[发明专利]手机玻璃盖板金属标志真空镀膜生产线

说明书

本发明公开了手机玻璃盖板金属标志真空镀膜生产线，包括依次连接的进口加热室、清洁室、第一高真空缓冲室、第一溅射过渡室、溅射室、第二溅射过渡室、第二高真空缓冲室和出口室，所述溅射室包括至少一个镀膜分区，每个镀膜分区设有至少一旋转阴极装置，所述旋转阴极装置与一角度调节装置连接，所述角度调节装置通过若干沿着纵向轴线伸展的连接臂与镀膜分区的阳极箱体连接。与现有技术相比，本发明提供的手机玻璃盖板金属标志真空镀膜生产线通过调节阴极装置的溅射角度，从而增加靶材刻蚀区域，提高靶材利用率，以克服现有技术中阴极装置的轰击轨道固定这一缺陷。

技术领域

本发明涉及手机玻璃盖板金属标志真空镀膜生产线，属于真空镀膜技术领域。

背景技术

随着现代科技的迅猛发展，触摸屏已经是许多电子显示产品的首选。电容式触摸屏则成为了全球主流的触摸屏技术，电容式触摸屏最外层的盖板玻璃是触摸屏的关键材料之一。盖板玻璃产品主要为超薄玻璃，在制作过程中需要经过开料、CNC、抛光、钢化、超声波清洗、真空镀膜、丝印等一系列特殊加工工艺制作而成。由于这种玻璃要具备高强度、高硬度和高光洁度等特点，具有耐压、耐摔、耐划伤和抗冲击等性能，可广泛适用于手机、电脑、数码和光学镜头等行业领域。镀膜工艺是电容式触摸屏制作工艺的关键环节，直接决定着后续工艺的顺利进行和触摸屏的最终使用性能，因此，镀膜技术是决定电容式触摸屏质量的关键因素。

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。电子束蒸发是目前真空镀膜光学技术中一种成熟且主要的镀膜方法，也是中国大多数光学材料镀膜的主要工艺，它解决了电阻加热方式中膜料与蒸镀源材料直接接触容易互混的问题。电子束是一种高速的电子流，可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。但由于电子束蒸发的特点是不会或很少覆盖在目标三维结构的两侧，通常只会沉积在目标表面，故现在已逐渐采用磁控溅射镀膜。据了解，溅射镀膜已成为真空镀膜中最主要的方法，该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上。目前，磁控溅射光学镀膜在国内还是个比较新的词汇。最早的磁控溅射光学镀膜机出现在上个世纪末的北美(美国和加拿大)，镀制出来的光学膜就是AR膜(减反光膜)。随着技术的进步，几十层的光学膜系被磁控溅射镀膜机镀制出来。目前我国大多数企业的光学薄膜制备仍然以电子束蒸发为主，但也开始逐渐采用溅射技术，包括离子束溅射和磁控溅射。