[发明专利]蒸镀掩模、蒸镀方法以及有机EL显示装置的制造方法

说明书

通过使用线膨胀系数较小、并且比重小、具有刚性的材料，从而提供一种轻量、且使用了尺寸偏差较小的框架的蒸镀掩模。本实施方式所公开的蒸镀掩模中，其框架(15)通过碳纤维强化塑料(CFRP)形成。

技术领域

本发明涉及一种例如用于对有机EL显示装置的有机层进行蒸镀的蒸镀掩模、蒸镀方法以及有机EL显示装置的制造方法。

背景技术

制造有机EL显示装置时，其基板上形成有TFT等的驱动元件，有机层在其电极上对应各像素单元而层叠。该有机层对湿气敏感并且不能被蚀刻。因此，例如，如图8所示，通过重叠配置被蒸镀基板81以及由掩模主体821和框架822构成的蒸镀掩模82，并通过蒸镀掩模82的开口821c对蒸镀源85的有机材料85a进行蒸镀来形成有机层80的层合体。并且，仅在由必要的像素的绝缘膜81b所包围的电极81a上层叠必要的有机层80。该被蒸镀基板81和蒸镀掩模82如果不尽可能靠近的话，则仅在像素的正确区域中不会形成有机层80。如果不仅仅在像素的正确区域堆积有机材料的话，显示图像容易变得模糊。因此，通过将磁性体的金属支撑层821b用于蒸镀掩模82上，且通过使被蒸镀基板81夹置于：由树脂84等固定设置在被蒸镀基板81的相反面的永久磁铁83或电磁铁、与蒸镀掩模82之间，从而使被蒸镀基板81与蒸镀掩模82相靠近的磁性吸盘方法得以应用(例如，可参考专利文献1)。

传统上，已经将金属掩模用作蒸镀掩模，但是混合型的掩模主体821的使用开始被研究，其树脂膜821a和树脂膜821a的除开口821c的边缘之外的部分被金属支撑层821b支撑。该蒸镀掩模82通过在掩模主体821的周边部分处固定到框架822，使得掩模主体821稳定并且操作方便。在图8中，821d为金属支撑层821b的开口，其形成为比开口821c更大，以不阻塞树脂膜821a的开口821c。该金属支撑层821b的周边部分通过焊接等方式固定于框架(框体)822，该框架822通过热膨胀率较小的殷钢等构成的金属而形成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本公开专利第“特开2014-205870号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

如前所述，蒸镀掩模82的掩模主体821的周边部分接合于框架822。但是，从图8可以显而易见得知，进行蒸镀时，框架822最靠近蒸镀源85。因此，框架822的温度最容易升高，被加热后的框架822的热量传达至蒸镀掩模82的掩模主体821及被蒸镀基板81，被蒸镀基板81的温度也容易上升。由于框架822是实心的且具有一定的重量，从而具有很大的热容量，因此一旦升温后就容易保持温度。其结果是，被蒸镀基板81的周边部位比中心部位的温度更容易升高。也就是说，存在被蒸镀基板81发生热膨胀差异，无法形成均匀的有机层80的问题。

特别是，该温度分布的问题会随着被蒸镀基板及蒸镀掩模的大型化变得更加显著。但是，另一方面，蒸镀掩模由于量产化而带来的成本降低，进一步被要求大型化。即，目前的有机EL制造工序中的最大被蒸镀基板尺寸(所谓的母玻璃的尺寸)是G6H(第六代(约1500mm×1800mm)的一半大小，即1500mm×900mm的程度)，然而，先前技术的液晶面板的制造工序中所使用的母玻璃的尺寸超过G10(约2880mm×3130mm)，即使在有机EL显示装置中，进一步实现大型化的要求也很强烈。但是，有机EL显示装置的制造工序中，将基板尺寸设置为比G6H更加大型化比较困难。其中一个原因是蒸镀掩模的重量的问题。

关于重量，即使具有上述G6H的尺寸，框架的重量也为约80kg，这个重量接近通过机械臂搬运蒸镀掩模的极限，不能再比这个更重。然而，从防止由于在蒸镀期间的热膨胀引起的蒸镀掩模与被蒸镀基板的错位这个观点出发，不能轻易地改变蒸镀掩模的框架的材料。此外，考虑到掩模主体已张紧并粘合，存在一些限制，即无法将框架制作得比现在更细、更薄。