[发明专利]防蚀显影组合物有效
| 申请号： | 03147049.1 | 申请日： | 2003-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN1570772A | 公开（公告）日： | 2005-01-26 |
| 发明（设计）人： | 松原将英;丸山岳人;樱井直人 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郭建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的防蚀显影组合物含有：含1－10％重量的有机碱的水溶液，1－10％重量的糖化合物和1－10％重量的多元醇。该防蚀显影组合物在防止金属腐蚀和显影性能方面具有优异的特性，并适用于半导体元件和液晶显示器件的生产。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 组合 | ||
【主权项】：
1、一种防蚀显影组合物，该组合物包括含有1-10％重量的有机碱，1-10％重量的糖化合物和1-10％重量的多元醇的水溶液。
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- 2022-09-28 - 2022-11-25 - G03F7/32
- 本发明涉及显影液技术领域，具体涉及一种芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液及其制备方法，该显影液包含四甲基氢氧化铵和水，该显影液还包含复合表面活性剂和复合凝胶微球；所述复合凝胶微球占所述显影液的质量百分数为0.3‑0.6％；所述显影液中，四甲基氢氧化铵的浓度为2.1‑2.8wt％。本发明中的显影液，具有较低的表面张力，在对产品进行显影后，显影液几乎不会附着在产品表面，从而方便后续的清水冲洗，使得产品上不会形成斑点，提升了产品的品质；而且，该显影液在使用后，产生的废液可以在生化处理时加快微生物的富集，从而提高了降解效率，使得显影液废液不会对环境造成影响，符合环保要求。
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