专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于用于增材制造的设备的照射系统-CN201680013723.2有效
  • J·鲍尔;B·H·伦茨;F·P·维斯特 - 通快激光与系统工程有限公司
  • 2016-03-01 - 2019-12-20 - H01S3/23
  • 一种用于设备(1)的照射系统(3),所述设备用于基于激光的增材制造,所述照射系统具有第一激光(13A)的第一源(13)和第二激光(15A)的第二源(15),其中,第二激光(15A)的品质高于第一激光照射系统(3)还具有用于在设备(1)的制造空间(5)内部聚焦第一激光(13A)和第二激光(13B)的共同的扫描仪光学器件(21)以及导引系统,所述导引系统具有用于将第一激光(13A)从第一源(13)导引至扫描仪光学器件(21)的第一路径(13A′)并且具有用于将第二激光(15A)从第二源(15)导引至扫描仪光学器件(21)的第二路经(15A′),其中,导引系统具有用于将第一路径(13A′)的路径与第二路经(15A′)的路径叠加的组合装置(19)。
  • 用于制造设备照射系统
  • [发明专利]立体分离器-CN201380009010.5有效
  • J·M·巴尔特;R·T·赫利特;S·M·弗兰克 - 茵德尔医疗有限公司
  • 2013-04-15 - 2017-11-07 - G02B27/10
  • 根据某些实施方案,一种系统包括分离器组,其中每个分离器组包括第一分离器模块和与所述第一分离器模块对齐的第二分离器模块。所述第一分离器模块接收沿着第一光学路径穿行的第一。所述第一分离器模块将所述第一分离成沿着所述第一光学路径传输的第一输出和沿着反射射路径传输到所述第二分离器模块的第一分离。所述第二分离器模块接收所述第一分离。所述第二分离器模块将所述第一分离分离成大体平行于所述反射射路径传输的第二输出和大体垂直于所述反射射路径传输的第二分离
  • 立体分离器
  • [发明专利]离子注入装置、离子注入方法及测量装置-CN201510477653.3有效
  • 佐野信;月原光国;佐佐木玄;稻田耕二 - 住友重机械离子技术有限公司
  • 2015-08-06 - 2021-03-26 - H01J37/317
  • 本发明提供一种离子注入装置、离子注入方法及测量装置,其课题在于高精度地测量具有规定轨道的束成分。本发明的离子注入装置具备:偏转装置(42),使通过前段路径(P1)的离子偏转,且向晶片(40)射出以便通过后段路径(P2);过滤狭缝(52),位于偏转装置(42)与晶片(40)之间,局部屏蔽在后段路径(P2)中行进的,以供具有规定轨道的束成分向晶片(40)通过;剂量杯(50),位于偏转装置(42)与过滤狭缝(52)之间,且测量出从偏转装置(42)射出的一部分以作为电流;及轨道限制机构(60),位于偏转装置(42)与剂量杯(50)之间,防止从偏转装置(42)射出而朝向剂量杯(50)的中具有脱离规定轨道的轨道的束成分入射到剂量杯(50)的测量区域。
  • 离子注入装置方法测量
  • [发明专利]具有偏通路测量电极的电离室-CN97120425.X无效
  • 乔纳森·Y·亚奥 - 西门子医疗系统公司
  • 1997-10-14 - 1998-05-06 - H01J47/02
  • 一种用来监测辐射的电离室,包括一个室体,具有主通路和一组与主通路相邻的次小室。主通路穿过整个室体。优选实施例中,大面积测量电极和小面积测量电极组都与主通路同轴。而且,每个次小室包括测量电极。由于进入次小室的部分辐射不穿过电离室,故不会损害治疗,从而,小室内的测量电极可以具有一定的尺寸和形状,使信号强度达到最大。
  • 具有通路测量电极电离室
  • [发明专利]用于借助激光切割工件的方法和激光加工设备-CN202210951349.8在审
  • J·林德;N·韦肯曼 - 普雷茨特两合公司
  • 2022-08-09 - 2023-02-17 - B23K26/38
  • 本发明涉及一种用于借助激光切割工件的方法,所述方法包括:通过束成形元件将所述激光划分为初级和至少一个次级;和使所述初级和所述次级沿着切割路径射入,以便构造切缝,其中,所述次级跟随所述初级,其中,根据至少一个工艺参数调整下述划分参数中的至少一个划分参数,所述划分参数包括:所述次级的数量、所述初级的和/或所述次级的焦点位置、所述初级的和/或所述次级的焦点直径、所述初级与所述至少一个次级之间的功率分布和所述初级与所述至少一个次级之间的间距
  • 用于借助激光切割工件方法加工设备
  • [发明专利]用于确定输入射簇的相位的方法-CN201780035371.5有效
  • 马丁·贝尔茨 - 马丁·贝尔茨
  • 2017-06-01 - 2021-01-29 - G01B9/02
  • 本申请提供一种用于以无参考方式确定输入射簇(110、Ein)的相位的方法。在所述方法中,具有多道输入射的输入射簇(110、A)分成主簇(112、E1)和比较簇(114、E2),使得每道输入射分成主簇(112、E1)的主和比较簇(114、E2)的比较簇(112、E1)沿第一干涉仪臂传播,并且比较簇(114、E2)沿第二干涉仪臂传播。将传播的主簇(112、E1)和传播的比较簇(114、E2)叠加以形成具有多道干涉的干涉簇。沿第一干涉仪臂和第二干涉仪臂传播如此实现,使得干涉簇中的至少一道干涉配备有输入射簇(110、Ein)的第一输入射的传播的主簇(112、E1)的主与配备有输入射簇(110、Ein)的第二输入射的传播的比较簇(114、E2)的比较的叠加,第二输入射不同于第一输入射
  • 用于确定输入射束簇相位方法
  • [发明专利]光发射设备和用于发射光的方法-CN202080024115.8在审
  • S·赖斯;H·施佩希特;G·皮拉德;M·埃德尔;S·皮克 - 罗伯特·博世有限公司
  • 2020-02-18 - 2021-11-05 - G02B19/00
  • 本发明涉及一种光发射设备(100;200;300),所述光发射设备具有:激光装置(110;210;310),所述激光装置构造用于发射多个激光,其中,所述激光横截面的椭圆率至少部分地彼此不同;束成形装置(120;220;320),所述束成形装置被引入到所述激光中的至少一个激光路径中,并且所述束成形装置构造用于使所述激光横截面的椭圆率彼此适配;组合装置(130;230;330),所述组合装置构造用于,在通过所述束成形装置(120;220;320)对所述横截面的椭圆率进行适配之后,将所述激光组合成总光束。
  • 发射设备用于方法
  • [发明专利]用于方向可变的喷淋头的喷淋头产生装置-CN202111441416.3在审
  • U·金勒;M·斯克里普斯基 - 汉斯格罗欧洲公司
  • 2021-11-30 - 2022-06-03 - B05B1/18
  • 本发明涉及喷淋头产生装置,喷淋头产生装置具有壳体(1)和引导机构,其中壳体具有流体输送机构(2)和至少一个在出口侧的射出口(3),所输送的喷淋头流体从所述壳体中穿过射出口作为具有平行于或倾斜于壳体射出方向(GA)的主方向(SH)的喷淋头(4)来流出,并且引导机构被设立用于周期性地改变喷淋头主方向。根据发明,引导机构包括在壳体(1)中形成的、环形地围绕着射出口(3)伸展的环绕轨道(5)和以能环绕运动的方式布置在环绕轨道上的引导单元(6),其中穿过射出口从壳体中射出的喷淋头(4)的主方向(SH)根据引导单元的环绕轨道位置而变化。
  • 用于方向可变喷淋头射束产生装置
  • [发明专利]描绘方法及多描绘装置-CN202010660659.5有效
  • 松本裕史 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2020-07-10 - 2023-03-21 - G03F7/20
  • 实施方式涉及多描绘方法以及多描绘装置。多描绘方法具备:形成对基板进行多重描绘的多阵列的工序;针对每个所述描绘,对将所述基板上的区域分割而得到的多个子条纹区域的每一个,分配将所述阵列分割而得到的所述子阵列的工序;针对每个所述子阵列,计算应用于子阵列内的各射的照射时间调制率的工序;对于与相互重叠的所述子条纹区域的组分别对应的所述子阵列,基于所述子阵列内的的照射时间调制度,对每个所述子阵列计算权重并分配的工序;及将分配给各所述子阵列的权重与所述子阵列内的各射的照射时间相乘,描绘各所述子条纹区域,对各所述子条纹区域进行多重描绘的工序。
  • 多射束描绘方法装置

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