专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学传感器用组合物-CN202310508376.2在审
  • 畠山耕治;村田裕亮;川部泰典;和田浩平 - JSR株式会社
  • 2019-10-03 - 2023-08-01 - G03F7/004
  • 提供一种光学传感器用组合物,可形成具有与可见光透过性及红外线遮蔽性有关的良好的特性的光学传感器用光学滤光片。本发明是一种光学传感器用组合物,含有下述式(1)所表示的酞菁化合物、以及粘合剂树脂。式(1)中,多个R分别独立地为具有取代基或未经取代的烷基、或者具有取代基或未经取代的芳基。多个X分别独立地为氢原子、卤素原子或烷基。多个X也可相互键结并与这些所键结的碳链一起形成芳香环。M为两个氢原子、二价金属原子或者三价或四价金属原子的衍生物。多个n分别独立地为3、5、6。
  • 光学传感器用组合
  • [发明专利]一种光敏性聚酰亚胺树脂和组合物及其制备方法-CN202310683947.6在审
  • 李涛 - 明士(北京)新材料开发有限公司
  • 2023-06-10 - 2023-08-01 - G03F7/004
  • 本发明涉及高分子材料技术领域,具体公开了一种光敏性聚酰亚胺树脂和组合物及其制备方法,该组合物包括:(1)30‑300重量份的光敏性聚酰亚胺树脂;(2)100‑1000重量份的有机溶剂;(3)5(最多10)‑50(最多100)重量份的增感剂;其中光敏性聚酰亚胺树脂由4,4′‑六氟亚异丙基‑邻苯二甲酸酐(6FDA),均苯四甲酸二酐(PMDA),4,4′‑二氨基二苯醚(ODA)为原料进行制备而成;还包括:适量的光敏助剂、有机溶剂;本发明光敏性聚酰亚胺树脂组合物,涂敷在硅圆片等基质表面上形成液态胶膜后,经前烘、曝光、后烘、显影、漂洗、高温固化等工序可在硅圆片等基质表面形成由聚酰亚胺薄膜构成的立体光刻图形,具有良好的工艺性能和耐热性,分辨率较高。
  • 一种光敏聚酰亚胺树脂组合及其制备方法
  • [发明专利]感光性树脂组合物及感光性树脂组合物的制造方法-CN202180081992.3在审
  • 林俊亮;木下健宏 - 株式会社力森诺科
  • 2021-11-19 - 2023-08-01 - G03F7/004
  • 本发明的感光性树脂组合物是下述感光性树脂组合物,其特征在于,含有树脂(A)、反应性稀释剂(B)、溶剂(C)、光聚合引发剂(D)、和着色剂(E)。上述树脂(A)含有具有芳香环骨架的结构单元(a)、具有羧基的结构单元(b)、结构单元(c)、和具有碳原子数7~20的桥联脂环式烃基的结构单元(d),上述结构单元(c)为选自具有(甲基)丙烯酰氧基的结构单元(c‑1)和具有与羧基反应的官能团的结构单元(c‑2)中的至少一种。相对于上述树脂(A)的结构单元的总量,上述具有芳香环骨架的结构单元(a)的含量为5~50摩尔%。
  • 感光性树脂组合制造方法
  • [发明专利]感光树脂组合物及其制备方法-CN201810873538.1有效
  • 颜振锋;向首睿;吴佩蓉;苏赐祥 - 臻鼎科技股份有限公司
  • 2018-08-02 - 2023-08-01 - G03F7/004
  • 本发明涉及一种感光树脂组合物。所述感光树脂组合物,按重量份数计,包括100份的改质聚乙烯醇、10~50份的感光单体、5~15份的光起始剂、1~20份的色料、5~30份的无机填料粉和10~50份的封闭型聚异氰酸酯,以及有机溶剂,其中,所述封闭型聚异氰酸酯采用封闭剂对聚异氰酸酯中的异氰酸酯基团进行封闭而制得,所述封闭剂在所述封闭型聚异氰酸酯加热到高于100℃的一解封闭温度后解封闭所述封闭型聚异氰酸酯得到活性的异氰酸酯基团。本发明还涉及一种感光树脂组合物的制备方法。
  • 感光树脂组合及其制备方法
  • [发明专利]发光元件的制造方法、发光元件-CN202080106506.4在审
  • 安达考洋;佐久间惇 - 夏普株式会社
  • 2020-12-03 - 2023-07-25 - G03F7/004
  • 一种发光元件的制造方法,包括:涂布包含第一量子点的第一量子点溶液来形成第一发光层的第一发光层形成工序;在所述第一发光层上涂布第一感光性树脂组合物来形成第一抗蚀层的第一抗蚀层形成工序;以规定的图案对所述第一抗蚀层进行曝光的曝光工序;以及用显影液对所述第一抗蚀层进行显影来形成图案化的第一抗蚀层,以所述图案化的第一抗蚀层作为掩模,利用处理液对所述第一发光层进行处理来形成图案化的第一发光层的图案化形成工序。
  • 发光元件制造方法

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