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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于在真空沉积工艺中在基板上沉积材料的方法、设备和靶材-CN201780082885.6有效
发明人： 细川昭弘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-01-09 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本公开内容提供了一种用于在具有溅射靶材的真空沉积工艺中在基板上沉积材料的方法。所述方法包括在操作期间将溅射靶材的靶材温度提供为在期望靶材温度范围内，以调整所述溅射靶材的两个相邻靶材段的间隙的间隙宽度。
用于真空沉积工艺基板上材料方法设备

[其他]沉积设备-CN201890001646.3有效
发明人：于尔根·格里尔迈尔;稻川真;苏哈斯·博斯基;细川昭弘;奥利弗·格拉沃尔;西蒙·刘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-30 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：描述了一种沉积设备。所述沉积设备包括：第一沉积源，所述第一沉积源被配置为在基板接收区域中沉积材料；以及掩蔽元件，所述掩蔽元件设置在所述第一沉积源与所述基板接收区域之间，所述掩蔽元件被配置为移动以调整距所述基板接收区域的掩模距离来沉积所述材料。
沉积设备

[发明专利]用于在基板上沉积材料的蒸发器、形成蒸发器的方法、及用于在柔性基板上沉积材料的蒸发设备-CN201880094621.7在审
发明人： 细川昭弘;马克·特朗 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于在基板上沉积至少一个材料的蒸发器，蒸发器具有至少一个纵向元件，所述至少一个纵向元件包括前侧及背侧；前侧经构造以接收要被蒸发的材料；并且背侧背向前侧且至少部分地涂布有至少一个隔热材料。
用于基板上沉积材料蒸发器形成方法柔性蒸发设备

[发明专利]摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统-CN201880094749.3在审
发明人：金庆泰;洛克莎·雷迪;佐木马·山木甘;细川昭弘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：描述了一种用于使基板相对于具有纵轴的一或多个沉积源移动的摆动设备。所述摆动设备包括：支撑主体，所述支撑主体用于保持所述基板；旋转机构，所述旋转机构耦接至所述支撑主体以使基板围绕旋转轴移动一角度，以将基板取向从传递或水平取向改变为处理区域处的处理或竖直取向；以及线性运动机构，所述线性运动机构耦接至所述支撑主体，以在所述基板处于处理取向时使所述基板相对于所述沉积源的纵轴平移。
摆动设备处理方法用于传递接收模块真空系统

[发明专利]无再沉积溅射系统-CN201880031511.6在审
发明人： 细川昭弘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-04-25 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种圆柱靶材组件，用于在物理气相沉积处理腔室中使用而用于磁性增强的溅射应用。在此处所公开的实施方式中，围绕可旋转的背衬管设置的圆柱靶材具有一个或多个轮廓端部，符合位于均匀磁场的外侧的磁性溅射线。轮廓端部避免或实质上减少再沉积材料聚积于圆柱靶材组件的任一端部，而期望地减少在处理腔室中及在其中处理的基板的表面上的粒子污染物。
圆柱靶材处理腔室轮廓端部物理气相沉积粒子污染物均匀磁场可旋转的背衬管再沉积聚积基板溅射射线期望应用

[发明专利]用于在真空沉积工艺中在基板上进行材料沉积的设备、用于在基板上进行溅射沉积的系统和用于制造用于在基板上进行材料沉积的设备的方法-CN201680086715.0在审
发明人： 细川昭弘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-06-16 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本公开内容提供一种用于在真空沉积工艺中在基板上进行材料沉积的设备。所述设备包括：靶材支撑件；两个或更多个靶材分段，所述两个或更多个靶材分段由所述靶材支撑件支撑，其中在所述两个或更多个靶材分段的相邻靶材分段之间设有第一间隙；和两个或更多个粘合层部分，两个或更多个粘合层部分的每个粘合层部分将所述两个或更多个靶材分段中的相应靶材分段粘合到所述靶材支撑件，其中相邻靶材分段的粘合层部分由大于所述第一间隙的第二间隙彼此分开。
靶材分段粘合层基板材料沉积支撑件真空沉积工艺彼此分开溅射沉积内容提供粘合支撑制造

[发明专利]高性价比的整体式旋转靶材-CN201480083194.4在审
发明人： 细川昭弘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-11-07 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：描述了整体式旋转靶材。所述靶材包括溅射区域和凸缘区域，其中所述溅射区域由第一材料制成且所述凸缘区域由所述第一材料制成。所述溅射区域和所述凸缘区域是一体形成的。
性价比整体旋转

[其他]溅镀靶材组件-CN201490000406.3有效
发明人： 细川昭弘;J·M·怀特;任东吉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-01-17 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型一般涉及一种溅镀靶材组件。锌被用于金属氧化物半导体材料，如IGZO、氧化锌和氮氧化锌。所述锌可通过在期望气氛下溅镀锌靶材来传递。如果使用纯锌溅镀靶材，那么除非使迁移率(mobility)减至10cm²/V-s以下，否则无法生产稳定的膜。通过添加一掺杂物(如镓)，不仅可以沉积稳定的膜，而且所述膜会具有大于30cm²/V-s的迁移率。所述掺杂物可直接并入所述锌中，或者作为直接邻近所述锌溅镀靶材的单独溅镀靶材。
溅镀靶材组件

[发明专利]改进的PVD靶-CN201010518678.0有效
发明人：稻川真;布拉德利·O·斯廷森;细川昭弘;希恩米恩·赫·李;吉瑞伊恩·杰里·陈 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-06-22 - 公布日： 2011-02-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了配置一种物理气相沉积靶组件以使靶粘接层与处理区域隔离。在一实施方式中，所述靶组件包括背板，具有第一表面和第二表面的靶，以及设置在所述背板和所述第二表面之间的粘接层。所述靶的第一表面与处理区域流体接触以及所述靶的第二表面朝所述背板定向。所述靶组件可包括多个靶。
改进 pvd

[发明专利]在大面积基材上反应性溅射氧化锌透明导电氧化物-CN200780011777.6有效
发明人： A·K·劳;稻川真;B·O·史汀生;细川昭弘;J·M·怀特;Y·叶;A·卡达姆;李洋平 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-04-06 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明大体上包括一个或多个冷却的阳极，这些冷却阳极遮盖着一个或多个气体引导管，其中这些冷却阳极与这些气体引导管跨越了定义在溅射室中且介在一个或多个溅射靶与一个或多个基材之间的处理空间。这些气体引导管可能具有多个气体出口，以将导入的气体导向远离该一个或多个基材的方向。这些气体引导管可引导诸如氧气等反应性气体进入溅射室中，以利用反应性溅射作用来沉积TCO膜层。在多步骤溅射工艺中，可改变气流(即，气体的量与种类)、靶与基材之间的间距以及直流功率来达到想要的结果。
大面积基材反应溅射氧化锌透明导电氧化物

[实用新型]一种物理气相沉积装置以及与其相关的防护套件-CN200720150349.9有效
发明人： 细川昭弘;布拉德利·O·斯廷森;希恩·米赫·胡·勒;稻川诚 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-06-19 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型主要包括用于减少PVD腔室内剥落的一种物理气相沉积装置及与其相关的防护套件。在一个实施方式中，公开了一种防护套件。该套件包括歧管架；与歧管架耦接的冷却歧管，其中冷却管道与冷却歧管耦接；与冷却歧管耦接的顶护板，其中顶护板具有小于冷却歧管内宽度的内宽度；以及与冷却歧管耦接的下护板，其中该下护板具有大于顶护板内宽度但是小于冷却歧管内宽度的内宽度。该顶护板可保持在固定位置并至少部分防护该阴影框架以减少在处理期间可能在该阴影框架上沉积的材料量。可冷却该顶护板以在处理和/或在停机时间期间减少该顶护板和阴影框架温度变化量。
一种物理沉积装置以及与其相关防护套件

[实用新型]应用于平板电器的单块溅射靶组件及使用其的溅射装置-CN200720176817.X有效
发明人：布拉德利·O·斯廷森;细川昭弘;稻川真 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-09-12 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型包含用于在大面积衬底上沉积材料的单块溅射靶组件。溅射靶组件可以包含在单块结构中的溅射靶和靶托。由于溅射靶和靶托作为单块结构，则不需要粘接。另外，冷却通道可以埋到单块结构中，使得冷却液可以在溅射靶组件中流动，从而不需要在溅射靶组件后面设置分立的冷却组件。
应用于平板电器溅射组件使用装置

[发明专利]改进的PVD靶-CN200710123033.5有效
发明人：稻川真;布拉德利·O·斯廷森;细川昭弘;希恩米恩·赫·李;吉瑞伊恩·杰里·陈 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-06-22 - 公布日： 2008-01-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了配置一种物理气相沉积靶组件以使靶粘接层与处理区域隔离。在一实施方式中，所述靶组件包括背板，具有第一表面和第二表面的靶，以及设置在所述背板和所述第二表面之间的粘接层。所述靶的第一表面与处理区域流体接触以及所述靶的第二表面朝所述背板定向。所述靶组件可包括多个靶。
改进 pvd

[发明专利]随机脉冲直流电源供应器-CN200610095617.1无效
发明人： 细川昭弘 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2006-06-21 - 公布日： 2006-12-27 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明揭示一种电源供应器，其是用于一具有一标的物及一基材支撑件的物理气相沉积室，该电源供应器包含一电源，该电源是配置以用一相对于基材支撑件的溅射电压偏压该标的物，且配置以当在该物理气相沉积室中侦测到一电弧后，以约一秒的期间约10或更多次的反转电压来偏压该标的物。
随机脉冲直流电源供应

[发明专利]用于均匀加热基片的腔室-CN200380109616.2有效
发明人：稻川真;细川昭弘 -专利权人：应用材料有限公司
申请日： 2003-12-15 - 公布日： 2006-03-15 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在第一方面，设置有用于加热基片的第一装置。该第一装置包括：(1)具有底部和顶部的处理室；(2)多个在上述室内设置的经加热了的支承件，用以支承其上的至少两个基片；(3)在上述室内设置在上述室的侧壁和多个基片支承件之间的加热器，具有边缘区和中央区。上述加热器被设计成相比在加热器的中央区内，在边缘区内能够产生更多的热量。而且还提供有其他的方面。
用于均匀加热

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