专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]键合用晶圆、键合结构以及键合方法-CN202111581105.7在审
  • 曹语盟;陈凡;袁琨;卢基存;周华 - 光华临港工程应用技术研发(上海)有限公司
  • 2021-12-22 - 2022-04-05 - H01L23/544
  • 本发明提供一种键合用晶圆、键合结构以及键合方法。所述键合方法包括如下步骤:提供键合用的第一晶圆和第二晶圆;在第一晶圆和第二晶圆上形成对准标记,对准标记包括晶圆表面图形或者晶圆通孔。至少有一个晶圆具有通孔,透过该晶圆通孔可以观察到另外一个晶圆的对准标记;以第一晶圆和第二晶圆上的对准标记为基准,将第一晶圆和第二晶圆键合。本发明由于采用晶圆通孔实现可见光同时观察两个晶圆对准标记的直接对准键合,不需要透过硅晶圆的红外辅助装置或者对两个晶圆分别预先定位的机械对准过程,并且对晶圆的透光性无特别要求。
  • 合用结构以及方法
  • [发明专利]晶圆键合方法及晶圆键合结构-CN202110358013.6在审
  • 卢基存;周华 - 光华临港工程应用技术研发(上海)有限公司
  • 2021-04-01 - 2021-08-06 - H01L21/768
  • 本发明提供一种晶圆键合结构及晶圆键合方法,键合方法包括三种:第一种包括:第一晶圆和第二晶圆通过粘接层键合,制造第二晶圆硅通孔和粘接层通孔,电镀形成两个晶圆之间的铜通孔连接;第二种包括:制造第二晶圆硅通孔,第一晶圆上涂布粘接层,制造第一晶圆上粘接层通孔,第一晶圆和第二晶圆通过粘接层结合,电镀形成两个晶圆之间的铜通孔连接;第三种包括:制造第二晶圆硅通孔,第一晶圆上涂布粘接层,第一晶圆和第二晶圆通过粘接层结合,透过第二晶圆硅通孔腐蚀制造粘接层通孔,电镀形成两个晶圆之间的铜通孔连接。本发明优势是晶圆铜通孔连接在室温下批量生产完成,室温下晶圆形变小,热应力小,晶圆不易断裂。可以简单地实现多层晶圆的键合。
  • 晶圆键合方法结构
  • [发明专利]具有保护功能的高压绝缘隔离SiC MOSFET栅驱动电路-CN202110347550.0在审
  • 陈珍海;袁述;卢基存;黎力 - 江苏中科汉韵半导体有限公司
  • 2021-03-31 - 2021-07-02 - H03K17/082
  • 本发明公开了一种具有保护功能的高压绝缘隔离SiC MOSFET栅驱动电路,该电路包括:输入接收电路、数据通道数字控制电路、数据通道调制发送电路、数据通道高共模瞬态抑制差分信号接收电路、保护通道数字控制电路、保护通道调制发送电路、保护通道高共模瞬态抑制差分信号接收电路、输出驱动电路、发送端低压产生电路、接收端低压产生电路、高压隔离电路。本发明一方面采用高精度保护电路,以避免SiC MOSFET脱离其安全工作区,提高可靠性;另一方面,采用高压绝缘隔离技术,可实现超高耐压绝缘电容;此外,自动检测地电位共模瞬态噪声的大小,并在噪声超过阈值时对共模瞬态噪声产生的误差进行动态补偿。本发明可以广泛应用于驱动各类高压SiCMOSFET和IGBT器件。
  • 具有保护功能高压绝缘隔离sicmosfet驱动电路
  • [发明专利]超高压绝缘隔离SiC MOSFET栅驱动电路-CN202110347567.6在审
  • 陈珍海;袁述;卢基存;黎力 - 江苏中科汉韵半导体有限公司
  • 2021-03-31 - 2021-07-02 - H03K17/082
  • 本发明公开了一种超高压绝缘隔离SiC MOSFET栅驱动电路,该电路包括:输入接收电路、数字控制电路、调制发送电路、高压隔离电路、高共模瞬态抑制差分信号接收电路、输出驱动电路、发送端低压产生电路、接收端低压产生电路和芯片状态监测电路。本发明所提供的超高压绝缘隔离SiC MOSFET栅驱动电路一方面采用高压绝缘隔离技术,可实现超高耐压绝缘电容;另一方面,可自动检测地电位共模瞬态噪声的大小,并在噪声超过阈值时对共模瞬态噪声产生的误差进行动态补偿。本发明可以广泛应用于驱动各类高压SiC MOSFET和IGBT器件。
  • 超高压绝缘隔离sicmosfet驱动电路
  • [发明专利]芯片贴放封装结构及方法-CN202011184729.0在审
  • 卢基存;周华 - 光华临港工程应用技术研发(上海)有限公司
  • 2020-10-29 - 2021-02-26 - H01L23/14
  • 本发明提供了一种芯片贴放封装结构及方法,芯片贴放封装结构包括:基板;芯片,其下表面通过粘接胶粘贴于所述基板的上表面;粘接胶固定层,其由所述粘接胶固化形成;高度控制层结构,其形成于所述基板的上表面或所述芯片的下表面;键合引线,其电性连接所述芯片和所述基板。本发明通过在基板和芯片之间设置高度控制层结构,使得粘接胶固定层的厚度保持均匀。同时高度控制层的引入增加了芯片垂直方向的封装结构强度,确保在引入较厚的粘接胶固定层降低平面方向基板对芯片施加的热应力的同时,使得芯片在垂直方向不易移动,防止后续芯片超声波引线键合等工艺的良率下降。
  • 芯片封装结构方法
  • [发明专利]一种低应力MEMS传感器芯片的基板结构及制造方法-CN201310396689.X无效
  • 王军;卢基存 - 苏州霞光电子科技有限公司
  • 2013-09-04 - 2015-03-18 - B81B7/00
  • 本发明公开了一种低应力MEMS传感器芯片的基板结构及制造方法,所述芯片通过粘结材料连接于基板上,所述基板包括阻焊层、BT树脂层、铜导电层和焊垫,所述BT树脂层上下两层均设置有铜导电层,所述BT树脂层与铜导电层通过层压连接,所述铜导电层外层均设置有阻焊层,所述下层阻焊层的底部设置有焊垫;本发明通过降低基板的强度,降低芯片应力;第一种方法是减薄基板的厚度,去除芯片放置处的BT树脂层,阻焊层或铜导电层;第二种方法是通过在基板中心埋入柔性低应力高分子层代替BT树脂层,使基板变软;第三种方法是在芯片位置处的基板表面涂布柔性低应力高分子层。由于芯片下的基板结构和材料强度降低,芯片上的应力减少,提高了MEMS传感器的质量和热稳定性能。
  • 一种应力mems传感器芯片板结制造方法

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