专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种硼铝源及其配置方法-CN201811587338.6有效
  • 谢依烨;梁效峰;徐长坡;陈澄;杨玉聪;李亚哲;黄志焕;陈凯;荣希印 - 天津环鑫科技发展有限公司
  • 2018-12-25 - 2023-03-28 - H01L21/228
  • 本发明提供了一种硼铝源,包括重量百分比为8‑25%的硼化合物,重量百分比为1‑3%的铝化合物,重量百分比为0.2‑1%的硅化合物,其余为溶剂。本发明还提供了一种配置硼铝源的方法,将硼源原料和溶剂放入同一容器中,制得过饱和的硼化合物溶液;将铝源原料和溶剂放入同一容器中,制得铝化合物溶液;将硅化合物原料和溶剂放入同一容器中,制得硅化合物;将过饱和的硼化合物溶液、铝化合物溶液和硅化合物溶液混合。本发明提供的硼铝源的配置方法,加入二氧化硅使制得的硼铝源变得更浓稠,更易涂匀,并且使用该硼铝源进行扩散,可有效降低硅片两面的方阻,降低正向压降并提高硅片的Trr值,扩散合格率高,提升硅片电性能。
  • 一种硼铝源及其配置方法
  • [发明专利]一种半导体器件两次丝网印刷方法-CN201811533996.7有效
  • 史丽萍;王晓捧;徐长坡;陈澄;梁效峰;杨玉聪;李豆;赵钰 - 天津环鑫科技发展有限公司
  • 2018-12-14 - 2022-09-23 - B41M1/12
  • 本发明提供一种半导体器件两次丝网印刷方法,其步骤包括:S1:印刷;S2:烘干;S3:烧结;S4:再次印刷;S5:再次烘干;S6:再次烧结。本发明两次印刷过程中,刮刀印刷方向的切入口均为印刷网版上相对应沟槽的正四边形的任意一边上的点,且刮刀的印刷方向与该切入点所在边垂直,同时调整两次玻璃浆料的配比,使S4所用玻璃浆料的粘稠度大于S1所用玻璃浆料的粘稠度,并分别对涂覆后的玻璃浆料进行烘干、烧结,使硅片沟槽处形成双层的玻璃钝化层,能有效解决沟槽尖角处硼结裸露及沟槽底部硅裸露的问题,使沟槽内玻璃钝化层覆盖更全面,PN结的钝化保护更完全,增强了产品的稳定性和可靠性,提高了产品的合格率。
  • 一种半导体器件两次丝网印刷方法
  • [发明专利]一种减少SiO2-CN202111642178.2在审
  • 赵晓丽;郉锡祥;张馨予;戴明磊;杜宏强;王维;刘晓芳;王正芳 - 天津环鑫科技发展有限公司
  • 2021-12-29 - 2022-05-13 - C23C16/40
  • 本发明提供一种减少SiO2表面颗粒的通气管路及方法,包括依次设置的TEOS装载容器、TEOS存储装置以及TEOS分解装置,TEOS装载容器与TEOS存储装置之间设有第一管路,TEOS存储装置与TEOS分解装置之间设有第二管路,其中:TEOS装载容器内设有氦气通入管路;第一管路上设有第一阀;第二管路上依次设有第二阀、流量计以及吹扫气体通入管路,其中,流量计与TEOS分解装置之间的进气口之间设有控制阀;TEOS分解装置内设有弥散管,弥散管与第二管路连通设置。本发明的有益效果是使得LPCVD制备出的SiO2膜厚在范围内且膜表面的颗粒(粒径0.3um)小于300颗。
  • 一种减少siobasesub

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