专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体清洗剂及其制备方法-CN202211074286.9有效
  • 童晨;吴海燕;陈桂红;孙元;韩成强 - 昆山晶科微电子材料有限公司
  • 2022-09-03 - 2023-08-29 - C11D1/83
  • 本申请涉及半导体清洗技术领域,具体公开了一种半导体清洗剂及其制备方法,所述半导体清洗剂,包括A组分和B组分;所述A组分包括以下重量份原料:20‑30份有机酸、2‑8份络合剂、8‑12份表面活性剂、11‑15份助剂、80‑100份水;所述B组分包括以下重量份原料:10‑20份碱性物质、5‑8份助溶剂、100‑120份水;上述方案配方简单、配比严谨,且绿色环保;本申请还提出了一种半导体清洗剂的制备方法,按配方,制得A组分与B组分,并将A组分与B组分分别封装,即得半导体清洗剂,制备方法简单,成本低,安全环保,适合工业化生产,所获得的半导体清洗剂具有优异的清洗效果。
  • 一种半导体洗剂及其制备方法
  • [发明专利]一种用于飞机雷电试验的C波发生装置-CN202310498670.X有效
  • 段泽民;司晓亮;黄业园;李志宝;童晨 - 合肥航太电物理技术有限公司
  • 2023-05-06 - 2023-07-28 - G01R1/28
  • 本发明涉及雷电效应试验设备领域,公开了一种用于飞机雷电试验的C波发生装置,包括雷电流C波储能装置、能量变换系统和测控系统;所述能量变换系统包括滤波模块和能量变换模块;所述能量变换模块包括若干个电子器件以及辅助连接机构;所述测控系统包括测量装置和控制装置;本发明巧妙得运用了可控开关管的动作特性,利用续流电感和负载上的电流来调节开关管的开启/关断状态,避免了对市电进行全桥整流和复杂的LC多级网络,使得实现雷电流C波的连续注入更为方便、安全,同时降低了电容器的充电电压从而减小了试验的风险性,且对各电子器件进行电连接时更加便捷、稳定,且便于调节各电子器件之间的电路连接关系以及电子器件的更换。
  • 一种用于飞机雷电试验发生装置
  • [发明专利]一种半导体用显影液及其制备方法-CN202310101517.9在审
  • 吴海燕;陈桂红;童晨;孙元;韩成强 - 昆山晶科微电子材料有限公司
  • 2023-02-13 - 2023-06-13 - G03F7/32
  • 本发明公开了一种半导体用显影液及其制备方法,涉及显影液的技术领域。半导体用显影液包括:碱源1‑15份、弱酸促进剂0.2‑3份、非离子表面活性剂0.1‑1份和水90‑150份,碱源包括四乙基氢氧化铵或四丙基氢氧化鏻中的至少一种,弱酸促进剂包括聚丙烯酸、柠檬酸或均苯四甲酸中的至少一种。其制备方法包括:将碱源、非离子表面活性剂和水混合均匀,得到分散物;在搅拌下,将弱酸促进剂加入分散物中,搅拌均匀后,得到半导体用显影液。本申请减少了显影液中的金属离子的含量,有助于改善显影液中的金属离子导致的金属污染问题,而且,有助于光刻胶在整个显影过程中保持相对平稳的溶解速率,降低废品率,提高产品性能。
  • 一种半导体显影液及其制备方法
  • [发明专利]铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法-CN202310028566.4在审
  • 童晨;吴海燕;陈桂红;孙元;韩成强 - 昆山晶科微电子材料有限公司
  • 2023-01-09 - 2023-05-26 - C23F1/26
  • 本申请公开铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法,涉及蚀刻液领域。所述铬蚀刻液按重量份包括硝酸铈铵10‑45份、非氧化性酸2‑8份、过氧化氢3‑12份、稳定剂1‑3份、蚀刻抛光剂0.5‑1.5份、消泡剂0.2‑0.7份、去离子水50‑90份。所述铬蚀刻液的制备方法包括:将硝酸铈铵加入去离子水中充分溶解混匀,加入非氧化性酸、过氧化氢以及稳定剂,继续混合均匀,得到预混物A;将蚀刻抛光剂、消泡剂加入去离子水中,充分混合均匀,得到预混物B;将预混物A加入到预混物B中,混合均匀后,使用滤网进行过滤,即得到本发明提供的铬蚀刻液。本申请能够有效提高蚀刻反应速率,蚀刻后衬底表面平整光亮,提升了蚀刻质量,并且能够实现铬蚀刻液的回收再利用。
  • 蚀刻制备方法回收
  • [发明专利]一种半导体用ITO蚀刻液生产装置-CN202310170870.2在审
  • 吴海燕;陈桂红;童晨;孙元;韩成强 - 昆山晶科微电子材料有限公司
  • 2023-02-27 - 2023-05-05 - B01F21/10
  • 本申请涉及一种半导体用ITO蚀刻液生产装置,其包括配制罐、用于承装盐酸溶液的混料罐、用于将配制罐内的液体向混料罐内输送的输送泵;所述配制罐设置有用于向其内部添加纯水和三氯化铁固体物料的加料口;所述配制罐的内侧壁设置有用于承接三氯化铁固体物料的承接网板;所述配制罐转动设置有转动轴,所述转动轴设置有碾压板,所述碾压板的其中一侧的下表面与承接网板的上表面抵接,另一侧沿转动轴的转动方向延伸并向上倾斜设置;所述配制罐设置有用于驱动转动轴转动的驱动件;所述输送泵的进液端与配制罐相连,出液端与混料罐相连。倾斜的碾压板可将板结的三氯化铁固体碾碎,以增大三氯化铁与纯水的接触面积,从而可加快三氯化铁的溶解速度。
  • 一种半导体ito蚀刻生产装置
  • [发明专利]一种基于人员行为辨识系统的监控装置-CN202310095294.X在审
  • 潘政;童晨;黄东东;陶国元;曾长轩 - 国网浙江省电力有限公司嵊泗县供电公司
  • 2023-01-31 - 2023-05-02 - H04N23/695
  • 本发明公开了一种基于人员行为辨识系统的监控装置,属于监控装置技术领域,现有的监控装置单一方向转动调节转角来增加监控范围容易出现监控死角的问题,本发明包括筒状座、半球壳状的透明罩,透明罩内侧安装有球形座,球形座上贯穿安装有摄像模块;筒状座内安装有驱动部,该驱动部包括第一驱动单元和第二驱动单元,第一驱动单元和第二驱动单元均控制球形座转动,且两个转动轴线垂直交于球形座球心;筒状座另一侧设有设备室,该设备室内安装有控制模块,通过以上结构实现控制摄像模块朝向半球壳状的透明罩以任意角度调节的功能,相较于传统的单一固定转轴旋转调节摄像角度更加宽广,避免了监控死角的出现,且结构简单,制造成本低廉,适合推广。
  • 一种基于人员行为辨识系统监控装置

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