[发明专利]Ag类反射膜及其制作方法无效
| 申请号： | 200510121686.0 | 申请日： | 2005-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1818136A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 浮岛祯之;石桥晓;斋藤茂;金丰 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科;爱发科材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C30/00 | 分类号： | C23C30/00;C22C5/06;C23C14/14;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使在苛刻的耐蚀性试验中，反射率也不会劣化的Ag类合金膜及其制作方法。在纯Ag膜或AgAu类、AgAuSn类、AgPd类、AgPdCu类合金膜上，层压由选自ITO、ZnO、IZO以及SnO2的金属氧化物、Si、Al、Ti以及Ta的氧化物、和Si、Al、Ti以及Ta的氮化物的材料构成的膜厚为3～50nm的膜作为极薄的覆盖层，形成2层膜。 | ||
| 搜索关键词： | ag 反射 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1、Ag类反射膜，特征在于：具有在Ag类膜上层压极薄的覆盖层形成的层压膜。
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