专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]MEMS器件-CN202310391403.2在审
  • H-J·蒂姆;S·巴曾;M·富尔德纳;S·盖勒;M·F·赫曼;M·基里亚克;A·C·奥纳兰;K·特卡丘克;A·沃瑟 - 英飞凌科技股份有限公司
  • 2023-04-13 - 2023-10-27 - B81B7/02
  • 本公开的实施例涉及MEMS器件。MEMS器件包括以竖直间隔配置的第一可偏转膜结构、刚性电极结构和第二可偏转膜结构,其中刚性电极结构被布置在第一和第二可偏转膜结构之间,并且其中第一和第二可偏转膜结构各自包括可偏转部分,并且其中第一和第二可偏转膜结构的可偏转部分借助机械连接元件彼此机械耦合,并且与刚性电极结构机械解耦;以及其中机械连接元件的至少一个子集是细长机械连接元件,其中细长机械连接元件具有横向截面区域,横向截面区域沿着如下方向具有横向伸长尺寸:该方向与第一和第二可偏转膜结构在相应细长机械连接元件的横向位置处的局部膜偏转梯度在+/‑20°公差范围内垂直。
  • mems器件
  • [发明专利]一种传感器封装结构及其形成方法-CN202210365162.X在审
  • 李景明;马硕 - 苏州原位芯片科技有限责任公司
  • 2022-04-07 - 2023-10-24 - B81B7/02
  • 本发明实施例提供了一种传感器封装结构,包括:传感器组件,所述传感器组件包括基板、位于所述基板上的凹槽以及设置于所述凹槽内的芯片,所述芯片与所述基板通过键合件电连接;位于所述基板设有芯片一侧上方的流道外壳;所述流道外壳包括主流道外壳和位于所述主流道外壳两侧的第一流道外壳及第二流道外壳,所述主流道外壳与所述基板形成密闭空腔作为主流道,所述第一流道外壳内部形成有第一流道,所述第一流道用于将待测液体导入所述主流道,所述第二流道外壳内部形成有第二流道,所述第二流道用于将待测液体导出所述主流道;其中,所述主流道外壳上形成有窗口,所述窗口用于在将所述主流道外壳固定至所述基板形成密闭空腔时露出所述键合件。
  • 一种传感器封装结构及其形成方法
  • [发明专利]MEMS三轴AMR磁力传感器及其制造方法-CN202110191336.0有效
  • 王俊杰 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2021-02-20 - 2023-10-24 - B81B7/02
  • 本发明公开了一种MEMS三轴AMR磁力传感器,Z轴AMR磁力传感器形成在沟槽的侧面上,Z轴AMR磁力传感器的第一侧长度边缘位于沟槽的顶部并延伸到沟槽外的第一介质层的表面,Z轴AMR磁力传感器的第二侧长度边缘位于沟槽的底部表面上;Z轴电极的第一侧宽度边缘位于沟槽的顶部并延伸到Z轴AMR磁力传感器的第一侧长度边缘外的第一介质层的表面,Z轴电极的第二侧宽度边缘位于沟槽的底部的Z轴AMR磁力传感器上且位于Z轴AMR磁力传感器的第二侧长度边缘的内侧。本发明还公开了一种MEMS三轴AMR磁力传感器的制造方法。本发明能防止Z轴电极的刻蚀工艺在沟槽的底部形成微沟槽并同时能提高工艺窗口,能防止形成弱点区域并防止由于弱点区域而使器件失效,能提高产品良率。
  • memsamr磁力传感器及其制造方法
  • [实用新型]MEMS封装结构-CN202320866924.4有效
  • 邓登峰;汪建平;胡铁刚 - 杭州士兰微电子股份有限公司
  • 2023-04-14 - 2023-10-24 - B81B7/02
  • 本申请公开了一种MEMS封装结构,包括:MEMS传感器单元,MEMS传感器单元具有质量块检测电极、正电容检测电极和负电容检测电极;ASIC单元,ASIC单元具有质量块检测电极、正电容检测电极和负电容检测电极,ASIC单元的各电极与MEMS传感器单元的各电极相对应;第一键合线,用于连接MEMS传感器单元的质量块检测电极和ASIC单元的质量块检测电极;第二键合线,用于连接MEMS传感器单元的正电容检测电极和ASIC单元的正电容检测电极;第三键合线,用于连接MEMS传感器单元的负电容检测电极和ASIC单元的负电容检测电极;其中,第二键合线和第三键合线关于第一键合线轴对称。该MEMS封装结构通过采用对称设计的键合线,可以有效减小内部的寄生电容差异,增强了MEMS封装结构的稳定性和可靠性。
  • mems封装结构
  • [发明专利]一种MEMS器件、MEMS器件的制备方法和电子装置-CN202310871345.3在审
  • 徐达武 - 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
  • 2023-07-14 - 2023-10-20 - B81B7/02
  • 一种MEMS器件、MEMS器件的制备方法和电子装置,器件包括:第一衬底,所述第一衬底的表面设置有沟槽和填充所述沟槽并覆盖所述第一衬底的介电层,所述介电层上设置有第一极板层,所述第一极板层上设置有功能层,部分所述功能层悬置于所述第一极板层上方;第二衬底,在所述第二衬底内形成有凹槽,所述第一衬底形成有所述功能层的一侧与所述第二衬底形成有所述凹槽的一侧相结合。本申请的MEMS器件通过在第一衬底内形成沟槽,增加第一极板增加第一极板和第一衬底之间的距离,从而有效降低了对地电容,提升了MEMS器件的分辨率且结构简单制造成本较低。
  • 一种mems器件制备方法电子装置
  • [发明专利]一种红外探测器芯片晶圆及红外探测器、制备方法-CN202311043081.9在审
  • 刘继伟;李松华;刘向宏;胡汉林;王兴祥 - 烟台睿创微纳技术股份有限公司
  • 2023-08-18 - 2023-10-20 - B81B7/02
  • 本申请公开了一种红外探测器芯片晶圆及红外探测器其封装结构、制备方法,红外探测器芯片晶圆包括衬底晶圆、外延层、层间介质、集成电路、与集成电路相连的微测辐射热计;集成电路处设有贯穿层间介质、外延层及衬底晶圆的通孔,通孔的侧壁设有绝缘层,通孔内填充有导电材料,以使集成电路与导电材料相连;衬底晶圆下表面设有与导电材料相连的导电结构,以使集成电路通过导电结构与外部电路相连。本申请公开的技术方案,在集成电路处设置通孔,在通孔内填充导电材料,以使集成电路通过导电材料及导电结构与外部电路相连,而不再需要通过从集成电路引出互连线来与外部电路相连,从而缩短电互联长度,提高互连可靠性,降低信号传输延迟和封装体积。
  • 一种红外探测器芯片制备方法
  • [发明专利]一种像元结构及红外探测器-CN202310828279.1有效
  • 刘羲;刘小柔;刘建华;丁金玲 - 杭州海康微影传感科技有限公司
  • 2023-07-06 - 2023-10-20 - B81B7/02
  • 本申请涉及一种像元结构及红外探测器。所述像元结构包括基底及转化元件。转化元件用于将光信号转化为电信号,转化元件包括转化主体,设于基底之上并能够支撑转化主体的转化支撑结构,以及连接于转化支撑结构和转化主体的连接结构,沿像元结构的厚度方向,转化主体与基底间隔设置;连接结构包括沿第一方向延伸的多条间隔并首尾依序连接的连接臂,相邻两个连接臂平滑过渡连接,和/或连接结构与转化主体之间平滑过渡连接。上述结构,在不增加器件封装体积及不引入额外部件的前提下,能够有效降低因静电作用集中于像元结构的敏感结构上的应力,从而提高连接结构及整个器件的结构强度以及器件的抗静电能力。
  • 一种结构红外探测器
  • [发明专利]图像传感器及成像方法-CN201880068674.1有效
  • 王星泽;赖嘉炜;舒远 - 合刃科技(深圳)有限公司
  • 2018-10-27 - 2023-10-13 - B81B7/02
  • 本发明实施例公开了一种图像传感器,包括:像素点传感器阵列、位于像素点传感器阵列前端的F‑P腔反射型滤光结构;其中,所述F‑P腔反射型滤光结构包括底层反射镜、F‑P腔体、顶层反射镜;所述图像传感器的结构从下至上依次为像素点传感器阵列、底层反射镜、F‑P腔体、顶层反射镜;其中,F‑P腔反射型滤光结构的结构属性及参数可以调节。此外,本发明实施例还公开了一种高动态范围图像成像方法。采用本发明中的图像传感器及成像方法,解决了在成像过程中各个波段欠曝或过曝的问题,提高了像素利用率和拍摄图像的动态范围。
  • 图像传感器成像方法

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