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专利名称

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公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]沟槽中薄膜沉积的方法-CN202080027992.0有效
发明人：郭津睿;卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;徐永安;杨政翰;陈建安 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-02-19 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在其他实施方式中，在沉积掩模之前使第二层固化。在其他实施方式中，在沉积掩模之后蚀刻第二层。本文中所公开的方法允许在工件中所存在的沟槽中的一些中沉积第二层，而同时至少部分地防止在工件中所存在的其他沟槽中沉积第二层。
沟槽薄膜沉积方法

[发明专利]使用电子束装置的光学设备制造方法-CN201980083890.8有效
发明人：卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卡提克·雷马斯瓦米;杨扬;曼尼瓦南·托塔德里;陈建安 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B6/13 文献下载
摘要：本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
使用电子束装置光学设备制造方法

[发明专利]可变高度的斜向光栅方法-CN202310529472.5在审
发明人：摩根·埃文斯;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-07-01 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：公开一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括在光栅层中形成凹部。在所述光栅层中形成多个通道，以在所述光栅层中限定斜向光栅结构。所述凹部和斜向光栅结构是使用选择性蚀刻工艺形成的。
可变高度光栅方法

[发明专利]用于形成光栅的方法-CN201980081016.0有效
发明人：约瑟夫·C·奥尔森;卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;摩根·埃文斯;傅晋欣 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式大致涉及形成光栅的方法。该方法包括在设置于基板上的光栅材料上沉积抗蚀材料，将该抗蚀材料图案化为抗蚀层，投射第一离子束至第一元件区域以形成第一组多个光栅，及投射第二离子束至第二元件区域以形成第二组多个光栅。利用图案化抗蚀层允许在大区域上投射离子束，此举往往比将离子束聚焦在特定区域中更容易。
用于形成光栅方法

[发明专利]产生渐缩倾斜鳍片的受控硬掩模成形-CN201980064955.4有效
发明人：卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-10-24 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G02B30/00 文献下载
摘要：本文描述的实施方式涉及形成光学装置结构的方法。方法的一个实施方式包括以下步骤：相对于基板的表面的表面法线以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的初始深度。图案化掩模设置在基板上方，并且包括两个或更多个凸起，两个或更多个凸起限定基板或设置在基板上的装置层的暴露部分。每个凸起具有在与装置层接触的底表面处的后尾边缘，在每个凸起的顶表面处的前导边缘和从顶表面到装置层的高度。重复以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的至少一个后续深度。
产生倾斜受控硬掩模成形

[发明专利]形成多个光栅的方法-CN201980080151.3有效
发明人：摩根·埃文斯;约瑟夫·C·奥尔森;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G02B27/44 文献下载
摘要：本申请的实施方式大致关于用于形成多个光栅的方法。该方法大致包括在设置于基板上的波导组合器的一个或多个保护的区域上沉积材料，该材料具有当离子束引导朝向基板时抑制设置于波导组合器上的光栅材料移除的厚度；及将离子束引导朝向基板。本文所公开的方法允许在一个或多个未受保护的区域中形成多个光栅，同时在保护的区域中不会形成光栅。
形成光栅方法

[发明专利]从晶片转移纳米结构至透明基板-CN202080031521.7有效
发明人：塔帕什里·罗伊;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-02-24 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G02B1/00 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式大体上涉及形成光学器件的方法，光学器件包含设置在透明基板上的纳米结构。提供基板作为用于形成光学器件的底座。透明层设置在基板的第一表面上，以及结构层设置在透明表面上。氧化物层设置在基板的与第一表面相反的第二表面上，以及在氧化物层中形成窗口或开口，以暴露出基板的第二表面的一部分。接着，在结构层中形成多个纳米结构，以及移除基板的从窗口延伸至透明层的部分。然后，使透明层的一部分与基板分离以形成光学器件，透明层的该部分具有设置在其上的纳米结构。
晶片转移纳米结构透明

[发明专利]使用灰调光刻和倾斜蚀刻的深度调节倾斜光栅-CN202310137557.9在审
发明人： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卢多维克·戈代 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G02B6/124 文献下载
摘要：披露一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括：使用灰阶抗蚀剂和光刻在光栅层中形成楔形结构。多个通道形成于所述光栅层中，以在所述光栅层中界定倾斜光栅结构。所述楔形结构和所述倾斜光栅结构是通过使用选择性蚀刻工艺形成的。
使用调光倾斜蚀刻深度调节光栅

[发明专利]可变高度的斜向光栅方法-CN201980047037.0有效
发明人：摩根·埃文斯;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-07-01 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：公开一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括在光栅层中形成凹部。在所述光栅层中形成多个通道，以在所述光栅层中限定斜向光栅结构。所述凹部和斜向光栅结构是使用选择性蚀刻工艺形成的。
可变高度光栅方法

[发明专利]光学装置和光学装置计量的方法-CN202180061014.2在审
发明人：赛捷·托克·加勒特·多莎;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-28 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G02B1/00 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式涉及具有一个或更多个计量特征的光学装置和光学装置计量的方法以提供计量工具位置识别，而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。光学装置包括一个或更多个目标特征。本文描述的目标特征提供计量工具位置识别，而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。在计量工艺中，目标特征允许计量工具确定具有宏观尺度的表面面积的光学装置的一个或更多个位置。目标特征对应于合并在一起的一个或更多个结构、被已移除的一个或更多个结构环绕的合并在一起的一个或更多个结构、或具有一个或更多个轮廓的已移除的一个或更多个结构，由与目标特征相邻的结构来限定所述一个或更多个轮廓。
光学装置计量方法

[发明专利]纳米结构光学装置的气隙封装-CN202180047524.4在审
发明人：赛捷·托克·加勒特·多莎;大野贤一;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卢瑟·振毅·泰欧;郭津睿 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本文描述的实施方式涉及封装的光学装置及形成具有可控气隙封装的光学装置的方法。在一个实施方式中，围绕多个光学装置结构在支撑层中形成有多个开口，以在光学装置结构、支撑层、及开口之间产生高折射率对比。在另一实施方式中，牺牲材料设置在光学装置结构之间并且随后封装层设置在光学装置结构上。牺牲材料被移除，从而形成由封装层、基板、及每个光学装置结构限定的空间。在又一实施方式中，封装层设置在光学装置结构上方，从而形成由封装层、基板、及每个光学装置结构限定的空间。
纳米结构光学装置封装

[发明专利]使用灰调光刻和倾斜蚀刻的深度调节倾斜光栅-CN201980073438.3有效
发明人： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卢多维克·戈代 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： H01P11/00 文献下载
摘要：披露一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括：使用灰阶抗蚀剂和光刻在光栅层中形成楔形结构。多个通道形成于所述光栅层中，以在所述光栅层中界定倾斜光栅结构。所述楔形结构和所述倾斜光栅结构是通过使用选择性蚀刻工艺形成的。
使用调光倾斜蚀刻深度调节光栅

[发明专利]制造波导组合器的方法-CN202211223884.8在审
发明人：迈克尔·于-泰克·扬;韦恩·麦克米兰;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;罗伯特·简·维瑟 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01P11/00 文献下载
摘要：本文所描述的实施方式涉及用于制造波导组合器的方法。所述方法提供波导组合器，所述波导组合器具有限定精细光栅的由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域。在一个实施方式中，由压印印模形成波导结构，所述压印印模在设置在基板的表面上的抗蚀剂上具有正波导图案以形成负波导结构。将所述无机或混合材料沉积在所述基板上并然后移除所述抗蚀剂以形成具有与由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域中的至少一个相对应的区域的波导结构。
制造波导组合方法

[发明专利]以激光烧蚀形成深度可变结构-CN202180020367.8在审
发明人：彼得·库伦齐;约瑟夫·奥尔森;摩根·埃文斯;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：公开了一种用于形成器件结构的方法。该形成器件结构的方法包括使用激光烧蚀在器件材料层中形成深度可变结构。在深度可变结构中形成多个器件结构以在其中限定倾斜的器件结构。使用蚀刻处理形成深度可变结构和倾斜的器件结构。
激光形成深度可变结构

[发明专利]制造波导组合器的方法-CN201880081384.0有效
发明人：迈克尔·于-泰克·扬;韦恩·麦克米兰;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;罗伯特·简·维瑟 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01P5/18 文献下载
摘要：本文所描述的实施方式涉及用于制造波导组合器的方法。所述方法提供波导组合器，所述波导组合器具有限定精细光栅的由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域。在一个实施方式中，由压印印模形成波导结构，所述压印印模在设置在基板的表面上的抗蚀剂上具有正波导图案以形成负波导结构。将所述无机或混合材料沉积在所述基板上并然后移除所述抗蚀剂以形成具有与由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域中的至少一个相对应的区域的波导结构。
制造波导组合方法

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