映异构体过量率提高了的光学活性有机羧酸的简便的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 活性 有机 羧酸 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学活性有机羧酸的制造方法，其为从对映异构体的存在摩尔比不等的、光学活性有机羧酸的对映异构体混合物中分取过量存在的对映异构体的方法，该方法如下：作为第1中和工序，用碱中和全部量的该光学活性有机羧酸的对映异构体混合物，从而制备有机羧酸盐的对映异构体混合物；然后，作为第2中和工序，在第1中和工序中得到的有机羧酸盐的对映异构体混合物中添加酸，该酸的量为由该对映异构体中存在摩尔比少的对映异构体的摩尔数的2倍量算出的摩尔数的0.9～1.1倍量，从而制备添加酸所得的有机羧酸和未中和的有机羧酸盐；接着，通过将该第2中和工序中得到的、有机羧酸与未中和的有机羧酸盐分离，从而分取未中和的有机羧酸盐中的过量存在的对映异构体。
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