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[发明专利]一种电路板刻蚀装置及使用方法-CN201910050992.1在审
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2019-01-21 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种电路板刻蚀装置及使用方法，主要解决了现有技术中由于放置电路板固定时不稳定，导致刻蚀时及后续喷淋清洗对电路板进行作业时松动，使制造的质量下降的问题。该一种电路板刻蚀装置包括：第一工作仓，所述第一工作仓内具有刻蚀机，所述刻蚀机设置在所述第一工作仓内上方；及装载部，所述装载部设置在所述第一工作仓内下方；第二工作仓，所述第二工作仓设置在所述第一工作仓右方；第三工作仓，所述第三工作仓设置在所述第二工作仓右方；控制箱，所述控制箱设置在所述第一工作仓左方；导轨，所述导轨穿过第一工作仓、第二工作仓与第三工作仓，所述装载部设置在所述导轨上方。
工作仓电路板刻蚀装置导轨装载刻蚀机控制箱电路板固定喷淋清洗质量下降刻蚀松动穿过制造

[发明专利]一种硅片腐蚀工艺固定载具及固定方法-CN201910051002.6在审
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2019-01-21 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片腐蚀工艺固定载具，涉及硅片腐蚀技术领域，包括载具主体、第一固定单元、至少二调整固定件、传导件。第一固定单元具有凹口。调整固定件处于相对方向，调整固定件的相对端面朝向载具主体的中心，调整固定件连接载具主体与第一固定单元，其中一个调整固定件具有正螺纹，另一个调整固定件具有逆螺纹，调整固定件还具有延伸件、滑件，延伸件具有一定长度，滑件连接延伸件。传导件具有伸缩口，延伸件位于伸缩口中，伸缩口具有滑槽，滑槽连接滑件。本发明在两个调整固定件的正螺纹和逆螺纹作用下，两个第一固定单元以相同的速度和相同的力度夹紧硅片。在夹紧硅片的同时防止硅片中心与载具主体中心产生偏离，影响产品质量。
调整固定件固定单元载具主体硅片腐蚀延伸件滑件传导件伸缩口正螺纹硅片夹紧载具连接延伸件硅片中心滑槽连接螺纹作用影响产品中心产生螺纹伸缩凹口滑槽偏离

[发明专利]一种集成电路板研磨装置及使用方法-CN201811449562.9在审
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种集成电路板研磨装置，涉及集成电路板加工技术领域。在本申请中，集成电路板研磨装置，包括：底座；放置部，该放置部固定连接于底座，该放置部具有：托盘，该托盘连接在底座的内部；防护罩，该防护罩设置在托盘的上表面；输送部，该输送部固定连接于该底座；移动部，该移动部连接于该底座；研磨部，该研磨部连接于该移动部；及固定部，该固定部连接于该底座。本申请通过研磨部对集成电路板存在高低起伏不平的表面进行研磨，解决光刻时无法被精确对焦的问题，提高产品平坦程度。
集成电路板底座托盘研磨装置研磨部移动部防护罩固定部加工技术领域高低起伏研磨上表面对焦光刻申请不平平坦

[实用新型]一种防止刮擦掩膜版边缘设备-CN201820006752.2有效
发明人：吴伍军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-01-03 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防止刮擦掩膜版边缘设备，包括掩膜版台面，所述掩膜版台面的顶部固定安装有六个固定销，且掩膜版台面的顶部放置有掩膜版，所述掩膜版与六个固定销均相配合，且掩膜版台面的一侧固定安装有竖直板，所述竖直板的顶部延伸至掩膜版台面的上方，且竖直板靠近掩膜版台面的一侧顶部焊接有顶板，所述顶板的底部开设有第一安装槽，且第一安装槽内安装有第一推杆电机，所述第一推杆电机的输出轴上焊接有横板，且横板的底部两侧均焊接有放置板，两个放置板相互靠近的一侧均开设有第二安装槽。本实用新型通过移动板和风机，方便清除掩膜版上、下表面的灰尘，并通过弹簧和盛装箱，方便在清除掩膜版时将掩膜版固定，提高掩膜版的稳定性。
掩膜版安装槽竖直板焊接本实用新型掩膜版边缘推杆电机放置板固定销刮擦横板台面盛装箱输出轴下表面移动板弹簧风机延伸配合

[发明专利]一种硅片切割机切削液冷却装置及冷却方法-CN201810977876.X在审
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-08-27 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： B28D5/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种硅片切割机切削液冷却装置及冷却方法，具体涉及硅片加工领域，包括：进水管道；制冷机构，该制冷机构与进水管道连接；储水机构，该储水机构包括储水桶和入流管道，入流管道一端连接制冷机构，另一端连接储水桶，储水桶内设置有温度检测器三和制冷泵；出水管道，该出水管道设置在储水桶上。本申请通过在储水桶内设置温度检测器三和制冷泵，对储水桶内的切削液的温度进行监控和维持，使储水桶内的切削液维持在低温状态。
储水桶切削液制冷机构硅片切割机温度检测器出水管道储水机构进水管道冷却装置入流管道一端连接制冷泵冷却低温状态硅片加工申请监控

[发明专利]溅射工艺中的批量硅片衬底处理装置-CN201810334215.5在审
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-04-14 - 公布日： 2018-08-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种溅射工艺中的批量硅片衬底处理装置，其包括有用于放置硅片的放置盘；所述放置盘的底端面设置有多个加热孔，加热孔连通至设置在放置盘外部的加热管道，加热管道连接有加热源；所述放置盘之中设置有在水平方向上延伸的滤网，滤网的边部设置有支撑边框，支撑边框固定设置于放置盘的侧端面；所述放置盘之中，支撑边框的底端部设置有多个振动电机；采用上述技术方案的溅射工艺中的批量硅片衬底处理装置，滤网下方的振动电机可通过驱使滤网振动以使得滤网上的批量硅片得以均匀分布，避免批量硅片处理过程中需人工摆放均匀以导致的效率下降，同时可使得批量硅片在生产过程中的加热均度得以改善。
放置盘硅片滤网衬底处理装置支撑边框溅射加热管道振动电机加热孔固定设置硅片处理生产过程侧端面底端部底端面热源边部加热连通摆放外部延伸

[实用新型]一种半导体金属DEP的异常处理装置-CN201820007216.4有效
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-01-03 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： C30B33/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体金属DEP的异常处理装置，包括处理装置主体，所述处理装置主体上设有腔室，所述腔室的底部内壁上固定安装有反应池，所述腔室的顶部内壁上开设有嵌入槽，所述嵌入槽的顶部内壁上固定安装有步进电机，所述步进电机的输出轴上焊接有第一连接轴，所述第一连接轴的底端焊接有转盘，所述转盘的底部一侧开设有第一凹槽，所述第一凹槽的两侧内壁上均焊接有固定块，两个固定块相互靠近的一侧均开设有通槽。本实用新型使用方便，通过对CU析出晶片的退火，每年平均减少800片由于ALCU空闲的引起的WAT参数异常，且可以极大的减少金属DEP异常引起的报废，通过对金属DEP异常晶片的返工，每年平均减少大约70片的晶片报废，可节省20万元左右的成本。
腔室焊接处理装置主体异常处理装置半导体金属本实用新型步进电机顶部内壁固定块连接轴嵌入槽晶片转盘报废退火金属析出底部内壁两侧内壁异常晶片反应池输出轴底端返工通槽空闲

[实用新型]一种便于更换保养的P5K-MXP石英护罩机构-CN201820006854.4有效
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-01-03 - 公布日： 2018-07-27 - 主分类号： H01J37/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种便于更换保养的P5K‑MXP石英护罩机构，包括石英件，所述石英件为环形结构，所述石英件的内侧安装有拆卸环，所述拆卸环的内侧固定安装有保养本体，所述拆卸环的外侧开设有多个限位槽，所述石英件的内侧设有多个滑动槽，多个滑动槽与多个限位槽一一对应，所述限位槽内滑动安装有方形限位柱，所述方形限位柱远离保养本体的一侧延伸至相对应的滑动槽内并开设有调节槽，所述调节槽内滑动安装有转动杆，所述滑动槽的底部内壁上滑动安装有滑板，所述滑板的顶部安装有驱动电机。本实用新型实用性能高，结构简单，操作方便，便于对方形限位柱进行移动，解除对拆卸环的固定，从而便于对保养本体进行拆卸更换。
保养拆卸环滑动槽石英件滑动安装限位槽本实用新型方形限位柱石英护罩滑板拆卸更换底部内壁顶部安装环形结构驱动电机实用性能限位柱转动杆延伸移动

[发明专利]磁控直流溅射系统中除气装置-CN201810334208.5在审
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-04-14 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控直流溅射系统中除气装置，其包括有除气腔室，以及延伸至除气腔室内部的传输轨道；所述除气腔室之中，传输轨道由两个彼此平行的传输链条构成，两条传输链条之中分别设置有多个传输孔，两条传输链条之中的传输孔一一相对；每一个传输孔内均设置有传输连杆，传输连杆采用“L”型结构，其端部设置有用于放置物料的置放盘，置放盘在水平方向上进行延伸；采用上述技术方案的磁控直流溅射系统中除气装置，其使得物料的上端面与下端面均可保持与空气的接触，从而使得除气腔室对于物料的湿气去除效果得以显著改善。
直流溅射系统除气腔室除气装置传输链条传输孔磁控传输轨道置放盘传输彼此平行湿气去除除气腔上端面室内部下端面延伸

[发明专利]溅射工艺中的硅片加热装置-CN201510806307.5有效
发明人：史进;伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2015-11-20 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种溅射工艺中的硅片加热装置，其包括有用于放置硅片的放置盘；所述放置盘的底端面设置有多个加热孔，加热孔连通至设置在放置盘外部的加热管道，加热管道连接有加热源；所述放置盘的底端面采用弧形结构，其朝向加热管道进行弯曲，放置盘的底端面设置有用于置放硅片的放置端板，放置端板沿放置盘的底端面成环形分布，且其所处高度高于放置盘的最低位置；多个加热孔在放置端板与放置盘的最低位置之间均匀分布；采用上述技术方案的溅射工艺中的硅片加热装置，其使得硅片衬底的各个位置可进行均匀加热，从而避免硅片因与放置盘的接触而导致部分区域被遮盖的现象。
放置盘硅片底端面加热管道加热装置加热孔溅射端板弧形结构环形分布均匀加热端板沿热源衬底置放连通遮盖外部

[发明专利]一种便于更换保养的P5K-MXP石英护罩机构-CN201810004455.9在审
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-01-03 - 公布日： 2018-05-08 - 主分类号： H01J37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种便于更换保养的P5K‑MXP石英护罩机构，包括石英件，所述石英件为环形结构，所述石英件的内侧安装有拆卸环，所述拆卸环的内侧固定安装有保养本体，所述拆卸环的外侧开设有多个限位槽，所述石英件的内侧设有多个滑动槽，多个滑动槽与多个限位槽一一对应，所述限位槽内滑动安装有方形限位柱，所述方形限位柱远离保养本体的一侧延伸至相对应的滑动槽内并开设有调节槽，所述调节槽内滑动安装有转动杆，所述滑动槽的底部内壁上滑动安装有滑板，所述滑板的顶部安装有驱动电机。本发明实用性能高，结构简单，操作方便，便于对方形限位柱进行移动，解除对拆卸环的固定，从而便于对保养本体进行拆卸更换。
一种便于更换保养 p5k mxp 石英护罩机构

[发明专利]一种半导体金属DEP的异常处理装置-CN201810004834.8在审
发明人：伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2018-01-03 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： C30B33/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体金属DEP的异常处理装置，包括处理装置主体，所述处理装置主体上设有腔室，所述腔室的底部内壁上固定安装有反应池，所述腔室的顶部内壁上开设有嵌入槽，所述嵌入槽的顶部内壁上固定安装有步进电机，所述步进电机的输出轴上焊接有第一连接轴，所述第一连接轴的底端焊接有转盘，所述转盘的底部一侧开设有第一凹槽，所述第一凹槽的两侧内壁上均焊接有固定块，两个固定块相互靠近的一侧均开设有通槽。本发明使用方便，通过对CU析出晶片的退火，每年平均减少800片由于ALCU空闲的引起的WAT参数异常，且可以极大的减少金属DEP异常引起的报废，通过对金属DEP异常晶片的返工，每年平均减少大约70片的晶片报废，可节省20万元左右的成本。
一种半导体金属 dep 异常处理装置

[实用新型]DMOS圆片加工过程中的超声波处理设备-CN201520929693.2有效
发明人：史进;伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2015-11-20 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种DMOS圆片加工过程中的超声波处理设备，其包括有用于超声波处理的超声波腔室以及传输轨道，传输轨道之中设置有多根沿传输轨道径向延伸的第一连接杆件，每一根第一连接杆件之上均设置有安置装置；所述安置装置包括有两根垂直于第一连接杆件延伸的第二连接杆件，所述第二连接杆件端部设置有支撑杆件，相邻两根支撑杆件之间设置有滤网；采用上述技术方案，其通过滤网对圆片进行安置可使得圆片与超声波腔室内清洁液的接触面积得以显著增加，同时通过滤网的柔性支撑，进一步避免圆片的掉落；此外，第一传输轨道的运动方向可使得圆片在清洁液内的清洁时间得以改善，从而使得其清洁效果得以提升。
dmos 加工过程中的超声波处理设备

[发明专利]DMOS圆片传输履带速度控制装置-CN201510806224.6在审
发明人：史进;伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2015-11-20 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： B65G23/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种DMOS圆片传输履带速度控制装置，其包括有传输履带，传输履带内部设置有多个辊筒与滚轮轴，传输履带在多个辊筒与滚轮轴之间进行延伸；所述传输履带中，至少一个滚轮轴之上设置有光电检测装置，光电检测装置包含有设置在滚轮轴之上的光电检测盘，以及与光电检测盘相对的光电传感器；采用上述技术方案的DMOS圆片传输履带速度控制装置，其可通过光电检测装置对于滚轮轴的旋转速度进行监测；由于滚轮轴用于控制传输履带的前行与转向，滚轮轴的转速即为传输履带，故而上述技术方案可通过光电检测装置实时检测滚轮轴的转速，从而对传输履带的速度进行监测，并对其进行相应控制，以确保圆片加工的稳定性。
dmos 传输履带速度控制装置

[实用新型]蒸发镀膜工艺中的圆片固定装置-CN201520929695.1有效
发明人：史进;伍志军 -专利权人： 苏州赛森电子科技有限公司
申请日： 2015-11-20 - 公布日： 2016-04-27 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蒸发镀膜工艺中的圆片固定装置，其包括有工作腔室，工作腔室上端部设置有固定台；所述固定台的轴线位置设置有吸附管道，其连通至设置在工作腔室外部的真空吸附泵；所述吸附管道包括有第一管道与第二管道，第一管道与真空吸附泵进行连接，第二管道与固定台进行连接，第二管道延伸至第一管道内部，第一管道与第二管道的连接位置设置有密封圈；所述第二管道之上设置有从动齿轮，工作腔室的上端部设置有与从动齿轮相啮合的主动齿轮，主动齿轮由电机进行驱动；采用上述技术方案，其可使得圆片在实现其旋转加工的同时，避免常规固定方式对其表面进行损坏。
蒸发镀膜工艺中的固定装置