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[发明专利]N-杂芳基-5-氯水杨酰胺类化合物及其制备方法与抗结核菌应用-CN202310311746.3在审
发明人：曾嘉;张天宇;鄢明;田茜溶;彭瑞君;沙阿拉姆;布哈里尤瑟夫;何静;田国宝 -专利权人：中山大学;中国科学院广州生物医药与健康研究院
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C07D213/75 文献下载
摘要：本发明提供了一类通式为(Ⅰ)的N‑杂芳基‑5‑氯水杨酰胺类化合物、其制备方法与应用。所述的N‑杂芳基‑5‑氯水杨酰胺类化合物具有新的抗结核菌药母核结构和优秀的抗结核菌活性，对耐药的变异结核菌株也具有良好的抑制活性。本发明还提供了所述的N‑杂芳基‑5‑氯水杨酰胺类化合物的制备方法，该制备方法的原料廉价易得，无需使用高毒性和高污染试剂，反应步骤简单，可实现工业化生产。
杂芳基水杨酰胺类化合物及其制备方法结核菌应用

[发明专利]半导体晶片冷却方法和系统-CN202210319464.3在审
发明人：李永尧;胡政纲;彭瑞君;刘旭水 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种半导体晶片冷却方法和系统。冷却控制器从一个或多个传感器接收与晶片相关联的晶片信息。冷却控制器基于晶片信息确定晶片的图案掩模面积。冷却控制器基于图案掩模面积确定晶片的冷却时间。冷却控制器使冷却板冷却晶片的持续时间与冷却时间相等。基于图案掩模面积确定晶片的冷却时间为具有不同掩模及布局性质的晶片提供稳定且一致的晶片温度，此会减少掩模上覆变化并增大晶片良率。
半导体晶片冷却方法系统

[发明专利]产生电磁辐射的设备及方法-CN201910973178.7有效
发明人：徐子正;杨棋铭;陈其贤;彭瑞君;刘恒信;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-10-14 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例涉及产生电磁辐射的设备及方法。根据本发明的一些实施例，一种电磁辐射产生设备包含收集器、气体供应器及气体管道。收集器具有经配置以反射电磁辐射的反射表面。收集器包含底部部分、外围部分及介于底部部分与周边部分之间的中间部分。收集器的中间部分包含多个开口。气体供应器经配置以提供缓冲气体。气体管道与气体供应器及收集器连通，且经配置以使缓冲气体吹扫穿过中间部分的开口，以在收集器的反射表面附近形成气体保护层。中间部分的开口包含：多个孔，所述孔布置成包含多个孔行的阵列；或多个同心间隙。
产生电磁辐射设备方法

[发明专利]曝光方法和曝光装置-CN201810825545.4有效
发明人：李永尧;刘恒信;郭宏铭;彭瑞君 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了用于制造半导体器件的曝光方法和曝光装置。在曝光装置中执行的方法中，基于曝光图和曝光区域内的芯片区域布局来设置聚焦控制有效区域和聚焦控制无效区域。测量横跨晶圆的聚焦调平数据。利用曝光光线曝光晶圆上的光刻胶层。当曝光区域的多个芯片区域的芯片区域位于晶圆的有效区域内时，芯片区域包括在聚焦控制有效区域中，并且当多个芯片区域的芯片区域的一部分或全部位于晶圆的有效区域的外围上或外部时，芯片区域包括在聚焦控制无效区域中。在曝光中，通过使用在聚焦控制有效区域处测量的聚焦调平数据来控制聚焦调平。
曝光方法装置

[发明专利]光罩传载装置-CN201610482102.0有效
发明人：徐宗本;彭瑞君;李永尧 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-06-27 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光罩传载装置，其包含控制器、机械手臂、固持部和电线整束结构。所述机械手臂的一端连接所述控制器，所述机械手臂的另一端连接于固持部。所述电线整束结构包含收纳管和缠绕部，其中所述收纳管的直径小于所述缠绕部的直径。
光罩传载装置

[外观设计]儿童手表保护套（兔子吊坠款X302）-CN201830358457.9有效
发明人： 彭瑞君 -专利权人：深圳市金瑞创新科技有限公司
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： 03-01 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：儿童手表保护套（兔子吊坠款X302）。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品为儿童手表保护套。3．本外观设计产品的设计要点：在于其外形。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：主视图。
外观设计手表吊坠兔子图片

[发明专利]用于避免污染的定向的极紫外集光器-CN201610820520.6有效
发明人：苏健元;郭宏铭;赵国宏;彭瑞君 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2016-09-13 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有定向的集光器反射镜的极紫外(EUV)辐射源以减少由燃料液滴碎片产生的污染。在一些实施例中，EUV辐射源具有向EUV源容器提供多个燃料液滴的燃料液滴发生器。主激光器配置为产生指向多个燃料液滴的主激光束。主激光束具有足够的能量以点燃来自多个燃料液滴的等离子体，等离子体发射出极紫外辐射。使配置为将极紫外辐射聚焦至EUV源容器的出口孔的集光器反射镜定向，以使从集光器反射镜的顶点向外延伸的法向量以小于90°的角度与重力的方向相交。本发明实施例涉及一种极紫外辐射源、一种极紫外辐射源以及一种产生极紫外辐射的方法。
用于避免污染定向紫外集光器

[外观设计]遥控器挂架-CN201730252687.2有效
发明人： 彭瑞君 -专利权人：深圳市金瑞创新科技有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： 14-99 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称遥控器挂架。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用于遥控器挂架。3．本外观设计产品的设计要点在于其外形。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。
遥控器挂架

[外观设计]遥控器保护套-CN201730252290.3有效
发明人： 彭瑞君 -专利权人：深圳市金瑞创新科技有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： 03-01 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称遥控器保护套。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用于遥控器保护套。3．本外观设计产品的设计要点在于其外形。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。
遥控器护套

[外观设计]电视盒子多功能支架-CN201730252462.7有效
发明人： 彭瑞君 -专利权人：深圳市金瑞创新科技有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： 08-08 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称电视盒子多功能支架。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用于电视盒子的支架。3．本外观设计产品的设计要点在于其外形。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。
电视盒子多功能支架

[发明专利]跟踪旋转晶圆吸盘-CN201210204062.5有效
发明人：曾威翔;彭瑞君;何开发;陈和平;李家筠 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2012-06-15 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本公开内容涉及一种晶圆吸盘，将该晶圆吸盘配置成将均匀的光刻胶层设置在工件上方。在一些实施例中，晶圆吸盘包括多个真空孔。多个真空孔(即，大于一个)与腔体流体连通，该腔体沿着真空孔之间的顶面连续延伸。将连接至每个真空孔的真空源配置成从工件下方的腔体去除气体分子，以留下低压真空。多个真空孔的使用增加了真空的均匀性，从而防止靠近任一具体真空孔形成高真空区域。高真空区域的减少降低了与高真空区域相关联的晶圆弯曲。
跟踪旋转吸盘

[发明专利]具有双分划板边部掩蔽组件的光刻装置及其使用方法-CN201210283212.6有效
发明人：吴东立;林进祥;刘恒信;彭瑞君 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2012-08-09 - 公布日： 2013-11-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种光刻装置包括至少两个分划板边部掩蔽组件(REMA)。光刻装置进一步包括被配置为发射出具有一波长的光束的光源，以及被配置为将该光束分成多条准直光束的光束分离元件。每个REMA被设置为接收多条准直光束中的一条，并且每个REMA都具有用于使一条准直光束穿过的可移动狭缝。光刻装置进一步包括至少一个具有图案的掩模，其中所述至少一个掩模被配置为接收来自至少一个REMA的光；以及投影透镜，被配置为接收来自至少一个掩模的光。本发明还讨论了一种使用光刻装置的方法。进一步地，本发明还公开了具有双分划板边部掩蔽组件的光刻装置及其使用方法。
具有双分划板边部掩蔽组件光刻装置及其使用方法

[发明专利]在半导体装置中形成图案的方法及系统、以及半导体装置-CN201010113372.7有效
发明人：李宏仁;彭瑞君;黄义雄 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2010-02-03 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种在半导体装置中形成图案的方法及系统、以及半导体装置，用以图案化一形成于晶片上的光致抗蚀剂材料层，以形成半导体装置。本发明的技术方案包括提供一种双波长曝光系统，其通过两种曝光操作，其中一种为具有一第一波长的第一辐射，另一种为具有一第二波长的第二辐射。不同或相同的光刻设备可用来产生该第一及第二辐射。形成于半导体装置的每一裸片，该图案的一关键尺寸部分用该具有一第一波长的第一辐射来曝光，而该图案的一非关键尺寸部分则用该具有一第二波长的第二辐射来曝光。同时对具有第一波长的第一辐射及具有第二波长的第二辐射感应的光致抗蚀剂材料是被选择来使用。本发明具有较高生产量层级。
半导体装置形成图案方法系统以及

[发明专利]微电子装置及其制造方法-CN200710110247.9有效
发明人：林建勋;杨安国;彭瑞君;郭耀文 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2007-06-08 - 公布日： 2008-08-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种微电子装置及其制造方法。该微电子装置的制造方法包括使用光刻扫描器，以一第一速度，对基底上的虚设区进行曝光，使用光刻扫描器，以一第二速度，对基底上的虚设区进行曝光，其中第一速度大体上比第二速度快；另一实施例揭示微电子装置的另一制造方法，包括使用光刻扫描器，以一第一速度，对微电子装置的非关键层进行曝光，使用光刻扫描器，以一第二速度，对微电子装置的关键层进行曝光，其中第一速度大体上比第二速度快。通过本发明，可以利用不同的速度进行曝光，从而获得更佳的产量和质量。
微电子装置及其制造方法

[发明专利]增加微影产量的设备及其方法-CN200710107399.3无效
发明人：林进祥;彭瑞君;陈永镇;林世杰 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2007-06-01 - 公布日： 2008-07-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了增加微影产量的设备及其方法。该微影设备包含一第一透镜系统、一第一基材基台、一第二透镜系统，与一第二基材基台。第一基材基台可接收来自第一透镜系统的第一辐射能，并可在一曝光步骤中移动一基材。第二透镜系统的解析度高于第一透镜系统的解析度。第二基材基台邻近于第一基材基台，可接收来自第二透镜系统的第二辐射能，并可自第一基材基台接收基材，且移动此基材。本发明能减少微影制程所需的时间，并增加整体的产量。
增加产量设备及其方法

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