专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶表示元件-CN201780086602.5有效
  • 永井健太郎;铁谷尚士;石井秀则 - 日产化学株式会社
  • 2017-12-20 - 2022-07-01 - G02F1/1337
  • 本发明涉及含有由具有下述式(1)所示结构的二胺得到的聚合物和有机溶剂的液晶取向剂、液晶取向膜及液晶表示元件。所述式(1)中,X为单键或2价有机基团,Y和Z各自独立地为包含亚烷基的2价有机基团,R1和R2各自独立地为1价有机基团,R3为碳数1~4的烷基,m和n各自独立地为0~4的整数。根据本发明,能够提供一种具有被高效率地赋予取向控制能力、余像特性优异的横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜的基板、具有该基板的横向电场驱动型液晶表示元件以及提供其的化合物,更具体地说是少量添加即可在不影响取向性的情况下提高可靠性的新型二胺。
  • 液晶取向以及表示元件
  • [发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜和液晶表示元件-CN201780077011.1有效
  • 永井健太郎;铃木加名子;名木达哉;藤枝司 - 日产化学株式会社
  • 2017-10-13 - 2021-10-15 - C08L101/06
  • 本发明涉及一种聚合物组合物,其含有(A)共聚物,所述共聚物由包含下述单体(A‑1)和单体(A‑2)的单体混合物得到。此处,单体(A‑1)是指,具有1个肉桂酰基部位和2~4个不构成肉桂酰基部位的苯环、且具有聚合性基团的单体,单体(A‑2)是指,具有1个肉桂酰基部位和1个不构成肉桂酰基部位的苯环、且具有聚合性基团的单体(该肉桂酰基部位和苯环任选具有取代基)。进一步本发明涉及一种具有液晶取向膜的基板的制造方法,其具备如下工序:将该组合物涂布于具有横向电场驱动用的导电膜的基板上而形成涂膜的工序;对所得涂膜照射偏振紫外线的工序;和,对所得涂膜进行加热的工序。使用本发明的聚合物组合物的液晶取向剂能以高效率被赋予取向控制能力,余像特性优异,可以提供横向电场驱动型液晶表示元件。
  • 液晶取向表示元件
  • [发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜、液晶表示元件和新型单体-CN201980086591.X在审
  • 森内正人;永井健太郎;饭塚祐太;根木隆之;藤枝司 - 日产化学株式会社
  • 2019-12-26 - 2021-08-27 - G02F1/1337
  • 本发明提供即使在长时间驱动后其预倾角的变化也少、显示可靠性优异的液晶取向膜、具有该液晶取向膜的液晶表示元件和提供该液晶取向膜的液晶取向剂。本发明提供一种液晶取向剂,其特征在于,其含有溶剂和作为(A)成分的聚合物,所述聚合物具有下述式(pa‑1)所示的光取向性基团。(式中,A表示根据情况被选自氟、氯、氰基中的基团取代或者被碳原子数1~5的烷氧基、直链状烷基残基或支链状烷基残基(其根据情况被1个氰基或1个以上的卤素原子取代)取代的嘧啶‑2,5‑二基、吡啶‑2,5‑二基、2,5‑亚噻吩基、2,5‑亚呋喃基、1,4‑亚萘基或亚苯基、或者2,6‑亚萘基或亚苯基;R1为单键、氧原子、‑COO‑或‑OCO‑;R2为二价芳香族基团、二价脂环式基团、二价杂环式基团或二价稠环式基团;R3为‑COO‑或‑OCO‑;R4为包含碳原子数1~40的直链烷基或支链烷基或脂环式基团的碳原子数3~40的一价有机基团,D表示氧原子、硫原子或‑NRd‑(此处,Rd表示氢原子或碳原子数1~3的烷基);a为0~3的整数;*表示键合位置。)
  • 液晶取向表示元件新型单体
  • [发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜及液晶表示元件-CN201980070307.X在审
  • 长谷川直史;野田尚宏;永井健太郎 - 日产化学株式会社
  • 2019-10-24 - 2021-06-01 - G02F1/1337
  • 提供一种液晶取向剂,其可以形成提供视场角宽、应答速度快、对比度大的液晶表示元件的液晶取向膜。一种液晶取向剂,其特征在于,其含有具有下述式(1)所示的侧链和下述式(2)所示的侧链的聚合物。(R1c、R2c:氢原子或碳数1~10的烷基。Yc:单键或‑CO‑,Ar1:亚苯基、亚萘基或亚联苯基,T1c、T2c:单键、‑O‑、‑COO‑等,Ac:单键、碳数1~20的亚烷基等,n:1~4,*:连接键)(Q:式(q‑1)~(q‑4)等,R1r、R2r:碳数1~10的烷基或烷氧基等,Ar2:2价芳香族烃基,T1r、T2r:单键、‑O‑、‑COO‑等,Ar:单键、碳数1~20的亚烷基等,*:连接键)
  • 液晶取向表示元件
  • [发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜及液晶表示元件-CN201680029992.8有效
  • 国见奈穂;永井健太郎 - 日产化学工业株式会社
  • 2016-03-23 - 2021-05-07 - G02F1/1337
  • 提供用于获得即使使用负型液晶的情况下也可获得良好的残影特性而不产生亮点的光取向法用的液晶取向膜的液晶取向剂、液晶取向膜及液晶表示元件。一种液晶取向剂,其含有选自由主链中具有式(1)所示结构的聚酰亚胺前体及该聚酰亚胺前体的酰亚胺化聚合物组成的组中的至少1种聚合物。(R1、R2为单键、‑O‑、‑S‑、‑NR12‑等,R12为氢原子等,A为碳数2~20的亚烷基,B1、B2各自独立地为选自下述结构的2价有机基团,B1与B2不同。)(R4表示碳数1~5的亚烷基,R5表示氢原子等。)‑B1‑R1‑A‑R2‑B2‑ (1)
  • 液晶取向表示元件
  • [发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜及液晶表示元件-CN201780032527.4有效
  • 根木隆之;名木达哉;永井健太郎;别府功一朗 - 日产化学株式会社
  • 2017-03-29 - 2021-04-09 - C08L101/12
  • 本发明提供使稳定地产生取向控制能力的光照射量的范围扩大、而有效地得到品质良好的液晶取向膜的液晶取向膜制造用的聚合物组合物、具体为横向电场驱动型液晶表示元件用液晶取向膜制造用组合物。另外本发明提供由该组合物形成的液晶取向剂和液晶取向膜、以及具有该液晶取向膜的基板及液晶表示元件。本发明提供的聚合物组合物含有:(A)至少2种聚合物,其具有表现出光反应性的结构和表现出液晶性的结构;(B)使用选自二异氰酸酯成分和四羧酸衍生物中的至少一种和二胺化合物制造的聚合物;和(C)有机溶剂,特别是至少2种聚合物中、一聚合物(A1)和另一聚合物(A2)的表现出光反应性的结构的量互不相同。
  • 液晶取向表示元件
  • [发明专利]液晶表示元件的制造方法-CN201980027082.X在审
  • 长谷川直史;若林晓子;山本雄介;永井健太郎 - 日产化学株式会社
  • 2019-02-21 - 2020-11-27 - G02F1/1337
  • 提供可以维持非对称的倾斜角体现能力、并且可以抑制液晶单元的内部偏置电压经时性变化的现象的液晶表示元件。一种液晶表示元件的制造方法,其特征在于,包括如下工序:在第一基板上形成第一液晶取向膜的液晶取向膜形成工序,所述第一液晶取向膜具有式(1)的结构;在第二基板上形成第二液晶取向膜的液晶取向膜形成工序,所述第二液晶取向膜具有选自式(2‑1)~(2‑4)中的至少一种结构,且组成与第一液晶取向膜不同;以及,液晶层形成工序,在前述一对基板之间形成包含液晶化合物的液晶层;和,边对液晶单元施加电压边照射紫外线,使液晶层中的聚合性化合物反应的工序。(式中的记号如说明书中记载所述。)
  • 液晶表示元件制造方法
  • [发明专利]高分子量聚硅烷及其制造方法-CN201580038296.9有效
  • 远藤雅久;孙军;后藤裕一;永井健太郎 - 薄膜电子有限公司
  • 2015-06-30 - 2019-10-25 - C01B33/04
  • [问题]本发明提供使用重均分子量大的聚硅烷制成涂布型聚硅烷组合物,在涂布于基板并烧成后而得到导电性高且良好的硅薄膜。[解决方案]所述聚硅烷具有5000~8000的重均分子量。聚硅烷为环戊硅烷的聚合物。硅膜是将聚硅烷溶解于溶剂而成的聚硅烷组合物涂布于基材并在100℃~425℃下进行烧成而得到的。环戊硅烷的聚合在负载于聚合物的钯催化剂的存在下进行。负载于聚合物的钯催化剂是将催化剂成分的钯固定于官能化聚苯乙烯而成的。钯为钯化合物或钯络合物。钯的固定化是用官能化聚苯乙烯对零价钯络合物或二价钯化合物进行微胶囊化。零价钯络合物为四(三苯基膦)钯(0)络合物。
  • 分子量硅烷及其制造方法
  • [发明专利]制造含氧硅氢化物有机溶剂的方法-CN201580072282.9在审
  • 后藤裕一;远藤雅久;孙军;永井健太郎 - 薄膜电子有限公司
  • 2015-10-13 - 2017-12-01 - C01B33/145
  • [问题]提供一种制造用于能够在衬底上形成的硅氢化物氧化物涂覆膜的含氧硅氢化物有机溶剂(涂覆液)的方法。使用含氧硅氢化物的有机溶剂不需要在涂覆衬底时将涂覆液放置在非氧化气氛中,或者不需要在涂覆之后对衬底进行热处理,因为在涂覆之前硅氢化物氧化物形成在了涂覆溶液中。[方案]一种制造含氧硅氢化物有机溶剂的方法,包括在含有硅氢化物或其聚合物的有机溶剂上吹入含氧气体。硅氢化物是环状硅烷。硅氢化物是环戊硅烷。所含有的硅氢化物或其聚合物的氧化物的比例是(剩余Si‑H基)/(氧化之前的Si‑H基)=1‑40mol%。环状硅烷能够通过在卤化铝存在的情况下使环状硅烷与卤化氢在环己烷中反应、将得到的环状硅烷溶解在有机溶剂中并将其还原而得到。
  • 制造含氧硅氢化物有机溶剂方法

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