专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果1460个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]存储器系统-CN202311024606.4在审
  • 原德正;柴田升 - 铠侠股份有限公司
  • 2020-08-21 - 2023-10-27 - G06F3/06
  • 实施方式提供能够避免单元间相互干扰、削减写入缓冲器容量、抑制位错误率偏差的存储器系统。在存储器系统中,存储器系统内的存储器控制器:使非易失性存储器进行第1编程,以使得存储单元中的阈值区域根据第1位、第2位和第4位数据而成为表示数据已被擦除的擦除状态的第17阈值区域、和电压电平比第17阈值区域高的表示数据已被写入的写入状态的第18至第24阈值区域中的某个阈值区域,使非易失性存储器进行第2编程,以使得存储单元中的阈值区域根据第3位数据而从第17至第24阈值区域中的某个阈值区域变为第1至第16阈值区域中的两个阈值区域内的某个阈值区域,在使非易失性存储器进行第2编程的情况下,向非易失性存储器输入第2位和第3位数据。
  • 存储器系统
  • [发明专利]成膜装置和成膜方法-CN202310088366.8在审
  • 石丸友纪;户田将也;高桥恒太;虎谷健一郎;松尾和展 - 铠侠股份有限公司
  • 2023-02-09 - 2023-10-27 - C23C16/455
  • 本发明的实施方式涉及能够缩短成膜时间的成膜装置和成膜方法。实施方式的成膜装置具备:包含侧壁的腔室;设在腔室上部的喷淋头;设在腔室中并用于保持基板的保持器;向喷淋头供给第1气体的第1气体供给管;设在第1气体供给管上的第1阀;设在腔室的除喷淋头以外的区域上的气体供给部;向气体供给部供给第2气体的第2气体供给管;设在第2气体供给管上的第2阀;从腔室排出气体的气体排出管;以及与气体排出管连接的排气装置。
  • 装置方法
  • [发明专利]磁存储装置以及磁存储装置的制造方法-CN201910787760.4有效
  • 津端修一 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-08-26 - 2023-10-27 - H10N50/10
  • 实施方式提供一种更高性能的磁存储装置以及磁存储装置的制造方法。实施方式涉及的磁存储装置具备:层叠体,其包括第1铁磁性体、第1铁磁性体上的绝缘体、绝缘体上的第2铁磁性体;层叠体的上方的非磁性体;非磁性体的上方的第1导电体;以及第1导电体的上方的硬掩模。非磁性体具备相对于第1离子的束被以第1蚀刻速率除去的材料。第1导电体具备相对于第1离子的束被以第2蚀刻速率除去的材料。第1蚀刻速率比第2蚀刻速率低。
  • 存储装置以及制造方法
  • [发明专利]半导体存储装置-CN201910994616.8有效
  • 白川政信 - 铠侠股份有限公司
  • 2015-03-06 - 2023-10-27 - G11C16/04
  • 本发明的实施方式提供一种高品质半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置包括:非易失性存储单元晶体管(MT),相对于半导体衬底沿垂直方向延伸且具备多个存储单元晶体管(MT)的多个串单元(SU),具备多个串单元(SU)的多个区块(BLK),具备多个区块的存储单元阵列(130),在同一区块(BLK)内连接于多个存储单元晶体管(MT)的栅极电极的多条字线(WL),对存储单元晶体管(MT)进行数据的编程的控制电路(122),以及设置在控制电路(122)内且存储连接于存储单元晶体管(MT)的每条字线的编程条件数据的寄存器(122c)。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]半导体存储装置-CN202010091048.3有效
  • 吉村尚弥;中塚圭祐 - 铠侠股份有限公司
  • 2020-02-13 - 2023-10-27 - H10B43/10
  • 实施方式提供一种能够抑制电力消耗的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置包含第1至第4绝缘区域、以及第1及第2柱。多个第1绝缘区域沿着与第1方向交叉的第2方向设置。第1柱沿着第1方向贯通第2导电体层且设置于多个第1绝缘区域间。多个第2绝缘区域沿着第2方向设置。第2柱沿着第1方向贯通第7导电体层且设置于多个第2绝缘区域间。第3绝缘区域在第1绝缘区域与第2绝缘区域之间,沿着第2方向设置。第4绝缘区域在俯视下与第3绝缘区域隔开,且设置于第2导电体层与第7导电体层之间。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]半导体存储装置-CN201910115197.6有效
  • 古川哲也;筱智彰;野口充宏;渡边伸一;西田征男;田中启安 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-02-14 - 2023-10-27 - H10B43/27
  • 本发明提供半导体存储装置。半导体存储装置具备:半导体基板,在表面设置半导体部及绝缘部;存储单元阵列,设置在半导体基板的第1区域;第1晶体管,设置在半导体基板的第2区域;第2晶体管,设置在半导体基板的第3区域;绝缘性的积层膜,覆盖半导体基板的表面、第1、2晶体管。第1、2晶体管具有:第1半导体层;栅极电极;栅极绝缘膜。第2晶体管的栅极电极中的硼的浓度大于第1晶体管的栅极电极中的硼的浓度。绝缘性的积层膜具备:第1绝缘膜,与半导体基板的表面相接;第2绝缘膜,与第1绝缘膜相接,氢的扩散系数比第1绝缘膜小。第2绝缘膜具备与半导体基板的半导体部相接的第1部分,第1部分沿着第3区域的外缘延伸且包围第3区域。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]半导体存储装置-CN201910599225.6有效
  • 原田佳和 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-07-04 - 2023-10-27 - G11C5/02
  • 本发明的实施方式提供一种峰值电流较小的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备:第1、第2位线;第1、第2存储晶体管,分别连接于第1、第2位线;源极线,连接于第1、第2存储晶体管;以及字线,连接于第1、第2存储晶体管的栅极电极。在删除第1、第2存储晶体管的数据的删除动作中,执行第1删除电压施加动作,只对第1、第2存储晶体管的一者执行删除验证动作,对第1、第2存储晶体管的另一者不执行删除验证动作而执行第2删除电压施加动作。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]半导体存储装置-CN201910603183.9有效
  • 中泽新悟 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-07-05 - 2023-10-27 - G11C13/00
  • 本发明的实施方式提供一种能够较佳地控制的半导体存储装置。本发明的实施方式的半导体存储装置具备:第1配线;第1可变电阻元件,连接于第1配线;第1非线性元件,连接于第1可变电阻元件;第2配线,连接于第1非线性元件;第2可变电阻元件,连接于第1配线;第2非线性元件,连接于第2可变电阻元件;及第3配线,连接于第2非线性元件。另外,在读出动作或写入动作的第1时点,第1配线的电压成为第1极性的第1电压,第2配线的电压成为与第1极性不同的第2极性的第2电压。另外,在第1时点之后的第2时点,第1配线的电压成为小于第1极性的第1电压的大小的第3电压,第3配线的电压成为大于第1极性的第3电压的大小的第4电压。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]半导体存储装置-CN201910603754.9有效
  • 涩谷泰良 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-07-05 - 2023-10-27 - G11C16/04
  • 实施方式提供一种抑制了因数据保持造成的阈值电压变化的影响的半导体存储装置。根据实施方式,半导体存储装置包含具备多个存储单元的存储单元阵列(23)、多条字线、字线驱动器(25)、多条位线(BL)、经由多条位线(BL)检测多个存储单元的数据并且对多条位线施加位线电压的感测放大器电路(24)、以及控制部(22),控制部(22)控制字线驱动器(25)及感测放大器电路(24)以执行对各存储单元的数据写入动作。控制部(22)在写入动作中,根据选择存储单元的目标电平与邻接存储单元的阈值电平的差的状态来变更位线电压,所述选择存储单元连接在成为写入动作的对象的选择字,所述邻接存储单元连接在邻接于选择存储单元的邻接字线。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]原子探针检查装置、场离子显微镜及失真修正方法-CN201910709831.9有效
  • 池田隆洋;蔵本明;圷晴子 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-08-02 - 2023-10-27 - H01J37/26
  • 实施方式提供一种能够对进行试样的原子分布再构成后所得的图像,修正因试样的局部倍率而产生的失真的原子探针检查装置、场离子显微镜及失真修正方法。实施方式的原子探针检查装置具备变动部、检测部、特定部、制作部、推定部及再构成部。变动部使从同一位置脱离的离子在由位置敏感型检测器检测所得的位置发生变动。检测部检测位置信息及飞行时间。特定部特定出元素。制作部于在第1条件下检测出的二维位置、及在与第1条件不同的第2条件下检测出的二维位置,根据位置信息及飞行时间制作各再构成图像。推定部根据第1条件及第2条件各自的再构成图像的对应关系,推定与实际位置相关的信息。再构成部基于推定信息,再构成反映出实际原子配置的图像。
  • 原子探针检查装置离子显微镜失真修正方法
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN201910709932.6有效
  • 石田贵士;杉本尚丈;菅野裕士;冈本达也 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-08-01 - 2023-10-27 - H10B43/30
  • 本发明的实施方式提供一种能够减小半导体层内的晶粒的粒径的半导体装置及其制造方法。根据一实施方式,半导体装置具备:第1半导体层,作为具有导电性的多晶半导体层;第2半导体层,设置在所述第1半导体层上,作为具有导电性且粒径比所述第1半导体层小的多晶半导体层;及多个电极层,在第1方向相互隔开而积层于所述第2半导体层上。所述装置还具备:第3半导体层,在所述第1半导体层、所述第2半导体层、及各所述电极层内,以在所述第1方向延伸的方式设置,且以与所述第2半导体层相接的方式设置;及电荷储存层,设置于所述多个电极层与所述第3半导体层之间。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体存储装置-CN201910738092.6有效
  • 古桥弘亘 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-08-12 - 2023-10-27 - H10B63/10
  • 本发明涉及半导体存储装置。至少一个实施例提供了易于小型化的半导体存储装置。一种半导体存储装置包括第一导电层、第二导电层和设置在它们之间的第一硫属元素层。第三导电层和第四导电层之间设置有第二硫属元素层。第二硫属元素层包含碲(Te)。当沿第一方向观测到的第二硫属元素层中的碲的组成比的最小值和最大值分别为第一最小值和第一最大值时,在比第二硫属元素层的第一方向上的中心位置更靠近第三导电层的位置处观测到第一最小值,并且在比第二硫属元素层的第一方向上的中心位置更靠近第四导电层的位置处观测到第一最大值。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]半导体存储装置及其制造方法-CN201910748426.8有效
  • 小泽歩 - 铠侠股份有限公司
  • 2019-08-14 - 2023-10-27 - H10B43/20
  • 本发明的一实施方式涉及一种半导体存储装置及其制造方法。实施方式的半导体存储装置在积层着多层由导电层及绝缘层的组构成的单位层而成的积层体,设置三维地配置着存储单元的存储单元阵列、及将所述导电层与接点连接的接点部。所述接点部包含接点配置部、及连接部。所述接点配置部包含具有朝向离开所述存储单元阵列的第1方向降阶的各阶差的降阶阶差群、及具有朝向所述第1方向升阶的各阶差的升阶阶差群。所述连接部将所述存储单元阵列的所述导电层与被分断的所述升阶阶差群的所述导电层连接。
  • 半导体存储装置及其制造方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top