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[发明专利]感光性树脂组成物、感光性树脂层以及彩色滤光片层-CN201910806545.4有效
发明人：许洙荣;金善大;李智惠;郭善荣;金智恩;李英;郑周昊 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开一种感光性树脂组成物、使用感光性树脂组成物制造的感光性树脂层以及彩色滤光片层，感光性树脂组成物包含：(A)着色剂，包含蓝色颜料和在350纳米到450纳米的波长范围内具有最大吸收波长的氮杂卟啉类染料；(B)粘合剂树脂；(C)光可聚合化合物；(D)光聚合引发剂；以及(E)溶剂。
感光性树脂组成以及彩色滤光

[发明专利]一种树脂组合物以及使用其的光刻胶图形化的方法-CN202310345418.5在审
发明人：马文杰;晏凯;刘力铭;杨遇春;夏巍;郑柳瑜 -专利权人：深圳市容大感光科技股份有限公司;惠州市容大感光科技有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种树脂组合物，其包含碱可溶树脂(A)，溶解抑制剂(B)，溶剂(C)，表面活性剂(D)，以及粘接助剂(E)，本发明还涉及该树脂组合物与正性光刻胶组合使用以形成图形的方法，以及该树脂组合物用于半导体制备中金属图形化的用途，本发明的组合物与正性光刻胶组合使用能够使得底层牺牲层光刻胶在显影过程中具有降低的碱溶速率，显影后的底层牺牲层光刻胶的侧壁角度较大。
一种树脂组合以及使用光刻图形方法

[发明专利]感光性树脂组合物、硬化膜、带硬化膜的基板及带硬化膜的基板的制造方法、以及显示装置-CN202211653853.6在审
发明人：国松登;今野高志 -专利权人：日铁化学材料株式会社
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性树脂组合物、硬化膜、带硬化膜的基板及带硬化膜的基板的制造方法、以及显示装置。感光性树脂组合物，包含(A)光硬化性化合物、(B)平均粒径为100nm以上且600nm以下的包括折射率为1.9以上且2.7以下的金属氧化物的粒子、以及(C)光聚合引发剂。当(B)成分是中空率为10％以上且90％以下的粒子时，相对于固体成分的总质量，(B)成分的含量为15质量％以上且70质量％以下，当(B)成分是中空率未满10％的金属氧化物粒子时，相对于固体成分的总质量，(B)成分的含量为25质量％以上且70质量％以下。
感光性树脂组合硬化制造方法以及显示装置

[发明专利]光敏树脂组合物、包含其的光敏材料、黑矩阵和电子元件-CN202180073266.7在审
发明人：田圣浩;南圭铉;朴贤旻 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2021-11-09 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本公开内容涉及光敏树脂组合物、包含其的光敏材料、包含其的黑矩阵和包含其的电子装置。
光敏树脂组合包含材料矩阵电子元件

[发明专利]光致抗蚀剂底层组合物-CN202211725313.4在审
发明人： M·K·张;H·申;K·郑 -专利权人：罗门哈斯电子材料韩国有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含第一聚合物，该第一聚合物包含衍生自N‑(烷氧基甲基)(甲基)丙烯酰胺单体的第一结构单元；包含芳香族基团、杂环基团、酯基团、酰胺基团或其组合的第二结构单元，其中该第二结构单元进一步包含可交联基团；其中该第一聚合物包含该第二结构单元，该光致抗蚀剂底层组合物进一步包含含有该第二结构单元的第二聚合物，或其组合，热酸产生剂；以及溶剂。
光致抗蚀剂底层组合

[发明专利]蒸镀掩模制造用感光性转印材料及蒸镀掩模的制造方法-CN202211637248.X在审
发明人：石坂壮二 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2022-12-14 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种分辨性优异的蒸镀掩模制造用感光性转印材料且提供一种分辨性优异的蒸镀掩模的制造方法。一种蒸镀掩模制造用感光性转印材料及使用上述蒸镀掩模制造用感光性转印材料的蒸镀掩模的制造方法，该蒸镀掩模制造用感光性转印材料依次具有临时支承体和至少具有感光性树脂层的转印层，上述临时支承体的每单位体积中的直径1.0μm～10.0μm的异物的个数为50个/mm3以下。
蒸镀掩模制造感光性材料方法

[发明专利]光阻组合物、硬化物及基质图案、着色分散液、以及光阻组合物的制造方法-CN202211686645.6在审
发明人：小野悠树;岩井航平 -专利权人：日铁化学材料株式会社
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及光阻组合物、硬化物及基质图案、着色分散液、以及光阻组合物的制造方法。本发明提供一种光阻组合物，其适合于即使在进行低温硬化的情况中，也可形成硬化性与图案化性优异的硬化物(硬化膜)的用途。本发明的光阻组合物含有：(A)环氧树脂的一部分经(甲基)丙烯酸酯化的部分(甲基)丙烯酸酯化环氧树脂、(B)溶剂、(C)含有聚合性不饱和基的碱可溶性树脂、及(D)光聚合引发剂。
组合硬化基质图案着色分散以及制造方法

[发明专利]化学增幅型正型感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件-CN202211686658.3在审
发明人：刘骐铭;施俊安 -专利权人：奇美实业股份有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明是有关一种化学增幅型正型感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件。此化学增幅型正型感光性树脂组成物含有树脂(A)、光酸产生剂(B)、溶剂(C)与增感剂(D)。利用此化学增幅型正型感光性树脂组成物所制得的保护膜具有良好的平坦性与感度。
化学增幅型正型感光性树脂组成保护膜具有元件

[发明专利]抗蚀剂材料-CN201880048675.X有效
发明人：今田知之;山本辰弥;宫本正纪 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2018-07-03 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明目的在于，提供涂膜的平滑性、均质性高、分辨率等图案化性能也优异的抗蚀剂材料，提供一种抗蚀剂材料，其含有：具有下述结构式(1)所示的分子结构的杯芳烃化合物(A)、和树脂成分(B)。(式中，R1为全氟烷基或具有全氟烷基的结构部位。R2为氢原子、极性基团、聚合性基团、具有极性基团或聚合性基团的结构部位。R3为氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、任选具有取代基的芳基中的任意者。n为2～10的整数。*为与芳香环的键合点。)
抗蚀剂材料

[发明专利]光致抗蚀剂组合物以及使用其形成精细图案的方法-CN201711297243.6有效
发明人：朴珍;金贤友 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2017-12-08 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种光致抗蚀剂组合物包含感光性聚合物以及光酸产生剂，所述感光性聚合物包含聚合物链及偶合到所述聚合物链的至少一个第一官能团。所述第一官能团具有由以下化学式1表示的结构，[化学式1]其中R1为碳数为1至20的烷基及碳数为1至20的芳基中的一个，且R2为‑H、‑F、‑Cl、‑Br、碳数为1至20的烷基及碳数为1至20的芳基中的一个。上述的光致抗蚀剂组合物具有高感光性。
光致抗蚀剂组合以及使用形成精细图案方法

[发明专利]绿色着色树脂组合物-CN201980014501.6有效
发明人：河西裕 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2019-02-19 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种耐热性优异的含有方酸染料的着色树脂组合物。本发明的着色树脂组合物的特征在于，是含有着色剂、树脂和溶剂的绿色着色树脂组合物，所述着色剂含有方酸染料，相对于从所述绿色着色树脂组合物的总量除去所述着色剂和所述溶剂的含量而得的量，所述树脂的含有率为70质量％以上。
绿色着色树脂组合

[发明专利]密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法-CN202211658764.0在审
发明人：渡部卫;原田裕次;中原贵佳;美谷岛祐介;荻原勤 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题是提供：如下的密合膜的密合膜形成材料，该密合膜在半导体装置制造步骤中利用多层抗蚀剂法所为的微细图案化制程中，具有和抗蚀剂上层膜的高密合性且具有抑制微细图案的崩塌的效果同时可形成良好的图案形状。该课题的解决手段是一种密合膜形成材料，是使用于形成在抗蚀剂上层膜的紧邻下方的密合膜的密合膜形成材料，前述密合膜形成材料含有：(A)具有至少一个含有经氟取代的有机磺酰基阴离子结构的结构单元，且具有至少一个和前述含有经氟取代的有机磺酰基阴离子结构的结构单元不同的下述通式(2)表示的结构单元的树脂、(B)热酸产生剂、及(C)有机溶剂。
密合膜形成材料图案方法

[发明专利]用于制造半导体器件的方法-CN201710142957.3有效
发明人：洪锡九;姜美荣;李孝圣;赵庆容;赵先觉 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2017-03-10 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明构思的实施方式提供用于制造半导体器件的方法。所述方法包括形成包括交替地且重复地堆叠在基底上的绝缘层和牺牲层的堆叠结构。在所述堆叠结构上形成第一光刻胶图案。使用所述第一光刻胶图案作为蚀刻掩模蚀刻所述堆叠结构的第一部分以形成阶梯式结构。所述第一光刻胶图案包括包含多个由以下化学式1和2表示的单元以及任选的多个由以下化学式3表示的单元的共聚物，其中“R1”、“R2”、“R3”、“p”、“q”和“r”与说明书中定义的相同。
用于制造半导体器件方法

[发明专利]量子点分散体及其制造方法、滤色器和图像显示装置-CN201710811544.X有效
发明人：金胄皓;金亨柱;王贤正 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2017-09-11 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供量子点分散体及其制造方法、滤色器和图像显示装置。本发明的量子点分散体的特征在于，包含量子点、含有磷酸酯系化合物的表面处理剂、和极性有机溶剂，相对于上述量子点固体成分整体100重量份，上述含有磷酸酯系化合物的表面处理剂的含量为1～250重量份。
量子散体及其制造方法滤色器图像显示装置

[发明专利]一种光刻胶组合物及其制备方法-CN202011537032.7有效
发明人：徐娟;王猛;周建 -专利权人：江苏穿越光电科技有限公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提出了一种光刻胶组合物及其制备方法，包括：酚醛树脂、重氮类感光化合物和有机溶剂；其中，所述酚醛树脂包括线性酚醛树脂和二氧化硅改性酚醛树脂。本发明所述光刻胶组合物中通过提高成膜树脂的耐热性和粘附性，使所得光刻胶膜的光刻精度得到有效提高。
一种光刻组合及其制备方法