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- [发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法-CN201510542373.6有效
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柴崎祐一
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株式会社尼康
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2010-08-24
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2019-04-05
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G03F7/20
- 本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(601～604)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A0)内，使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1)，并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果，据以修正第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差、以及四个读头(601～604)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。
- 曝光方法装置以及元件制造
- [发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法-CN201510541459.7有效
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柴崎祐一
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株式会社尼康
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2010-08-24
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2018-10-12
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G03F7/20
- 本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(601～604)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A0)内，使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1)，并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果，据以修正第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差、以及四个读头(601～604)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。
- 曝光方法装置以及元件制造
- [发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法-CN201510542536.0有效
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柴崎祐一
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株式会社尼康
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2010-08-24
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2018-01-30
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G03F7/20
- 本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(601～604)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A0)内，使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1)，并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果，据以修正第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差、以及四个读头(601～604)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。
- 曝光方法装置以及元件制造
- [发明专利]曝光系统-CN201680022373.6在审
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柴崎祐一
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株式会社尼康
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2016-04-15
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2018-01-02
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H01L21/027
- 本发明的曝光系统(1000)具备第1行腔室(3001～3003)，在+X侧与设置于地面F上的C/D(9000)相邻而配置；第2行腔室，其等与第1行腔室对向而配置在‑Y侧；及第1控制架(200)，在‑X侧与第2行腔室相邻，且与C/D(9000)对向而配置在‑Y侧。在至少一部分的多个腔室的内部，分别形成有进行曝光的曝光室，第1控制架(200)将自地面(F)的下方供应来的公用能源分配至第1行及第2行腔室的各个。
- 曝光系统
- [发明专利]曝光方法、曝光装置、及组件制造方法-CN201410748646.8有效
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柴崎祐一
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株式会社尼康
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2007-08-31
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2017-07-07
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G03F7/20
- 通过驱动装置，根据用于测量晶片台WTB在Y轴方向位置信息的编码器(64)的测量值、与该测量时以干涉仪(16,43A及43B)所测量的晶片台WTB在非测量方向(例如，Z、及θz及θx方向)的位置信息所对应的已知修正信息，将晶片台WTB驱动于Y轴方向。也即，根据用于修正因读头往非测量方向与标尺的相对位移引起的编码器测量误差的修正信息修正后的编码器测量值，将移动体驱动于Y轴方向。因此，能在不受读头与标尺间的要测量方向(测量方向)以外的相对运动影响的情形下，一边以编码器测量位置、一边以良好精度将晶片台WTB(移动体)驱动于所希望的方向。
- 曝光方法装置组件制造
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