[发明专利]一种管式PECVD设备石墨舟电极引入装置有效
| 申请号： | 201711382216.9 | 申请日： | 2017-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN108456874B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 张春成;成秋云;吴德轶;李晔纯;张弥涛;李明 | 申请（专利权）人： | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/507 | 分类号： | C23C16/507;C23C16/513;C23C16/517 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清;廖元宝 |
| 地址： | 410205 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种管式PECVD设备石墨舟电极引入装置，包括安装于石墨舟上的石墨舟脚和用于支撑石墨舟的支撑组件，所述支撑组件上设置有与石墨舟脚相对应的石墨舟座，所述石墨舟座通过一连接组件与石墨舟电极杆电连接。本发明的管式PECVD设备石墨舟电极引入装置具有对电极效率高以及可靠性高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pecvd 设备 石墨 电极 引入 装置 | ||
【主权项】：
1.一种管式PECVD设备石墨舟电极引入装置，其特征在于，包括安装于石墨舟（5）上的石墨舟脚（4）和用于支撑石墨舟（5）的支撑组件，所述支撑组件上设置有与石墨舟脚（4）相对应的石墨舟座，所述石墨舟座通过一连接组件（3）与石墨舟电极杆（6）电连接。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
