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- [实用新型]一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置-CN202320108828.3有效
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高岩;叶东国;付志江
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大连榕树光学有限公司
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2023-02-03
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2023-08-15
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C23C14/35
- 本实用新型涉及真空磁控溅射绕卷镀膜装置技术领域，且公开了一种真空磁控溅射绕卷镀膜装置，包括真空机构，所述真空机构的内部分别安装有靶向机构和收卷机构，所述真空机构包括真空室，所述真空室的两侧分别安装有抽真空装置和氮气设备，所述靶向机构包括银质靶材和传动辊，所述传动辊之间传动连接有传动带。该真空磁控溅射绕卷镀膜装置，通过在真空室的内部设置银质靶材对收卷辊上下的空间进行隔离，然后在银质靶材的外侧设置传动辊来带动传动带，从而使传动带表面安装的磁性材料快速移动，以产生磁极的快速交换，通过磁极的交换来对离子施加动力，使离子能够快速的向被镀膜材料靠拢形成镀膜，达到了提升镀膜效率的效果。
- 一种真空磁控溅射镀膜装置
- [发明专利]一种镀膜设备及镀膜方法-CN201810884395.4有效
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陈策;丁维红;肖念恭;陈吉利
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信阳舜宇光学有限公司
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2018-08-06
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2023-08-11
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C23C14/35
- 本发明涉及一种镀膜设备及镀膜方法，其中镀膜设备包括真空室(1)，设置在所述真空室(1)中的靶材基座(11)和基底夹具(12)，所述靶材基座(11)设置于所述基底夹具(12)的上方；还包括电极切换装置(13)；所述电极切换装置(13)与所述靶材基座(11)相互连接，且所述靶材基座(11)为偶数个。通过交替变换溅射靶材的电极性，从而实现本发明在镀膜过程中，使带正电荷的等离子体轮流轰击电极性为阴极的溅射靶材，从而避免的长时间轰击同一个溅射靶材而导致溅射靶材“中毒”，进而避免了在镀膜过程中，溅射靶材的失效，有效提高了溅射靶材的使用寿命，并且进一步提高了镀膜设备的镀膜效率。
- 一种镀膜设备方法
- [实用新型]一种金属管材内壁镀膜的磁控溅射机构-CN202223593488.2有效
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杨志;倪朗
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江苏信核芯微电子有限公司
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2022-12-30
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2023-08-11
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C23C14/35
- 本实用新型涉及一种金属管材内壁镀膜的磁控溅射机构，包括加工台，所述加工台的顶部固定连接有安装座，所述安装座的内部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴上固定连接有固定套壳，所述固定套壳的内部活动连接有螺纹杆，所述螺纹杆的外部螺纹连接有调节套，所述调节套的侧壁上固定连接有固定板，所述加工台的顶部活动连接有活动座，所述活动座的侧壁上固定连接有第一电动推杆，所述第一电动推杆的输出端上固定连接有磁控溅射器。该金属管材内壁镀膜的磁控溅射机构，通过把手、螺纹杆、调节套、固定板、第二电动推杆和活动座对管道进行支撑，通过抽气管、第一电动推杆、磁控溅射器、驱动电机和固定套互相配合对管道进行翻转。
- 一种金属管材内壁镀膜磁控溅射机构
- [发明专利]电池片镀膜设备及方法-CN202310554264.0在审
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请求不公布姓名
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广东利元亨智能装备股份有限公司
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2023-05-16
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2023-08-08
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C23C14/35
- 本申请涉及电池片加工技术领域，尤其是涉及一种电池片镀膜设备及电池片镀膜方法，电池片镀膜设备包括：多个工作腔，多个工作腔中包括镀膜工艺腔；镀膜组件，镀膜组件设置于镀膜工艺腔内；镀膜组件包括磁体组件和靶材；磁体组件形成有强磁区和弱磁区，强磁区的磁场强度大于弱磁区的磁场强度；靶材对应强磁区的部分具有第一溅射速率，靶材对应弱磁区的部分具有与第一溅射速率不同的第二溅射速率。本申请提供的电池片镀膜设备，对靶材溅射速率快的区域进行磁场强度降低，减少这部分区域对带电粒子的束缚，降低了该区域的溅射速率，使对应区域电池片所镀膜层厚度减小，提高载板上各区域内的电池片膜层厚度的一致性，有效提高电池片的性能和良品率。
- 电池镀膜设备方法
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