专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]使载体的磨损减轻的硅片的研磨方法及用于其的研磨液-CN201980061054.X在审
  • 山口隼人;棚次悠介;石水英一郎 - 日产化学株式会社
  • 2019-09-20 - 2021-04-23 - H01L21/304
  • 提供研磨方法,其为采用使用了保持着硅片的载体的研磨装置进行该硅片的研磨的方法,可减小载体的磨损。研磨方法,其中,所述研磨装置中使用的研磨液以0.1质量%~5质量%的二氧化硅浓度包含二氧化硅粒子,所述二氧化硅粒子包含二氧化硅粒子(A)和二氧化硅粒子(B),所述二氧化硅粒子(A)的采用BET法所测定的平均一次粒径为4nm~30nm的粒径,将通过采用电子束得到的透射投影像求出的长轴的平均粒径设为(X2)nm、将采用BET法所测定的平均一次粒径设为(X1)nm时的(X2/X1)比为1.2~1.8,所述二氧化硅粒子(B)的采用BET法所测定的平均一次粒径为超过30nm且50nm以下的粒径,将通过采用电子束得到的透射投影像求出的长轴的平均粒径设为(X2)nm、将采用BET法所测定的平均一次粒径设为(X1)nm时的(X2/X1)比为1.2~1.8,所述二氧化硅粒子(A):所述二氧化硅粒子(B)的质量比为100:0~85:15。
  • 载体磨损减轻硅片研磨方法用于
  • [发明专利]改善了平坦化性的抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201880041969.X有效
  • 西卷裕和;远藤贵文 - 日产化学株式会社
  • 2018-06-22 - 2021-04-20 - G03F7/11
  • 本发明的课题是提供包含涂布于具备具有高低差的部分和不具有高低差的部分的半导体基板上表面的工序,在所形成的抗蚀剂下层膜中,将该具有高低差的部分和该不具有高低差的部分的抗蚀剂下层膜的高低差(Iso‑dense偏差)(逆高低差)降低5nm以上的方法。解决手段是一种降低抗蚀剂下层膜的高低差(Iso‑dense偏差)的方法,其包含下述工序:向包含(A)聚合物和(D)溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物中进一步添加(C)氟系表面活性剂的工序;以及将添加了(C)氟系表面活性剂的该组合物涂布于具备具有高低差的部分和不具有高低差的部分的半导体基板上表面的工序,从而将该具有高低差的部分与不具有高低差的部分的抗蚀剂下层膜的高低差(逆高低差)降低5nm以上。
  • 改善平坦化性抗蚀剂下层形成组合
  • [发明专利]负型感光性树脂组合物-CN201980056292.1在审
  • 铃木朋哉;安达勋 - 日产化学株式会社
  • 2019-07-30 - 2021-04-09 - G03F7/033
  • 本发明的课题是提供新的负型感光性树脂组合物。解决手段是一种负型感光性树脂组合物,其含有下述(A)成分、相对于该(A)成分100质量%为80质量%~90质量%的下述(B)成分、相对于该(B)成分的总量100质量%为3质量%~20质量%的下述(C)成分、以及溶剂。(A)成分:碱溶性聚合物,(B)成分:1分子中具有2个以上选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、烯丙基和乙烯基中的聚合性基的至少2种交联性化合物,(C)成分:至少1种光聚合引发剂。
  • 感光性树脂组合
  • [发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件-CN201980056917.4在审
  • 饭塚祐太;别府功一朗;铃木加名子;后藤耕平 - 日产化学株式会社
  • 2019-08-29 - 2021-04-09 - G02F1/1337
  • 本发明提供一种即使在长时间驱动后其预倾角的变化也少、显示可靠性优异、并且电压保持特性高且能够降低电荷蓄积的液晶取向膜,具有其的液晶表示元件和赋予其的液晶取向剂。本发明提供一种液晶取向剂,其含有作为(A)成分的具有下述式(pa‑1)(式中,A表示亚苯基等;R1为单键、氧原子等;R2为二价芳香族基团等;R3为单键、氧原子等;R4为碳原子数1~40的直链或支链的烷基或包含脂环式基团的碳原子数3~40的一价有机基团;D表示氧原子、硫原子或‑NRd‑;a为0~3的整数;*表示键合位置。热交联性基团A和热交联性基团B以热交联性基团A与热交联性基团B因热而发生交联反应的方式进行选择)所示的光取向性基团和热交联性基团A的聚合物、作为(B)成分的选自聚酰亚胺及其前体中的聚合物、以及溶剂,所述液晶取向剂满足下述必要条件Z1和Z2中的至少一者:Z1:作为(A)成分的聚合物还具有热交联性基团B。Z2:作为(C)成分,还含有在分子内具有2个以上热交联性基团B的化合物。
  • 液晶取向表示元件
  • [发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜及液晶表示元件-CN201780032527.4有效
  • 根木隆之;名木达哉;永井健太郎;别府功一朗 - 日产化学株式会社
  • 2017-03-29 - 2021-04-09 - C08L101/12
  • 本发明提供使稳定地产生取向控制能力的光照射量的范围扩大、而有效地得到品质良好的液晶取向膜的液晶取向膜制造用的聚合物组合物、具体为横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜制造用组合物。另外本发明提供由该组合物形成的液晶取向剂和液晶取向膜、以及具有该液晶取向膜的基板及液晶表示元件。本发明提供的聚合物组合物含有:(A)至少2种聚合物,其具有表现出光反应性的结构和表现出液晶性的结构;(B)使用选自二异氰酸酯成分和四羧酸衍生物中的至少一种和二胺化合物制造的聚合物;和(C)有机溶剂,特别是至少2种聚合物中、一聚合物(A1)和另一聚合物(A2)的表现出光反应性的结构的量互不相同。
  • 液晶取向表示元件
  • [发明专利]液晶取向剂、其制造方法、液晶取向膜和液晶表示元件-CN201980055005.5在审
  • 名木达哉;杉山崇明;福田一平;桥本淳;石川和典 - 日产化学株式会社
  • 2019-08-19 - 2021-04-02 - G02F1/1337
  • 提供:即使减少基于光取向法的取向处理中的光照射量、IPS驱动方式、FFS驱动方式的液晶表示元件中也得到良好的残影特性的液晶取向剂、其制造方法、由其得到的液晶取向膜、和具备其的液晶表示元件。一种液晶取向剂,其特征在于,含有聚酰亚胺,所述聚酰亚胺为由含有下述式(1)所示的四羧酸二酐或其衍生物的四羧酸成分、与含有下述式(3)所示的第1二胺和下述式(4)所示的第2二胺的二胺成分的缩聚反应得到的聚酰亚胺前体的酰亚胺化物。(X1为式(X1‑1)或(X1‑2)所示的结构。R3~R12各自独立地为氢原子、卤素原子、碳数1~6的烷基等,R3~R6中的至少一者为氢原子以外。)(A1为碳数2~10的亚烷基等,a为0~4的整数,A2为卤素原子等,存在有多个A2的情况下,A2的结构任选相同或不同。b和c为1或2,d为0或1。)
  • 液晶取向制造方法表示元件
  • [发明专利]液晶取向膜的制造方法、液晶取向膜和液晶表示元件-CN201980056913.6在审
  • 铃木加名子;饭塚祐太;后藤耕平 - 日产化学株式会社
  • 2019-08-29 - 2021-04-02 - G02F1/1337
  • 本发明提供一种形成多个取向方向不同的区域(取向分割)、且视场角特性优异的VA模式液晶表示元件的简便制造方法。本发明是一种多域液晶取向膜的制造方法,其依次包括如下工序:将液晶取向剂涂布在基板上,形成固化膜的工序,所述液晶取向剂含有溶剂和作为(A)成分的具有光取向性基团和热交联性基团A的聚合物、且满足下述Z1和Z2中的至少一者;从倾斜方向对该固化膜照射紫外线的第一次照射工序;以及从与该第一次照射工序不同的方向对该紫外线照射后的固化膜进行紫外线照射的第二次照射工序,该照射工序中的至少一者隔着包括遮光区域和未遮光区域的掩膜来进行。Z1:(A)成分还具有热交联性基团B。Z2:作为(B)成分,还含有具有热交联性基团B的化合物。
  • 液晶取向制造方法表示元件
  • [发明专利]液晶取向剂、其制造方法、液晶取向膜和液晶表示元件-CN201980054991.2在审
  • 名木达哉;杉山崇明;福田一平;中原翔一朗 - 日产化学株式会社
  • 2019-08-19 - 2021-03-30 - G02F1/1337
  • 提供:即使减少基于光取向法的取向处理中的光照射量、IPS驱动方式、FFS驱动方式的液晶表示元件中也得到良好的残影特性的液晶取向剂、其制造方法、由其得到的液晶取向膜、和具备其的液晶表示元件。一种液晶取向剂,其含有聚酰亚胺,所述聚酰亚胺为由含有下述式(1)所示的四羧酸二酐或其衍生物的四羧酸成分、与包含下述式(3)所示的第1二胺和下述式(4)所示的第2二胺的二胺成分的缩聚反应得到的聚酰亚胺前体的酰亚胺化物。(其中,X1为下述式(X1‑1)或(X1‑2)所示的结构。)(其中,R3~R12各自独立地为氢原子、卤素原子、碳数1~6的烷基、碳数2~6的烯基、碳数2~6的炔基、含有氟原子的碳数1~6的1价的有机基团、或苯基,但R3~R6中的至少一者为上述定义中的氢原子以外的基团。)(其中,A2各自独立地为卤素原子、羟基、氨基、巯基、硝基、磷酸基、或碳数1~20的1价的有机基团,a为0~4的整数,存在有多个A2的情况下,A2的结构任选相同或不同。)
  • 液晶取向制造方法表示元件

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