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[发明专利]密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法-CN202211156891.0在审
发明人：郡大佑;甲斐佑典;中原贵佳;渡部卫 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-09-21 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明涉及密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题是目的为提供一种密合膜形成材料，是在半导体装置制造步骤中的利用多层抗蚀剂法所为的微细图案化处理中，能给予具有与抗蚀剂上层膜的高密合性，具有抑制微细图案的崩塌的效果，且能形成良好的图案形状的密合膜的密合膜形成材料；并提供使用了该材料的图案形成方法、及上述密合膜的形成方法。本发明的解决手段是一种密合膜形成材料，是形成于含硅中间膜与抗蚀剂上层膜之间的密合膜的密合膜形成材料，其特征在于，含有：(A)具有下述通式(1)及下述通式(2)表示的结构单元的树脂、(B)热酸产生剂、及(
密合膜形成材料图案方法

[发明专利]密合膜形成材料、使用其的密合膜的形成方法、及使用了密合膜形成材料的图案形成方法-CN202210791887.5在审
发明人：中原贵佳;美谷岛祐介;原田裕次;荻原勤 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-07-05 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及密合膜形成材料、使用其的密合膜的形成方法、及使用了密合膜形成材料的图案形成方法。本发明的问题为提供一种在利用半导体装置制造步骤中的多层抗蚀剂法所为的微细图案化制程中，供予具有和抗蚀剂上层膜的高密合性，且具有抑制微细图案崩塌的效果同时可形成良好的图案形状的密合膜的密合膜形成材料、使用了该材料的图案形成方法、及该密合膜的形成方法。该问题的解决手段为一种密合膜形成材料，是形成于含硅的中间膜和抗蚀剂上层膜之间的密合膜的密合膜形成材料，其特征在于含有：(A)具有下述通式(1)表示的结构单元的树脂，(B)含有一种以上的下述通式(2)表示的化合物的交联剂
密合膜形成材料使用方法图案

[发明专利]密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法-CN202211658764.0在审
发明人：渡部卫;原田裕次;中原贵佳;美谷岛祐介;荻原勤 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及密合膜形成材料、图案形成方法、及密合膜的形成方法。本发明的课题是提供：如下的密合膜的密合膜形成材料，该密合膜在半导体装置制造步骤中利用多层抗蚀剂法所为的微细图案化制程中，具有和抗蚀剂上层膜的高密合性且具有抑制微细图案的崩塌的效果同时可形成良好的图案形状该课题的解决手段是一种密合膜形成材料，是使用于形成在抗蚀剂上层膜的紧邻下方的密合膜的密合膜形成材料，前述密合膜形成材料含有：(A)具有至少一个含有经氟取代的有机磺酰基阴离子结构的结构单元，且具有至少一个和前述含有经氟取代的有机磺酰基阴离子结构的结构单元不同的下述通式
密合膜形成材料图案方法

[发明专利]表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品-CN201210545119.8有效
发明人：林益史;千嶋宪治;宫坂洋之 -专利权人：藤森工业株式会社
申请日： 2012-12-14 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： C09J7/02 文献下载
摘要：本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件、工业制品。所述表面保护膜为即使被粘物密合层的粘合力降低，在制造表面保护膜的工序中，被粘物密合层与作为用于保护其表面的膜的覆盖膜之间也不发生浮起，具有表面平滑的被粘物密合层，从被粘物剥离时能够轻松地剥离，在制造工序中的使用中紧密密合于被粘物保护被粘物的表面保护膜，且在剥离表面保护膜之后的被粘物表面的污染少。表面保护膜10具有在透明基材1的至少一面上层积由硅酮树脂形成的表面平滑的被粘物密合层2得到的被粘物密合膜5，为了保护被粘物密合层2的表面，将在基材4的一面上形成粘合剂层3的覆盖膜6经由粘合剂层3贴合至被粘物密合层
表面保护膜以及贴合光学部件工业制品

[发明专利]成膜装置及其运用方法-CN201210419452.4有效
发明人：远藤笃史;水永觉;大塚武裕 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-10-26 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： C23C16/26 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置及其运用方法。在该成膜装置的运用方法中，在石英制的处理容器内进行在保持于保持部件上的多个被处理体的表面上形成碳膜的成膜工序，其中，进行在与处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面上形成使碳膜的密合性提高的密合膜的密合膜形成工序由此，使碳膜相对于与处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面的密合性提高并抑制产生微粒。
装置及其运用方法

[发明专利]干湿分离的面膜包装结构-CN201910925224.6有效
发明人：张源炘;孟庆龙;沈芳如 -专利权人：拓金造物股份有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： B65D30/22 文献下载
摘要：包装袋包含两个挠性膜、一第一密合结构及一第二密合结构。两个挠性膜的部分通过第一密合结构相密合以令两个挠性膜围绕出一容置空间，两个挠性膜的另一部分通过第二密合结构相密合，以令容置空间分为一液体容室及一面膜容室。液体容室与面膜容室分别用以储存液体及面膜。第二密合结构包含一虚分隔部，虚分隔部的临界破坏拉力值小于第一密合结构的临界破坏拉力值。两个操作片分别连接于两个挠性膜。
干湿分离面膜包装结构

[发明专利]高分子膜的剥离方法、电子器件的制造方法以及剥离装置-CN202080101709.4在审
发明人：奥山哲雄;鹤野吉扩 -专利权人：东洋纺株式会社
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： B65H41/00 文献下载
摘要：一种高分子膜的剥离方法，包括：准备高分子膜与无机基板密合的层叠体的工序A；在层叠体的端部，在高分子膜与无机基板之间形成剥离部分的工序B；在工序B之后，通过在高分子膜的不与无机基板密合的非密合面与剥离部分之间设置静压差，将高分子膜从无机基板剥离的工序C。
高分子剥离方法电子器件制造以及装置

[发明专利]掩膜坯、掩膜坯的制造方法、光掩膜及光掩膜的制造方法-CN202010933261.4在审
发明人：诸沢成浩 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： G03F1/46 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜坯、掩膜坯的制造方法、光掩膜及光掩膜的制造方法。本发明的掩膜坯具有作为相移掩膜的层，该掩模坯具有：相移层，层叠于透明基板；防反射层，被设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置；以及密合层，被设置在比所述防反射层更远离所述透明基板的位置。所述相移层含有铬，所述防反射层含有硅化钼和氧，所述密合层含有铬和氧，在所述密合层中，以具有对光致抗蚀剂层能够形成图案的密合性来设定氧含有率。
掩膜坯制造方法光掩膜

[发明专利]Cu合金靶材、配线膜、半导体装置、液晶显示装置-CN202080001031.2在审
发明人：高泽悟;中台保夫 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2020-01-29 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： H01L21/285 文献下载
摘要：在由玻璃或树脂的任意一者或两者构成的基板(31)的表面，通过在Cu中含有添加金属而得到的密合膜用合金来制作Cu合金靶材，通过溅镀来形成密合膜(37)。密合膜(37)与基板(31)之间的密合力强，不会发生剥离。
cu 合金配线膜半导体装置液晶显示装置

[发明专利]层叠体、电子设备的制造方法、层叠体的制造方法-CN201780050408.1有效
发明人：宫越达三;藤原晃男 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2017-08-15 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： B32B7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种层叠体，依次具备支撑基材、密合层以及基板，所述基板在其表面上具备交替层叠折射率不同的电介质层而成的电介质多层膜，具备所述电介质多层膜的所述基板以所述电介质多层膜可剥离地与所述密合层密合的方式配置在所述密合层上
层叠电子设备制造方法

[发明专利]电缆和医疗用中空管-CN202110788233.2有效
发明人：樫村诚一;岸雅通;寺木直人;渡部考信;清兼友理子 -专利权人：日立金属株式会社
申请日： 2020-06-18 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01B7/17 文献下载
摘要：本发明提供一种电缆和医疗用中空管，在被膜中高水平地表现顺滑性、密合性和耐擦拭性。一种电缆，其具备护套和覆盖所述护套周围且与所述护套密合而设置的被膜，所述护套包含氧化钛，并且所述被膜由含有加热固化型的橡胶成分的橡胶组合物形成，所述被膜表面的静摩擦系数为0.5以下，所述护套与所述被膜的密合强度为
电缆医疗中空

[发明专利]带光学多层膜的玻璃构件和近红外线截止滤光片玻璃-CN201280010754.4有效
发明人：馆村满幸;玉井万寻;长田崇;上条克司 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2012-11-21 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： G02B5/28 文献下载
摘要：本发明提供光学多层膜的膜剥离得到了抑制的带光学多层膜的玻璃构件、及近红外线截止滤光片玻璃。在氟磷酸盐玻璃基板上形成有光学多层膜的带光学多层膜的玻璃构件中，在所述氟磷酸盐玻璃基板和所述光学多层膜之间形成有使所述光学多层膜对所述氟磷酸盐玻璃基板的密合性提高的、由1层或2层以上构成的密合强化膜；所述光学多层膜通过溅射法或离子辅助蒸镀法形成，所述密合强化膜通过不采用离子辅助的蒸镀法形成。
光学多层玻璃构件红外线截止滤光

[发明专利]固化树脂膜的制造装置及固化树脂膜的制造方法-CN201980071127.3在审
发明人：黑柳政广;佐藤裕文;松本薰宏 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2019-11-18 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B29C63/02 文献下载
摘要：通过简易的构成，抑制叠层膜的周期性的厚度变动。其特征在于，至少具备供给第1基材膜的第1基材膜供给单元、供给第2基材膜的第2基材膜供给单元、在上述第1基材膜或上述第2基材膜上形成固化性树脂层的树脂层形成单元、和使上述第1基材膜与上述第2基材膜夹着上述固化性树脂层进行密合而形成叠层膜的密合单元，上述密合单元包含仅与上述第1基材膜和上述第2基材膜之中的任一者的表面接触的层压辊。
固化树脂制造装置方法

[发明专利]一种磁力密合排水装置及带磁力密合排水装置的坐浴盆-CN201410088204.5有效
发明人：黄益富;庞峰;蒋超;叶冬;宾恩华 -专利权人：桂林康兴医疗器械有限公司
申请日： 2014-03-11 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： A61H35/00 文献下载
摘要：本发明公开一种磁力密合排水装置及带磁力密合排水装置的坐浴盆，其排水装置安装在坐浴盆体的下水口处；上述排水装置包括壳体、升降机构、数字电子控制机构和磁力密合机构。该磁力密合机构活动嵌设在活动盆体底部的下水口内；所述磁力密合机构包括定位环、内盖、以及一对磁力吸合件。本发明通过在顶杆的上方增设的磁力密合机构来替代安装在活动盆体上封水膜，并通过磁力作用让磁力密合机构下降而非单一利用封水膜的自身重力来实现封水；这种结构不仅能够保证坐浴盆体下水口处封水密合而不漏水，而且也能够避免对硅胶片软硬的严格要求
一种磁力排水装置浴盆

[实用新型]一种磁力密合排水装置及带磁力密合排水装置的坐浴盆-CN201420109242.X有效
发明人：黄益富;庞峰;蒋超;叶冬;宾恩华 -专利权人：桂林康兴医疗器械有限公司
申请日： 2014-03-11 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： A61H35/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种磁力密合排水装置及带磁力密合排水装置的坐浴盆，其排水装置安装在坐浴盆体的下水口处；上述排水装置包括壳体、升降机构、数字电子控制机构和磁力密合机构。该磁力密合机构活动嵌设在活动盆体底部的下水口内；所述磁力密合机构包括定位环、内盖、以及一对磁力吸合件。本实用新型通过在顶杆的上方增设的磁力密合机构来替代安装在活动盆体上封水膜，并通过磁力作用让磁力密合机构下降而非单一利用封水膜的自身重力来实现封水；这种结构不仅能够保证坐浴盆体下水口处封水密合而不漏水，而且也能够避免对硅胶片软硬的严格要求
一种磁力排水装置浴盆

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