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[发明专利]长晶炉及结晶系统-CN201910182656.2在审
发明人： 夏秋良;范雪峰 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2019-03-11 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： C30B15/14 文献下载
摘要：本申请提供一种长晶炉及结晶系统，涉及炉体结构领域。该长晶炉包括：炉体、第一坩埚、点热源、底部隔热结构和加热器；第一坩埚设置在炉体内；加热器设置在第一坩埚外侧；点热源设置在第一坩埚底部中心处；底部隔热结构套设于点热源外。点热源对第一坩埚中心处实现集中加热，从而保证单晶硅棒中心与熔融多晶硅的温差与单晶硅棒表面熔融多晶硅的温差一致，使得单晶硅棒中心与表面的结晶速度一致，保证了单晶硅棒的品质。
单晶硅棒热源长晶炉坩埚加热器隔热结构结晶系统多晶硅温差坩埚底部中心表面熔融集中加热炉体结构速度一致坩埚中心炉体熔融体内保证申请

[实用新型]边缘自抛光游星轮-CN201721752817.X有效
发明人：冯光建;夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型提供边缘自抛光游星轮，涉及半导体技术领域。涉及边缘自抛光游星轮，包括游星轮本体，所述游星轮本体上设置有开孔，在所述开孔的内壁上环绕设置有抛光材料，所述抛光材料内盛装有待抛光材料。采用本技术方案的边缘自抛光游星轮，能够对硅片或者硅件边缘进行抛光的游星轮，使硅片或者硅件能同时达到边缘和两面被抛光的目的，大大减少了这些产品加工的步骤和成本。
游星轮自抛光抛光材料抛光硅片硅件开孔半导体技术领域本实用新型产品加工环绕设置内壁盛装

[实用新型]抛光用压力缓冲垫及抛光装置-CN201721748747.0有效
发明人：冯光建;夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本实用新型提供抛光用压力缓冲垫及抛光装置，涉及抛光技术领域。涉及抛光用压力缓冲垫，包括压力缓冲垫，压力缓冲垫一面设置有胶层，压力缓冲垫的另一面间隔设置有多个压力传导区域；压力缓冲垫通过胶层与抛光盘或抛光磨头固定。涉及抛光装置，设置有上述的抛光用压力缓冲垫，该压力缓冲垫可以与抛光盘粘贴，也可以与抛光磨头粘贴；压力缓冲垫设置在抛光盘与抛光磨头之间即可，用于两者之间的压力传导；待抛光晶圆设置在抛光盘下方的模板里。采用本实用新型的技术方案，可以贴在压力盘的背面，通过缓冲垫的厚度变化来分配上面承受的压力，使晶圆能够较为均匀的压在大盘上，从而使抛光顺利进行。
压力缓冲抛光抛光盘抛光磨头抛光装置本实用新型压力传导胶层粘贴抛光技术领域厚度变化间隔设置抛光晶圆缓冲垫压力盘大盘晶圆背面分配

[实用新型]抛光垫及其抛光装置-CN201721752620.6有效
发明人：冯光建;夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种抛光垫及其抛光装置，涉及半导体技术领域，为解决抛光布随着使用时间的延长，其运输抛光液的能力会大大降低，可能对抛光效果产生不良影响的问题而设计。涉及一种抛光垫，包括：抛光布本体，抛光布本体上设有至少一个凹槽，至少一个凹槽内设有用于限制抛光液流动的填充物。还涉及一种抛光装置，包括：抛光机大盘和上述的抛光垫，抛光垫固定在抛光机大盘上。该抛光垫及其抛光装置的使用寿命较长且实用性较强。
抛光垫抛光装置抛光布抛光机抛光液大盘半导体技术领域本实用新型填充物抛光效果使用寿命流动运输

[实用新型]游星轮组件及其抛光装置-CN201721773581.8有效
发明人：冯光建;夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种游星轮组件及其抛光装置，涉及半导体技术领域，为解决现有抛光工艺过程中，待加工件的外表面在抛光液和游星轮内壁的挤压下也被抛光，使得抛光件的原貌或者抛光件的外表面形貌被破坏的问题而设计。涉及一种游星轮组件，包括：游星轮，游星轮具有开孔，游星轮的内圆周面设有传动结构，传动结构与待抛光件的外圆周面相接触，且用于保护待抛光件的外圆周面。还涉及一种抛光装置，包括：上述的游星轮组件。该游星轮组件及其抛光装置能够保护待抛光件的外圆周面不被游星轮的内圆周面挤压，使得待抛光件的原貌或者待抛光件的外圆周面形貌不被破坏。
游星轮抛光件抛光装置外圆周面形貌传动结构内圆周面挤压半导体技术领域抛光工艺过程本实用新型待加工件面相接触抛光液外圆周抛光开孔内壁

[发明专利]一种食品自动装袋装置-CN201610633693.7有效
发明人：尹乐斌;秦璇璇;赵良忠;张臣飞;夏秋良;杨莹;谢灵来;陈楚奇;江振桂;雷志明;李陈 -专利权人：邵阳学院;尹乐斌;赵良忠;湖南九盛食品有限公司
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2018-08-17 - 主分类号： B65B35/30 文献下载
摘要：一种食品自动装袋装置，其包括进料装置、用于传送食品的第一传送装置、用于传送来自第一传送装置的食品的第二传送装置以及用于封装来自第二传送装置的食品的封装装置；第二传送装置包括下料管道和转轴，下料管道包括用于容纳食品的第一壳体以及用于传送食品的第二壳体，在第一壳体设置有第一条形缺口，食品通过第一条形缺口落到第二壳体，转轴的侧面的至少一部分位于第一壳体的内部以将食品传送至封装装置。本发明能够实现食品装袋的自动化机械化控制，降低了人力资源成本，减少了产品生产过程中的二次污染。
一种食品自动装袋装置

[实用新型]抛光组件-CN201721751097.5有效
发明人：冯光建;夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种抛光组件，涉及半导体技术领域，为解决现有抛光工艺过程中，待加工件的外表面在抛光液和游星轮内壁的挤压下也被抛光，使得抛光件的原貌或者抛光件的外表面形貌被抛光的问题而设计。涉及一种抛光组件，包括：抛光件，抛光件的外侧面依次向外包覆有胶膜层和承载膜层。还涉及一种抛光组件，包括：抛光件，抛光件的外周面向外包覆有沉积膜层。还涉及另一种抛光组件，包括：抛光件，抛光件的外侧面或外周面向外包覆有光刻胶膜层。上述的抛光组件不会使抛光件的外侧面的尺寸发生任何改变，从而达到抛光件的外侧面不受或者少受抛光影响的要求。
抛光件抛光组件抛光外包覆外侧面外周半导体技术领域抛光工艺过程本实用新型光刻胶膜层形貌沉积膜层待加工件承载膜胶膜层抛光液游星轮内壁挤压

[发明专利]抛光用压力缓冲垫、抛光装置及抛光工艺-CN201711343702.X在审
发明人：冯光建;夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本发明提供抛光用压力缓冲垫、抛光装置及抛光工艺，涉及抛光技术领域。涉及抛光用压力缓冲垫，包括压力缓冲垫，压力缓冲垫一面设置有胶层，压力缓冲垫的另一面间隔设置有多个压力传导区域；压力缓冲垫通过胶层与抛光盘固定。涉及抛光装置，设置有上述的抛光用压力缓冲垫，该压力缓冲垫可以与抛光盘粘贴，也可以与抛光磨头粘贴；压力缓冲垫设置在抛光盘与抛光磨头之间即可，用于两者之间的压力传导；待抛光晶圆设置在抛光盘下方的模板里。还涉及抛光工艺，采用上述的抛光装置。采用本发明的技术方案，可以贴在压力盘的背面，通过缓冲垫的厚度变化来分配上面承受的压力，使晶圆能够较为均匀的压在大盘上，从而使抛光顺利进行。
压力缓冲抛光抛光装置抛光盘抛光工艺抛光磨头压力传导胶层粘贴抛光技术领域厚度变化间隔设置抛光晶圆缓冲垫压力盘大盘晶圆背面分配

[发明专利]抛光组件及其抛光工艺方法-CN201711343704.9在审
发明人：冯光建;夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种抛光组件及其抛光工艺方法，涉及半导体技术领域，为解决现有抛光工艺过程中，待加工件的外表面在抛光液和游星轮内壁的挤压下也被抛光，使得抛光件的原貌或者抛光件的外表面形貌被抛光的问题而设计。涉及一种抛光组件，包括抛光件，抛光件的外侧面向外包覆有保护层。还涉及一种抛光工艺方法，包括上述的抛光组件。该抛光组件及其抛光工艺方法不会使抛光件的外侧面的尺寸发生任何改变，从而达到抛光件的外侧面不受或者少受抛光影响的要求。
抛光件抛光组件抛光工艺抛光半导体技术领域抛光工艺过程形貌待加工件保护层抛光液外包覆外侧面游星轮内壁挤压

[发明专利]晶片快速抛光装置及方法-CN201610039730.1有效
发明人： 夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2016-01-21 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光装置及方法，尤其是一种晶片快速抛光装置及方法，属于半导体抛光的技术领域。按照本发明提供的技术方案，所述晶片快速抛光装置，包括呈对称分布的抛光大盘，在所述抛光大盘间设置至少一个用于固定晶片的游星轮，所述抛光大盘与游星轮间具有抛光垫；在抛光大盘间的至少一个游星轮内设置用于与抛光垫接触并在对晶片抛光时生热的生热膜片。本发明结构紧凑，与现有工艺相兼容，使用操作方便，能精确控制抛光温度，提高抛光的速度，适应范围广，安全可靠。
晶片快速抛光装置方法

[发明专利]超薄晶片的抛光方法-CN201610040761.9在审
发明人： 夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2016-01-21 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于超薄晶片的抛光方法，所述的抛光方法利用胶带和/或胶体对超薄晶片进行贴膜，然后再用模板法进行抛光。所述胶带包含两层胶膜和提供机械力的表层膜，表层膜通过胶膜跟晶片结合在一起。所述胶体用旋转涂布法涂布，或者用贴膜法涂布，或者用喷胶法涂布；涂布后的胶体直接进行固化，或者先通过烘烤表面流平后固化。其优点在于1）新增的膜可以作为晶片的一部分嵌入到真空吸附垫模板里面，使晶片在模板中不易滑出，且可以通过调节膜的厚度来对晶片的抛光后的厚度进行控制；2）新增的膜有较高的机械强度，可以给晶片提供机械支撑作用，使晶片在抛光过程中不易碎片。
超薄晶片抛光方法

[实用新型]抛光垫沟槽清理装置-CN201620629669.1有效
发明人： 夏秋良;冯光建;曾文昌 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2016-06-23 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B24B53/12 文献下载
摘要：本实用新型一种抛光垫沟槽清理装置，它包括握杆、支撑杆与清理头，在握杆上安装有支撑杆，在支撑杆上安装有清理头。或者，它包括握杆、支撑杆与磨盘，在握杆上安装有支撑杆，在支撑杆上安装有磨盘。本实用新型可以手动操作，成本较低，对于抛光垫沟槽里面的残留物质能够有效的进行清除，有效增加了抛光垫的使用寿命并提升了抛光效果。
抛光沟槽清理装置

[发明专利]一种用豆清发酵液点浆制备豆腐的方法-CN201710022915.6在审
发明人：尹乐斌;张昌运;雷志明;周娟;赵良忠;谢灵来;孔彦卓;李立才;杨莹;张臣飞;夏秋良 -专利权人：邵阳学院;湖南九盛食品有限公司
申请日： 2017-01-12 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： A23C20/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种用豆清发酵液点浆制备豆腐的方法，包括以下步骤(1)将大豆进行清洗、浸泡、磨浆，然后加热并过滤，滤液备用；(2)步骤(1)中的滤渣继续加热并过滤，滤液与步骤(1)中的滤液合并得到豆浆，加热后用豆清发酵液点浆、蹲脑，最后养脑、浇脑、压榨成型，得到豆腐；其中，所述豆清发酵液的总酸含量为2.5～6.5g/kg。本申请采用豆清发酵液的总酸含量(以乳酸计)取代传统pH值作为控制点浆的指标之一，能够更好控制豆清发酵液点浆的最适条件，保证产品品质的稳定性，同时能够满足机械化精准控制点浆的需求。可以为豆清发酵液作为一种新型的良好凝固剂在豆制品生产中的运用提供可靠的理论依据和试验基础。
一种用豆清发酵液点浆制备豆腐方法

[发明专利]一种野生葛根口服液及其制备方法-CN201611066793.2在审
发明人：尹乐斌;雷志明;赵良忠;夏秋良;张臣飞;张昌运;杨莹;孔彦卓 -专利权人：邵阳学院
申请日： 2016-11-28 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： A23L33/105 文献下载
摘要：本发明提供了一种野生葛根口服液及其制备方法。一种野生葛根口服液，主要由以下成分制成：按重量计，白砂糖2％‑6％、柠檬酸0.12％‑0.16％、提取液余量；所述提取液主要由具有国家地理标志证明商标武冈野生葛根提取液与辅料提取液经过低温真空浓缩、过滤及杀菌工艺制程；所述辅料提取液为玉竹提取液、山药提取液、百合提取液、红枣提取液、枸杞提取液中的一种或多种，优选由玉竹提取液、山药提取液、百合提取液、红枣提取液和枸杞提取液组成。本发明的口服液澄清、无沉淀分层，呈均匀的黄棕色，入口酸甜，且酸甜协调，后味中略带苦味，具有浓郁的葛根香味，刺激味不明显，入口协调柔和，体态滑润，无异物感。
一种野生葛根口服液及其制备方法

[实用新型]晶片快速抛光装置-CN201620059744.5有效
发明人： 夏秋良 -专利权人：苏州新美光纳米科技有限公司
申请日： 2016-01-21 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种抛光装置，尤其是一种晶片快速抛光装置，属于半导体抛光的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案，所述晶片快速抛光装置，包括呈对称分布的抛光大盘，在所述抛光大盘间设置至少一个用于固定晶片的游星轮，所述抛光大盘与游星轮间具有抛光垫；在抛光大盘间的至少一个游星轮内设置用于与抛光垫接触并在对晶片抛光时生热的生热膜片。本实用新型结构紧凑，与现有工艺相兼容，使用操作方便，能精确控制抛光温度，提高抛光的速度，适应范围广，安全可靠。
晶片快速抛光装置