专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有辅助偏置电极的UMOSFET及其制作方法-CN202210346196.4在审
  • 段宝兴;邢蓝天;王彦东;杨银堂 - 西安电子科技大学
  • 2022-03-31 - 2023-10-24 - H01L29/78
  • 一种具有辅助偏置电极的UMOSFET及其制作方法,旨在缓解沟槽拐角处的电场集中,同时降低器件的比导通电阻。本发明包括兼作漏区的N+型衬底、N+型衬底的上表面形成的N型外延层;N型外延层纵向刻蚀沟槽形成U形结构;沟槽两侧的N型外延层上部通过离子注入自下而上设置有P型基区和源区;沟槽内壁纵向范围覆盖有栅氧化层;沟槽内设置有“凸”字形辅助偏置电极、包裹在辅助偏置电极的第一多晶硅层间介质层以及偏置电极氧化层,栅极与辅助偏置电极下部上端面之间填充有第二多晶硅层间介质层;源区上表面覆盖有源极,两个源极共接。该器件可以同时获得更高的击穿电压和更低的导通损耗,实现击穿电压与比导通电阻之间的良好折衷。
  • 具有辅助偏置电极umosfet及其制作方法
  • [发明专利]一种10bit寻址模式下的I2-CN202310644277.7在审
  • 段宝兴;孙亚威;邓军;杨银堂 - 西安电子科技大学
  • 2023-06-01 - 2023-09-19 - G06F13/42
  • 本发明涉及一种I2C总线传输方法,具体涉及一种10bit寻址模式下的I2C总线传输方法。解决了现有I2C的10bit寻址模式存在寄存器配置难度加大、主从机状态数量增加以及主从机状态跳转复杂的技术问题。本发明方法包括以下步骤:1)主机选择10bit寻址模式;2)主机发送SCL时钟并控制从机SCL时钟总线,从机监测起始信号和停止信号;3)主机产生起始信号并发送第一个地址信号;从机接收第一个地址信号,将接收的地址和自身10bit地址的前两位进行匹配,若匹配成功,则返回应答信号;4)主机接收应答信号,将第二个地址信号发送到总线上;从机接收第二个地址信号并与自身地址的后8位进行匹配;若匹配成功,则返回应答信号,建立主机和从机的通讯;5)进行通讯。
  • 一种10bit寻址模式basesup
  • [发明专利]结型积累层增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管及其制作方法-CN202110843929.0有效
  • 段宝兴;杨珞云;杨银堂 - 西安电子科技大学
  • 2021-07-26 - 2023-03-14 - H01L29/06
  • 本发明公开了一种结型积累层增强型AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管,该晶体管在AlGaN层和GaN层表面生长积累介质层,相应分别与欧姆源极、欧姆漏极相接;在栅源区域积累介质层上生长外延层,外延层的左端和右端通过离子注入形成P+区和N+区;并通过欧姆接触在外延层左端N+区上方形成外延栅极,右端P+区上方形成外延漏极;欧姆漏极与外延漏极通过导线连接,作为器件的漏极;肖特基栅极与外延栅极通过导线连接,作为器件的栅极;当栅极加正电压时,积累介质层在GaN层中产生大量电子与二维电子气连接,形成导通沟道,实现了器件增强型;器件反向偏置时,通过AlGaN外延层可优化内部电场,使电场分布更均匀,可大幅度提高器件的击穿电压。
  • 积累增强algangan电子迁移率晶体管及其制作方法

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