专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种PCB板的缺陷打标方法及设备-CN202210846679.0有效
  • 张超;张骏;陈锐钊 - 深圳明锐理想科技有限公司
  • 2022-07-05 - 2023-10-20 - B23K26/362
  • 本发明的实施例公开了一种PCB板的缺陷打标方法及设备,该方法包括:通过获取PCB板的图像信息;根据图像信息中的元件信息确定PCB板的缺陷类型和缺陷严重程度,并根据缺陷类型和缺陷严重程度确定PCB板为复检板或销毁板;控制打标笔对复检板和销毁板按照预设的打标方式进行打标。本发明公开的PCB板的缺陷打标方法,可以识别PCB板的缺陷类型和缺陷严重程度,并将其分类为复检板或销毁板,对复检板和销毁板按照预设打标方式进行打标操作,方便人工复检时能够一眼就看出缺陷类型和缺陷严重程度,并对其进行维修或者回收,有益于工厂节约成本并提高人工复查效率,从而提高生产效率。
  • 一种pcb缺陷方法设备
  • [发明专利]电化学抛光方法-CN202211581781.9有效
  • 张超;张丽;张佳悦 - 荣耀终端有限公司
  • 2022-12-09 - 2023-10-20 - C25F3/24
  • 本申请提供一种电化学抛光方法,电化学抛光方法包括以下步骤:步骤S1,在待抛光件的外表面形成金属盐液体膜,金属盐液体膜包覆待抛光件的外表面,得到覆膜件;其中,金属盐液体膜由金属盐溶液形成,金属盐溶液包括金属盐和溶剂,金属盐中的金属离子包括电解金属离子,电解金属离子为待抛光件电解后产生的金属离子,溶剂的运动粘度为35mm2/s~45mm2/s;步骤S2,将覆膜件置于电解液中;电解液包括金属盐的阴离子;步骤S3,以覆膜件为工作电极,对覆膜件进行电化学抛光。该电化学抛光方法适用于对金属结构件进行抛光,不仅保证抛光效果好,还能够保持金属结构件的形状精度,利于提升与其他结构件进行装配的装配精度。
  • 电化学抛光方法
  • [发明专利]模糊测试处理方法、装置、模糊测试系统及存储介质-CN202310665048.3有效
  • 张超;牟思睿 - 清华大学
  • 2023-06-07 - 2023-10-20 - G06F11/36
  • 本申请提供一种模糊测试处理方法、装置、模糊测试系统及存储介质,涉及软件测试技术领域,方法包括:构建闭源操作系统的虚拟运行环境,并在虚拟运行环境中模拟运行闭源操作系统的内核;录制内核在运行过程中程序的执行轨迹;对执行轨迹进行重放,并在重放过程中根据所捕捉的内核中的关键执行动作,获取内核中的系统调用接口的描述信息;描述信息用于生成符合内核的系统调用接口要求的模糊测试用例,描述信息包括系统调用列表,以及,每个系统调用接口所需的参数数量以及每个参数的数据类型。本申请的方法,提高了针对闭源操作系统的模糊测试效率。
  • 模糊测试处理方法装置系统存储介质
  • [发明专利]存储器件及其多遍编程操作-CN202180001045.9有效
  • 张超;李跃平;李海波 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-03-30 - 2023-10-20 - G11C16/10
  • 在某些方面中,一种存储器件包括:具有多行存储单元的存储单元阵列;分别耦合至多行存储单元的字线;以及通过字线耦合至存储单元阵列的外围电路。每个存储单元被配置为将N位数据段存储在2N个级中的一个级中,其中,N是大于1的整数。该级对应于2N个N位数据段中的一个N位数据段。外围电路被配置为在第一遍中对一行目标存储单元编程,从而基于将存储在目标存储单元中的N位数据段将该行目标存储单元中的每个编程到2N/m个中间级中的一个中间级中,其中,m是大于1的整数。外围电路还被配置为在第一遍之后的第二遍中对该行目标存储单元编程,从而基于将存储在目标存储单元中的N位数据段将每个目标存储单元编程到2N个级中的一个级中。
  • 存储器件及其编程操作
  • [发明专利]一种静电旋杯喷枪-CN202310904092.5有效
  • 张超;张昭;刘娜;刘金锋;陈晓杰 - 山东九鸿新材料集团有限公司
  • 2023-07-24 - 2023-10-20 - B05B5/04
  • 本发明公开了一种静电旋杯喷枪,涉及静电喷射装置领域能使喷雾带电的喷射装置,包括喷枪外壳、进漆接头、马达、隔离罩、排气机构和雾化旋杯,所述喷枪外壳的中部嵌入安装有导气盘,所述喷枪外壳的开口侧边缘通过螺纹环与隔离罩进行螺纹连接。该静电旋杯喷枪,推拉电磁铁带动调节柱沿着操作孔横移,使得菱形结构的挡块在变向槽内调换位置来实现直通道和V形通道的切换使用,当连接套旋转带动辅助轮沿着定向槽进入到V形通道时,雾化旋杯在旋转打散油漆液时还能沿着旋转轴的轴线方向伸缩运动,可以改变雾化旋杯与隔离罩开口侧边缘之间的出风口间隙,进而将涂料喷涂面进行波动式调整,避免静电旋杯喷枪在喷涂工件时产生喷涂死角和盲区。
  • 一种静电喷枪
  • [发明专利]低压降二极管及其制造方法-CN202311051317.3有效
  • 张超;黎重林;庄翔;胡潘婷 - 捷捷半导体有限公司
  • 2023-08-21 - 2023-10-20 - H01L29/06
  • 本发明的实施方式提供了一种低压降二极管及其制造方法,属于半导体技术领域,在N+型掺杂类型的衬底上,光刻出注入孔内疏外密且内小外大的注入图形,并注入第二设定浓度的掺杂离子,进行去胶和清洗,在去胶和清洗结束后,外延生长N型漂移区,随后进行高温扩散,以使注入的掺杂离子在N型漂移区的底部四周形成N型补偿区,并在N型漂移区上形成主结和场限环,以制造出低压降二极管,使二极管的N型漂移区的底部四周存在越靠近边缘浓度越高的N型补偿区,从而使主结的耗尽层刚好截止在N型补偿区边界,不影响击穿电压,并提高N型漂移区四周及场限环下方的载流子浓度,以降低N型漂移区的电阻,进而极大地减小二极管的导通压降。
  • 低压二极管及其制造方法

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