[发明专利]一种管式PECVD设备石墨舟电极引入装置

说明书

本发明公开了一种管式PECVD设备石墨舟电极引入装置，包括安装于石墨舟上的石墨舟脚和用于支撑石墨舟的支撑组件，所述支撑组件上设置有与石墨舟脚相对应的石墨舟座，所述石墨舟座通过一连接组件与石墨舟电极杆电连接。本发明的管式PECVD设备石墨舟电极引入装置具有对电极效率高以及可靠性高等优点。

技术领域

本发明主要涉及半导体加工技术领域，特指一种管式PECVD设备石墨舟电极引入装置。

背景技术

管式PECVD设备是半导体加工中的镀膜沉积设备，已经广泛应用于集成电路、分立器件、太阳能光伏行业中的镀膜、沉积工艺，特别适用于对结深和均匀性指标要求高的场合。具体原理是利用高频电源来激发气体辉光放电形成等离子体，在电磁场的作用下，促进工艺气体分子的分解、化合、激发和电离，加速了反应活性基团的生成，降低薄膜沉积温度。使得原来必须在高温条件下才能进行的化学淀积反应，可以在较低温度（400℃）下进行，从而有效地避免在高温条件下掺杂杂质在衬底中的扩散，减小了薄膜的内应力。镀膜是光伏电池生产中关键环节，管式PECVD设备的性能直接影响电池的效率和产能。

管式PECVD设备是利用射频电源放电来电离工艺气体从而实现镀膜功能，石墨舟通过特定的结构组合使相邻的两个舟片互为阴阳极，因此，只需要将射频电源的正负两个电极引入石墨舟上就能实现放电。现有管式PECVD（Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition，中文全称为离子体增强化学气相淀积）设备石墨舟电极引入方式为射频电源的正负两个电极的电极杆插入石墨舟对应位置的两个电极引入孔。每个工艺周期，石墨舟都需要进出反应室一次，石墨舟进入反应室时就需要对电极，常规的对电极有两种方式：

1、一种是中位对电极方式：推舟（石墨舟装载机构）载着石墨舟从上位快速进舟，当石墨舟靠近电极杆时，推舟从上位下行至中位，再继续缓慢进舟（速度过快会有冲击），将石墨舟电极引入孔嵌入电极杆，推舟再继续下行直至脱离石墨舟后退出反应室。但是中位电极方式存在一个中位，延长了进舟时间，也就延长了工艺周期，同时延长进舟时间还会导致炉门敞开的时间的增加，这也会增加反应室的工艺温度下降幅度，也就增加了回温时间，进一步延长了工艺周期，降低了设备的产能。

2、另外一种方式是上位对电极方式：推舟从上位匀速进舟，直接将石墨舟电极引入孔嵌入电极杆，再下行，石墨舟带着射频电源的电极杆一起下行直至石墨舟落在石英工艺管管壁上，然后推舟继续下行，直至脱离石墨舟后再退出反应室。上位对电极方式，虽然可以节省推舟中位对电极的时间，但是对电极杆本身的弹性要求较高，而且在400℃左右的温度下电极杆容易产生永久变形，从而引起电极杆的位置偏差，出现石墨舟对不上电极杆的情况，降低了设备的可靠性。

发明内容

本发明要解决的技术问题就在于：针对现有技术存在的技术问题，本发明提供一种石墨舟对电极效率和电极引入可靠性高的管式PECVD设备石墨舟电极引入装置。

为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为：

一种管式PECVD设备石墨舟电极引入装置，包括安装于石墨舟上的石墨舟脚和用于支撑石墨舟的支撑组件，所述支撑组件上设置有与石墨舟脚相对应的石墨舟座，所述石墨舟座通过一连接组件与石墨舟电极杆电连接。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述石墨舟脚的数量为四个，分别位于石墨舟的四个边角处。

所述支撑组件包括两根平行布置的绝缘支撑杆，所述石墨舟座套设于绝缘支撑杆上，所述石墨舟的其中两个石墨舟脚与石墨舟座相对应，所述绝缘支撑杆上对应另两个石墨舟脚的位置处套设有绝缘隔套。

所述绝缘支撑杆上设置有用于对绝缘隔套进行限位的限位组件。

所述限位组件包括位于绝缘隔套两侧的限位套，所述绝缘隔套两侧的限位套套设在绝缘支撑杆上且通过一连接杆连接。