专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种大功率旋转阴极端头-CN202320606397.3有效
  • 匡国庆;匡静;万安江 - 镇江市德利克真空设备科技有限公司
  • 2023-03-24 - 2023-08-08 - C23C14/35
  • 本实用新型公开一种大功率旋转阴极端头,包括主轴和套设于所述主轴上并绕主轴中心轴线相对转动的同步轮空心轴;主轴由导电材料制成,且在主轴与同步轮空心轴之间通过铜套电性连接;同步轮空心轴由导电材料制成,其中一端连接靶材;在主轴与同步轮空心轴之间的间隙中还设置有导电环组件,外部电源依次通过主轴、导电环组件、同步轮空心轴与靶材电性连接。该大功率旋转阴极端头的主轴与同步轮空心轴之间既通过导电套、弹簧以及导电块电性连接,又通过第二电编织带和导电块电性连接电性连接,从而实现大功率动态旋转传输的目的,并且多个均匀分布的导电块与同步轮空心轴浮动接触,从而实现大功率动态旋转传输的目的。
  • 一种大功率旋转阴极端头
  • [实用新型]一种镀膜设备阴极供气装置-CN202320672510.8有效
  • 匡国庆;匡静;万安江 - 镇江市德利克真空设备科技有限公司
  • 2023-03-30 - 2023-08-08 - C23C14/35
  • 本实用新型公开一种镀膜设备阴极供气装置,包括集成气路板,在所述集成气路板内开设有多条平行或相交的气路,该镀膜设备阴极供气装置配置三个进气嘴快换接头,能够同时连接三种不同的气源,满足真空镀膜设备多种气体供应的要求,并且还配置四个出气嘴快换接头,通过不同气路的组合能够输出单一气体,也能够输出多种混合气体,同时每条气路上均设置有流量计,通过调节流量计,使得出气嘴快换接头能够输出不同流量的单一气体或者不同比例的混合气体,从而满足大部分真空镀膜设备供气的需求。
  • 一种镀膜设备阴极供气装置
  • [实用新型]一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置-CN202223399547.2有效
  • 周伟锋 - 苏州释欣汽车零部件有限公司
  • 2022-12-19 - 2023-08-08 - C23C14/35
  • 本实用新型公开了一种溅射距离可调的磁控溅射镀膜装置,涉及磁控溅射镀膜装置结构技术领域,为解决现有的磁控溅射镀膜装置在进行镀膜的时候,产品都是固定放置,这样不能方便的对产品的位置进行调节的问题。所述镀膜装置底座的上方设置有放置座,所述放置座内部的一端安装有电动气缸,所述电动气缸的上方安装有阳极板,所述阳极板的上端设置有放置台,所述放置座的一侧安装有竖向安装架,所述竖向安装架上端设置有横向安装架,所述横向安装架的一端安装有推动气缸,所述推动气缸的下方安装有透明密封罩,所述透明密封罩的内部安装有冷却装置箱,所述透明密封罩外壁的一侧安装有进水装置,所述透明密封罩,所述进水装置的下方设置有氮气进入座。
  • 一种溅射距离可调磁控溅射镀膜装置
  • [发明专利]高强韧高导电的Cu/Mo梯度多层膜的制备方法-CN202310533616.4在审
  • 于首明;卢静静;张国君;王涛;孙宇轩;梁中强 - 西安理工大学
  • 2023-05-11 - 2023-08-04 - C23C14/35
  • 本发明公开了高强韧高导电的Cu/Mo梯度多层膜的制备方法,采用磁控溅射技术,依据设计的单层膜厚度分布,在基片上交替沉积Cu单层和Mo单层,制备出单层厚度沿薄膜生长方向梯度下降的Cu/Mo梯度多层膜。本发明制备的高强韧、高导电的Cu/Mo梯度多层膜,其梯度多层结构基于幂函数设计,能在保持“薄膜总厚度”、“最表面的单层厚度”和“靠近基体的单层厚度”等几个参数相同或相近的情况下,仅改变“结构梯度”(即幂指数m)便可获得一系列具有不同单层厚度分布的Cu/Mo梯度多层膜,经力学和电学性能测量,可确定能协同提高强度、韧性和导电性的最优结构梯度。
  • 强韧导电cumo梯度多层制备方法
  • [发明专利]一种真空磁控镀膜生产线及其镀膜系统-CN202310441458.X在审
  • 姜建峰 - 赫得纳米科技(昆山)有限公司
  • 2023-04-23 - 2023-08-04 - C23C14/35
  • 本发明涉及真空磁控镀膜技术领域,且公开了一种真空磁控镀膜生产线及其镀膜系统,包括底座和镀膜系统,底座的底部固定安装有四个支撑腿,底座的顶部固定安装有真空箱,真空箱的正面铰接有密封门,真空箱的内部转动连接有放置盘,真空箱的顶部设置有供料装置,真空箱的顶部且位于供料装置的右侧固定安装有真空泵。该真空磁控镀膜生产线及其镀膜系统,通过底座的设置实现对真空箱进行安装,通过支撑腿的设置实现对底座进行支撑,通过真空箱的设置实现对物体进行放置,通过供料装置的设置实现对原料进行盛放,通过放置盘的设置实现对物体进行转动,从而实现对物体进行全面的镀膜,通过镀膜系统的设置实现对物体进行镀膜。
  • 一种真空镀膜生产线及其系统
  • [发明专利]复合涂层及其制备方法、植入材料和医疗器械-CN202310521942.3在审
  • 李月明;赵国瑞;王彪;李润霞 - 东莞理工学院
  • 2023-05-09 - 2023-08-01 - C23C14/35
  • 本发明涉及涂层的制备技术领域,公开了复合涂层及其制备方法、植入材料和医疗器械。公开的复合涂层,包括:在基体表面依次设置的Ti过渡层、第一陶瓷层和第二陶瓷层,第一陶瓷层的主要成分为Ti3SiC2,第二陶瓷层主要成分为Ti3(Si,Ag)C2。公开的制备方法,包括在基体表面依次沉积Ti过渡层和主要成分为Ti3SiC2的第一陶瓷层以及主要成分为Ti3(Si,Ag)C2的第二陶瓷层。公开的植入材料,包括在基体表面沉积上述复合涂层。公开的医疗器械,包括上述的植入材料。本发明的复合涂层能增强钛合金的耐磨性和耐蚀性,并且植入初期还具有抗细菌感染的能力。
  • 复合涂层及其制备方法植入材料医疗器械
  • [发明专利]一种磁控溅射与电子束复合型镀膜机-CN201810282981.1有效
  • 金炯;杨林;姜琼 - 杭州赛威斯真空技术有限公司
  • 2018-04-02 - 2023-08-01 - C23C14/35
  • 本申请涉及一种磁控溅射与电子束复合型镀膜机,包括机箱、安装板、升降机构、基片挡板机构、水冷接口、真空机构、样品放置盒、膜厚检测仪、导柱、旋转机构、磁控溅射机构、电子束发生器、加热机构、连接管道,机箱上固定有导柱、升降机构,导柱上滑动套装安装板,安装板上固定基片挡板机构、膜厚检测仪,升降机构与安装板配合并驱动安装板上下升降;膜厚检测仪的探头固定在连接管道下部并与被加工产品配合;连接管道转动安装在安装板上,连接管道上部与水冷接口配合连接,连接管道下部安装样品放置盒,加热机构安装在机箱内,安装板上安装有旋转机构,每套基片挡板机构控制一个半圆形基片挡板开合。本申请结构简洁,使用方便,功能多,效果好。
  • 一种磁控溅射电子束复合型镀膜
  • [发明专利]一种多靶共沉积的磁过滤镀膜装置-CN202310398569.7在审
  • 周潜;娄陈旭坤;施仙庆;马震宇;赵文轩;徐锋;左敦稳 - 南京航空航天大学
  • 2023-04-14 - 2023-07-28 - C23C14/35
  • 一种多靶共沉积的磁过滤镀膜装置,包括:第一阴极电弧源和第二阴极电弧源,所述第一阴极电弧源和第二阴极电弧源分别包含第一靶材和第二靶材,所述第一靶材和第二靶材外围均设有绝缘材料,所述绝缘材料用于防止次放电现;T型磁过滤弯管,所述T型磁过滤弯管入口两端分别与所述第一阴极电弧源和第二阴极电弧源的前端相连接,出口端与真空镀膜腔室的内腔体相连接;真空镀膜腔室室内为真空状态,且包含待镀膜的衬底,所述衬底与阳极源相连接,所述阳极源与负脉冲偏压相连接。本发明通过控制线圈模组中的电流,能够实现单靶材高效沉积以及多靶材共同沉积,结构简单、控制灵活、镀膜效率高、满足多元多层复合涂层制备需求。
  • 一种多靶共沉积过滤镀膜装置

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