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[发明专利]碱水型显影光成像抗蚀剂-CN91104683.6无效
发明人：任孝修;黄明智;饶国英;姚光俊;王启明;张焕印 -专利权人：北京化工学院
申请日： 1991-07-16 - 公布日： 1993-06-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种碱水型显影光成像抗蚀剂，它是以改性马来酸酐共聚物为主体树脂，沸点为160℃以上的液态脂肪族饱和羧酸酯为反应性稀释剂，与光引发剂和助剂组成。可作为油墨用于制造印刷线路板，其涂层均匀，湿膜一经加热即固化成干膜，就可用接触曝光制得高分辨率的印刷线路图像。它不含挥发性大的有机溶剂，粘度稳定，故使用方便安全、无环境污染。
碱水显影成像抗蚀剂

[发明专利]正向作用的光刻胶-CN90109643.1无效
发明人：马克·若比特·崴克勒 -专利权人：罗姆和哈斯公司
申请日： 1990-10-27 - 公布日： 1991-09-25 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种正性作用的能产生交联影像的光刻胶组合物及其应用。它以膜的形式施加于基底表面，并通过一光掩膜进行选择性影像曝光。光化辐射促使光生碱产生剂，在光刻胶膜的影像曝光部分中产生一种碱。光化学产生的碱中和了影像曝光区域中的酸。未曝光部分不含光化学产生的碱，加热该膜后被酸的催化作用交联，其曝交部分通过显影剂溶液作用被从基底上除去，将交联的正性影像留在基底上。它还可以通过电沉积的方法施加到导电性基底的表面上。
正向作用光刻