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[实用新型]适用于键合基板的原子层沉积设备-CN202122771842.5有效
发明人： 林俊成 -专利权人：天虹科技股份有限公司
申请日： 2021-11-12 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型为一种适用于键合基板的原子层沉积设备，主要包括一反应腔体、一承载盘、一遮挡机构及一扩散单元，其中承载盘及扩散单元位于反应腔体的容置空间内。遮挡机构包括一连接杆及一遮挡板，其中遮挡板位于容置空间内并面对承载盘，而连接杆则穿过反应腔体并连接遮挡板。承载盘用以承载至少一键合基板，并带动承载的键合基板相对于遮挡机构位移，使得遮挡机构的遮挡板接触键合基板的上表面。当遮挡板接触键合基板的上表面时，扩散单元会位于键合基板的周围，并朝键合基板的侧表面输出前驱物，以在键合基板的侧表面上形成保护层。
适用于键合基板原子沉积设备

[实用新型]晶圆键合机构-CN202122914272.0有效
发明人： 林俊成;张容华;张茂展 -专利权人：天虹科技股份有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01L21/603 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆键合机构，包括一载台、三个第一对准单元、三个第二对准单元、一压合板及两个平边对准单元。载台的承载面具有一放置区用以放置一第一晶圆，其中第一对准单元、第二对准单元及平边对准单元设置在放置区周围。第一对准单元用以定位第一晶圆，并承载一第二晶圆。第二对准单元用以定位第二晶圆，而平边对准单元则用以接触第一及第二晶圆的平边，以对准第一晶圆及第二晶圆的角度。压合板面对载台的承载面，并用以压合承载面上经过对位的第一及第二晶圆，而平边对准单元则会随着压合板相对于载台升降。
晶圆键合机构

[发明专利]半导体装置以及半导体装置制造方法-CN201710664688.7有效
发明人： 林俊成;施应庆;王卜;余振华 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01L23/498 文献下载
摘要：本揭露提供一种半导体装置以及半导体装置制造方法。所述半导体装置包含：底部封装，其中在导体与贯穿通路之间的接触表面积大体上等于所述贯穿通路的横截面积，且所述底部封装包含：模塑料；贯穿通路，其穿透所述模塑料；裸片，其模制在所述模塑料中；和导体，其在所述贯穿通路上。本揭露还揭示一种制造半导体装置的相关联方法。
半导体装置以及制造方法

[发明专利]研磨元件、研磨轮及使用研磨轮制造半导体封装的方法-CN201710723477.6有效
发明人：茅一超;张进传;林俊成;张文华 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-08-22 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：提供一种安装在研磨轮上的研磨元件以及一种含有所述研磨元件的研磨轮用于进行研磨。所述研磨元件包括研磨齿，且所述研磨齿包含研磨材料，所述研磨材料具有框架结构以及分布在所述框架结构中的孔隙。所述框架结构包含粘合材料及由所述粘合材料粘合的磨料微粒。所述孔隙的孔径大于40微米但小于70微米。还提供一种使用所述研磨轮制造半导体封装的方法。
研磨元件使用制造半导体封装方法

[发明专利]接口自动化开发的方法和装置-CN202210040625.5在审
发明人：蔡科;黄泽阳;吕书径;冯敏;唐剑川;郑燕瑜;陈艳琳;池冰晴;李霞;张惠婷;朱幸平;陈国麟;林嵩;陈鹏;蔡腾腾;林紫恒;郑煜昕;林俊成 -专利权人：中国建设银行股份有限公司
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： G06F8/71 文献下载
摘要：本发明公开了一种接口自动化开发的方法和装置，涉及计算机技术领域。该方法的一具体实施方式包括：获取根据接口调用方系统和接口服务方系统的约定生成的接口设计文档和数据库设计文档；根据所述接口设计文档生成接口服务配置文件，根据所述数据库设计文档生成数据库配置文件；根据所述接口服务配置文件和所述数据库配置文件生成接口代码；在所述接口代码中集成所述接口调用方系统和所述接口服务方系统以完成接口开发，其中，所述接口调用方系统和所述接口服务方系统通过订阅接口的方式获取接口的更新消息。该实施方式能够保证双方系统接口版本一致，且不需要进行接口联调，提高了接口开发效率和接口质量。
接口自动化开发方法装置

[发明专利]可减少粉末沾黏的粉末原子层沉积设备-CN202111145311.3在审
发明人： 林俊成 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种可减少粉末沾黏的粉末原子层沉积设备，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元，其中驱动单元经由轴封装置连接真空腔体，并带动真空腔体转动。真空腔体包括一腔体及一盖体，其中盖体包括一内表面、一底面及一第一环形斜面，底面通过第一环形斜面连接内表面，以在内表面上形成一凹槽。盖体连接腔体时，盖体上的凹槽会与腔体的空间形成一特殊形状的反应空间，并可避免在进行原子层沉积的过程中，造成粉末沾黏在腔体或盖体的内表面。
减少粉末原子沉积设备

[实用新型]一种异形光学元件光轴定位加工装置-CN202123113164.X有效
发明人：陈小雄;林俊成;郑文杰 -专利权人：山东申华光学科技有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种异形光学元件光轴定位加工装置，属于异形光学元件加工技术领域，其技术方案要点包括加工台，所述加工台上端面的中部固定安装有放置台，所述放置台的上端面嵌入安装有激光定位灯，所述加工台上端面固定安装有三个均匀分布的支撑台，三个所述支撑台的上端面均开设有多个限位槽；从而通过将加工台安装在异形光学元件的加工设备上，通过激光定位灯的光束通过异形光学元件，调整异形光学元件的位置，使其中心部分与激光定位灯的光束位于同一纵轴，使得电推杆推动夹板沿着滑槽移动，促使夹板推动夹头向异形光学元件移动，从而达到将异形光学元件进行定心夹持，便于对异形光学元件光在轴定位加工。
一种异形光学元件光轴定位加工装置

[实用新型]一种用于加工激光器件的切割装置-CN202122986634.7有效
发明人：陈小雄;林俊成;郑文杰 -专利权人：山东申华光学科技有限公司
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B23K26/38 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于加工激光器件的切割装置，属于激光器件加工技术领域，其技术方案要点包括操作台，操作台的上方开设有横槽，横槽的内部滑动连接有L型架，L型架的顶端开设有纵槽，纵槽的内部滑动连接有滑块，滑块的下端从上至下依次固定连接有升降气缸和安装架，安装架的内部设置有激光器件本体，激光器件本体的下端安装有激光切割头，操作台上端面的左右两侧均固定连接有L型座，启动驱动气缸，便于夹持板固定夹持待加工件，保证加工件在切割时不会晃动，提高了切割质量，启动纵调节气缸，方便激光切割头前后移动切割加工件，启动横调节气缸，提高切割装置的使用性能、且效率和切割质量。
一种用于加工激光器件切割装置

[实用新型]一种自调节光学器件定位夹持防护装置-CN202122993388.8有效
发明人：陈小雄;林俊成;郑文杰 -专利权人：山东申华光学科技有限公司
申请日： 2021-12-01 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自调节光学器件定位夹持防护装置，属于光学器件相关技术领域，其技术方案要点包括壳体，壳体的下端面固定连接有防滑支座，壳体的上端面外侧安装有防护外框，壳体的上端面固定连接有多个弹簧，多个弹簧的上端面固定连接有与防护外框相匹配的缓冲防护板，缓冲防护板的上端面贯穿开设有与第一开口相匹配的第二开口；壳体的左侧安装有电机，两个支撑柱相对的一端均安装有夹持件，从而对光学器件夹持固定加工时方便对意外掉落的光学器件起到防止飞出装置外，避免飞出掉落至地面造成光学器件损坏，并且方便对意外掉落的光学器件起到缓冲防护作用，降低了加工过程中光学器件意外掉落时造成的损坏程度。
一种调节光学器件定位夹持防护装置

[实用新型]一种高品质光学镜片生产加工用镀膜装置-CN202122951390.9有效
发明人：陈小雄;林俊成;郑文杰 -专利权人：山东申华光学科技有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高品质光学镜片生产加工用镀膜装置，属于镜片镀膜技术领域，其技术方案要点包括本体，所述本体的内部左右两侧均设置有安装板，两个所述安装板相对的一侧均安装有镀膜机，两个所述安装板相背的一侧均固定连接有两个上下分布的滑块，所述本体的内部左右两侧均固定连接有与滑块相匹配的滑轨；夹持机构，所述夹持机构设置于本体的内部，用于夹持光学镜片，镀膜机与外部电源连接，通过夹持机构将光学镜片夹持，然后同时启动两个镀膜机，对光学镜片的两面同时进行镀膜，从而通过夹持机构与两个镀膜机的设置，使得装置在使用时，能对光学镜片的两面同时进行镀膜，提高了镀膜效率，加快了工作速度。
一种品质光学镜片生产工用镀膜装置

[实用新型]一种光学镀膜机镀膜承载装置-CN202122951518.1有效
发明人：陈小雄;林俊成;郑文杰 -专利权人：山东申华光学科技有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光学镀膜机镀膜承载装置，属于光学镀膜机技术领域，其技术方案要点包括承载下片，所述承载下片的上端面开设有多个均匀分布的放置槽，所述承载下片的上方设置有与承载下片相匹配的上片，所述上片的上端面贯穿开设有多个与放置槽相匹配的通孔，所述上片的上方设置有防护盖板，所述防护盖板的下端面开设有多个导流槽，将上片放置在放置槽的上端面，接着可将承载下片与上片放置在镀膜机内开始镀膜，镀膜完成后可将防护盖板放置在上片的上端面，再将防护盖板与上片和承载下片之间固定，进而可直接将其放置在清洗池内清洗，清洗后进入通孔和放置槽内的水可由导流槽流出，进而提高了装置的实用性。
一种光学镀膜承载装置

[实用新型]可减少前驱物沉积的原子层沉积设备-CN202022852920.X有效
发明人： 林俊成;郭大豪 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型是一种可减少前驱物沉积的原子层沉积设备，包括腔体、承载装置、遮蔽件、至少一进气口及至少一抽气口，其中承载装置与遮蔽件位于腔体的容置空间内。遮蔽件用以遮挡腔体的部分内表面，而进气口则流体连接腔体的容置空间。在原子层沉积制程中，气体可由进气口通入腔体的内表面与遮蔽件之间，以避免前驱物进入腔体与遮蔽件之间的空间。抽气口可抽离未与基材反应的前驱物，并可减少前驱物残留在腔体的内表面，并降低腔体的清洁周期及提升产品良率。
减少前驱沉积原子设备

[实用新型]遮蔽装置及具有遮蔽装置的沉积设备-CN202121454608.3有效
发明人： 林俊成;沈祐德 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型提供一种具有遮蔽装置的沉积设备，主要包括一反应腔体、一承载盘及一遮蔽装置，其中部分遮蔽装置及承载盘位于反应腔体内。遮蔽装置包括两个遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接并驱动两个遮蔽板朝相反方向摆动。两个遮蔽板分别包括一彼此面对的侧面，其中两个侧面分别设置一凹部及一凸部。在进行沉积制程时，驱动装置带动两个遮蔽板相互远离，并切换到开启状态。在进行清洁制程时，驱动装置带动两个遮蔽板相互靠近，切换为遮蔽状态，其中一个遮蔽板的凸部会进入另一个遮蔽板的凹部，并可有效的遮蔽承载盘。
遮蔽装置具有沉积设备

[实用新型]开合式遮蔽构件及具有开合式遮蔽构件的薄膜沉积装置-CN202121454781.3有效
发明人： 林俊成;沈祐德 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型提供一种具有开合式遮蔽构件的薄膜沉积装置，主要包括一反应腔体、一承载盘及一开合式遮蔽构件，其中部分开合式遮蔽构件及承载盘位于反应腔体内。开合式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接第一遮蔽板及第二遮蔽板，并用以驱动第一遮蔽板及第二遮蔽板朝相反方向摆动。在进行沉积制程时，驱动装置会带动第一及第二遮蔽板相互远离，并切换到开启状态。在进行清洁制程时，驱动装置则会带动第一及第二遮蔽板相互靠近，并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘，避免在清洁薄膜沉积装置的过程中污染承载盘。
合式遮蔽构件具有薄膜沉积装置

[发明专利]喷头组件与原子层沉积设备-CN202011329325.6有效
发明人： 林俊成;易锦良;许雲齐 -专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
申请日： 2020-11-24 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开一种喷头组件与原子层沉积设备。所述原子层沉积设备的喷头组件用以喷洒反应前驱物至基板载台所承载的基板上，以实现原子层沉积制程。所述喷头组件包括第一梯形柱体部件、第二梯形柱体部件与柱体部件，第一梯形柱体部件透过其第一底边与第二梯形柱体部件的第二顶边彼此连接，以及第二梯形柱体部件的第二底边与柱体部件的柱体顶边彼此连接。所述第一梯形柱体部件具有第一底边尺径距离，第二梯形柱体部件具有第二垂直距离，以及柱体部件具有柱体垂直距离，柱体垂直距离与第二垂直距离的比值为大于或等于1.2，以及第二垂直距离与柱体垂直距离的加总小于第一底边尺径距离。透过上述设计，所述喷头组件改善反应前驱物喷洒到基板的均匀度。
喷头组件原子沉积设备