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[发明专利]磁控溅射铁磁性靶材的装置-CN202010661505.8有效
发明人：郝宏波;王婷婷;乔禹;梁雨萍;辛博;田若楠;张茂彩;王誉 -专利权人：包头稀土研究院;瑞科稀土冶金及功能材料国家工程研究中心有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射铁磁性靶材的装置，包括：阴极基座、周边永磁体、中心永磁体，周边永磁体、中心永磁体位于阴极基座的下部，周边永磁体位于中心永磁体外侧，还包括：耐高温绝缘保护罩、中心永磁柱、环状磁性靶材，耐高温绝缘保护罩、中心永磁柱、环状磁性靶材位于阴极基座上部，中心永磁柱位于耐高温绝缘保护罩内部，耐高温绝缘保护罩位于环状磁性靶材内侧。本发明改变了现有技术的磁路，使得磁场分布均匀合理，解决了由于铁磁性靶材高磁导率引起的表面磁场强度较小而无法正常磁控溅射的问题。
磁控溅射铁磁性装置

[发明专利]一种表面具有多孔结构的碲化铋柔性复合薄膜及其制备方法-CN202110352627.3有效
发明人：刘帅;谢晓锐;韩文静;刘迎港 -专利权人：西安石油大学
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提出一种表面具有多孔结构的碲化铋柔性复合薄膜及其制备方法，首先，采用磁控溅射的方法，在聚酰亚胺柔性衬底表面沉积一层碲化铋薄膜。随后，通过管式烧结炉在惰性气体保护的条件下，对碲化铋薄膜进行一定温度下的退火处理，可得到表面孔隙尺寸和密度可控的多孔结构碲化铋柔性复合薄膜。本发明主要利用聚酰亚胺高分子柔性衬底和碲化铋薄膜在热膨胀系数上的差异，通过热处理诱导碲化铋薄膜表面产生多孔结构。
一种表面具有多孔结构碲化铋柔性复合薄膜及其制备方法

[发明专利]一种磁控溅射靶材、其制备方法及应用-CN202210487584.4有效
发明人：李育智;龚政;陈志涛;郭婵;王建太;邹胜晗;潘章旭 -专利权人：广东省科学院半导体研究所
申请日： 2022-05-06 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射靶材、其制备方法及应用，涉及磁控溅射技术领域。磁控溅射靶材的制备方法包括：将前驱体溶液涂布于衬底上，根据磁控溅射设备磁场分布的强度进行厚度的设计，磁场强的区域涂布厚度大，磁场弱的区域涂布厚度小，在涂布过程中通过加热使溶剂挥发并使前驱体部分或全部转化为目标靶材材料，然后在200‑1500℃的条件下烧结，烧结后的靶材进行磁控溅射制备薄膜。相比于现有方法极大地缩短了靶材的制备流程，提升了平面靶材的材料利用率，从而实现溅射薄膜制备成本的降低；相比于采用溶液加工直接沉积制备薄膜的方法，采用溶液加工薄膜靶材溅射制备的薄膜的致密度和附着力均较为理想。
一种磁控溅射制备方法应用

[发明专利]一种基板上粘贴的胶带的揭取方法-CN202111629569.0在审
发明人：陈韶华;余海春;戴晓东 -专利权人：光驰科技（上海）有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种基板上粘贴的胶带的揭取方法，在基板上设置胶带的起头部，所述胶带的粘贴范围至少覆盖所述起头部的一部分；自所述起头部对所述胶带进行揭起并将其从所述基板上逐步剥离，同时对剥离的所述胶带进行缠绕收集。本发明的优点是：实现基板上粘贴的胶带的全自动揭取，提高揭取效率和揭取质量，避免损伤基板；具有起头部的基板仍满足镀膜工艺的要求，不影响镀膜工艺的质量；结构简单合理，使用方便，适于推广。
一种基板上粘贴胶带方法

[发明专利]用于折射率传感的金银复合纳米颗粒薄膜及其制备方法-CN202210801528.3有效
发明人：杨芳;许郅博;方悦宁;丁雨双;惠前辉;朱圣清 -专利权人：江苏理工学院
申请日： 2022-07-07 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于折射率传感的金银复合纳米颗粒薄膜及其制备方法，方法包括：S1、基底清洗：将透明基底清洗，烘干，待用；S2、沉积银纳米薄膜：通过磁控溅射，在透明基底上制备一层厚度均匀的银纳米薄膜；S3、制备银纳米颗粒：对制备的银纳米薄膜进行退火处理，使之形成银纳米颗粒；S4、金纳米薄膜的制备：通过磁控溅射，在银纳米颗粒上覆盖一层金纳米薄膜，完成金银复合纳米颗粒薄膜的制备。本发明制备的金银复合纳米颗粒薄膜包括透明基底和设置于基底上的银纳米颗粒以及覆盖于银纳米颗粒上的金纳米薄膜。本发明的制备方法简单，可大面积制备。本发明在银纳米颗粒上覆盖了一层金纳米薄膜，能有效阻止银纳米材料的氧化，提高了稳定性。
用于折射率传感金银复合纳米颗粒薄膜及其制备方法

[发明专利]线材卷绕镀膜机-CN201710209133.3有效
发明人：陈自新;朱海锋;郑立冬;李伟 -专利权人：无锡光润真空科技有限公司
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及线材卷绕镀膜机，包括真空腔室，于所述真空腔室的内部设置带有线材的卷绕系统、用于在线材表面镀膜的镀膜系统、用于冷却的水冷铜板及用于喷涂硅油的喷硅油装置，在所述真空腔室的一侧还设置用于保持真空腔室内高真空环境的抽真空系统；本结构体积小巧简洁，利用本发明可以实现在线材上镀银、金、镍等金属材料或氧化硅等非金属材料，镀膜后的线材可用于医疗行业的可吸收免拆型手术线材等领域。喷硅油装置可以在线材表面喷射保护性材料，大大提高线材的寿命。镀膜室的设计可以使工作时沉积在室壁上的贵重金属材料回收再利用，大大降低镀膜成本。在本发明中将线材进行多倍折返能使沉积时间成倍增加，大大提高了靶的利用率。
线材卷绕镀膜

[发明专利]避免静电吸盘边缘损伤的热铝工艺方法-CN202310330651.6在审
发明人：吴浩;谭林 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2023-03-30 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种避免静电吸盘边缘损伤的热铝工艺方法，所述方法包括：提供衬底，并将所述衬底置于静电吸盘上，其中，所述静电吸盘上形成有气孔；在常温下，利用第一磁控溅射工艺于所述衬底表面形成铝籽晶层，在该过程中，通过所述气孔通入温控气体以防止静电吸盘边缘存在铝原子堆积；在高温下，利用第二磁控溅射工艺于所述铝籽晶层的表面形成铝层，在该过程中，通过所述气孔通入所述温控气体。通过本发明解决了现有的静电吸盘边缘易于因产生铝原子累积而导致损伤的问题。
避免静电吸盘边缘损伤工艺方法

[发明专利]一种铝靶坯的制备方法-CN202310242993.2在审
发明人：董小雨;黄宇彬;黄娟;童培云 -专利权人：先导薄膜材料（安徽）有限公司
申请日： 2023-03-14 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明属于金属加工技术领域，公开了一种铝靶坯的制备方法。包括以下步骤：对铝铸锭进行锻造，先拔长至原高度的130~170%，再镦粗至原高度的40~60%，锻造后冷却；将工件在100~130℃下进行第一次热处理，然后冷却；将工件轧制至原高度的10~20%，采用多道次轧制，道次间进行冷却，轧制至少3道次；轧制后再进行冷却；将工件在280~300℃进行再结晶热处理，然后冷却，得铝靶坯。通过本发明制备方法制备的高纯铝靶坯组织内部均匀，晶粒大小控制在200μm以内，晶粒尺寸分布均匀，可提高镀膜质量；本发明工艺流程简单，缩短制备时间，降低制备成本，可广泛使用。
一种铝靶坯制备方法

[发明专利]一种对聚醚醚酮表面仿生改性的方法-CN202310095468.2在审
发明人：孔亮;辛河;刘富伟;贾雪连;张周阳;李云鹏;蔡卜磊;史茜雯;陈怡成;朱思敏;田磊;丁明超;戴太强;王乐;高晔;侯燕;吕前欣 -专利权人：中国人民解放军空军军医大学
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及医用材料制备的技术领域，具体涉及一种对聚醚醚酮表面仿生改性的方法。包括步骤1：将聚醚醚酮材料依次使用丙酮、乙醇、去离子水进行超声清洗；步骤2：将超声清洗后的聚醚醚酮材料浸入98％浓硫酸中进行酸蚀，取出后在超纯水中清洗，完成后依次使用丙酮、乙醇、去离子水进行超声清洗；步骤3：将酸蚀后的聚醚醚酮材料作为基体，将羟基磷灰石作为靶材，通过磁控溅射在聚醚醚酮材料表面溅射羟基磷灰石，进而实现在聚醚醚酮材料表面制备仿生矿化纤维束的生物活性涂层。本发明制备的涂层可以模拟天然骨组织矿化胶原纤维束的三维网状形貌以及纤维束之间的羟基磷灰石成分，有效促进体外细胞黏附以及成骨分化，并促进体内骨整合。
一种聚醚醚酮表面仿生改性方法

[发明专利]光纤表面金属化的镀膜装置及其镀膜的方法-CN202211584457.2在审
发明人：关培 -专利权人：武汉楚星光纤应用技术有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种光纤表面金属化的镀膜装置及其镀膜的方法，包括镀膜腔体；光纤连接件，设置在镀膜腔体中，可绕其轴向转动，光纤连接件上设置有待镀膜光纤；内靶材，设置在镀膜腔体内，位于光纤连接件的内侧，沿光纤连接件的轴向可移动；外靶材，设置在镀膜腔体内，位于光纤连接件的外侧，沿光纤连接件的轴向可移动。本发明提供的镀膜装置，将待镀膜光纤设置在可转动的光纤连接件上，并在光纤连接件两侧设置外靶材和内靶材，在利用镀膜装置对包层进行镀膜的过程中，控制光纤连接件转动的同时，控制内靶材和外靶材沿光纤连接件的轴向移动，以对待镀膜光纤内外的不同位置进行溅射形成镀膜，从而可在整个待镀膜光纤表面形成均匀的镀层，提高镀膜效率。
光纤表面金属化镀膜装置及其方法

[发明专利]一种靶位结构及溅射镀膜机-CN202310491295.6有效
发明人：张汉焱;郑丹旭;朱世健;吕岳敏;吴周青 -专利权人：汕头超声显示器技术有限公司;汕头超声显示器（二厂）有限公司;汕头超声显示器有限公司
申请日： 2023-05-05 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种靶位结构及具有该靶位结构的溅射镀膜机，包括孪生靶，孪生靶包括左右并列设置并且能够相对旋转的两个圆筒靶，两个圆筒靶之间具有第一缝隙，圆筒靶的内部设有磁铁；所述靶位结构还包括整流罩和两个风刀；两个圆筒靶处于整流罩中，整流罩的前侧具有条形溅射口，整流罩上开设有两个条形进风口，两个条形进风口分别处于条形溅射口的左右两侧；两个风刀均设置在整流罩外面并分别与相应的条形进风口相对应，风刀的条形风刀口向后倾斜朝向相应圆筒靶的靶面；两个圆筒靶与整流罩之间分别具有第二缝隙。本发明不仅能够有效地除掉孪生靶的表面吸附的灰尘杂质，而且可使溅射更加均匀，并提高工艺气体的利用率以及放电的稳定性。
一种结构溅射镀膜

[实用新型]一种磁控溅射设备及其阳极-CN202223469321.5有效
发明人：李细柳;朱正尧 -专利权人：东莞市科盛机电设备有限公司;深圳市科和盛业技术有限公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射设备；包括壳体，壳体具有腔体，壳体上设有开口，开口处设置有安装板，安装板密封开口，腔体内设置有靶材和阳极，安装板的内侧设置有绝缘体，阳极设置在绝缘体上，阳极邻近靶材，阳极包括阳极壳、磁靴和磁体，磁靴和磁体均设置在阳极壳内，磁体包括有多个，且间隔设置在磁靴上；阳极壳为导电材质接入电源的正极。磁控溅射设备在使用时，通过阳极的电场和磁场能够将大量的电子吸引向阳极，由此能够避免大量的电子轰击基材，降低基材的温度，确保工艺的稳定性。
一种磁控溅射设备及其阳极

[实用新型]一种磁控溅射镀膜用多功能加工台-CN202320413706.5有效
发明人：高岩;叶东国;付志江 -专利权人：大连榕树光学有限公司
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜用多功能加工台，涉及到加工台技术领域，包括收集箱，收集箱的底部安装有挪移组件，挪移组件用于收集箱位置的转移，收集箱的顶部固定安装有液压千斤顶，液压千斤顶的输出端固定安装有第一台板，第一台板的下表面固定有两矩形框板，矩形框板中滑动插接有滑板，矩形框板的底部贯穿设置有螺栓，且矩形框板与螺栓螺纹连接。通过抽拉滑板在矩形框板的内部滑动，可以调整第二台板与第一台板的间距，使得第一台板配合两第二台板可以调整该加工台的支撑范围，更好的满足生产过程中的支撑要求，第一台板设置在液压千斤顶上，借助液压千斤顶可以调整第一台板的高度，更好的满足应用需求。
一种磁控溅射镀膜多功能加工

[发明专利]一种氮化钽薄膜的制备方法及氮化钽薄膜-CN202310244004.3在审
发明人：许磊;史鹏 -专利权人：无锡尚积半导体科技有限公司
申请日： 2023-03-14 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请提供了一种氮化钽薄膜的制备方法及氮化钽薄膜，该方法包括：在真空反应室内，对衬底进行脱气的脱气步骤；将脱气后的衬底与预设温度的载台持续接触第一预设时间，以利用载台温度对衬底温度进行均匀化的恒温步骤；在真空反应室内对温度均匀化后的衬底进行直流磁控溅射形成氮化钽薄膜的磁控溅射步骤；在下次使用前将真空反应室的气压和温度恢复至初始状态的恢复步骤。本申请可以制备出具有更好均匀性和重复性的氮化钽薄膜。
一种氮化薄膜制备方法

[发明专利]一种基于Ta元素掺杂的VO2-CN202310104659.0在审
发明人：周立伟;陈丹可 -专利权人：天津理工大学
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于Ta元素掺杂的VO2薄膜的制备方法，其制备过程是利用磁控溅射在钙钠玻璃衬底上共溅V、Ta金属薄膜，然后通氧进行快速热退火，从而实现VO2功能镀层的均匀掺杂。本发明制备出的Ta掺杂VO2薄膜，相变温度显著降低至人体热感临界温度附近，金属‑半导体转换过程几乎不存在滞回现象，并且对光谱吸收边沿和光学带隙也具有重要的调控作用。同用常见工艺制备的VO2薄膜相比，本发明涉及的工艺简单可靠，热消耗小，生长的薄膜均匀质密，使得VO2薄膜在智能窗等领域的规模化生产中具有巨大应用潜力。
一种基于 ta 元素掺杂 vo base sub