“祝海生”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果176个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种膜厚测试和均匀性调节方法-CN202211525105.X有效
发明人：陈立;郑学军;李俊杰;李新栓;寇立;薛闯;桂丹;孙桂红;祝海生;黄乐 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种膜厚测试和均匀性调节方法，包括：步骤S1：在待测样品上选定多个测试点；步骤S2：获取多个测试点的反射率或透过率光谱图；步骤S3：选定参考波长、参考光谱和波长点。步骤S4：通过光学模拟软件模拟光谱曲线和光谱曲线对应的膜厚，得出膜厚和选定的波长点对应的反射率或透过率之间的推算公式；步骤S5：根据推算公式计算选定的波长点下所有测试点的膜厚。本发明克服了大批量或大尺寸样品膜厚测试耗时长、膜厚检测时样品破坏性等问题，通过获得的膜厚和波长的推算公式可快速获得所有测试点的膜厚，膜厚测试耗时大大缩短，给膜厚的均匀性调节留出了足够的时间。
一种测试均匀调节方法

[实用新型]一种真空磁控溅射双面镀膜机-CN202321388028.8有效
发明人：刘柏桢;凌云;祝海生;黄乐;左莉;王聪;寇立 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空磁控溅射双面镀膜机，包括抽真空机构和镀膜室，镀膜室上设有磁控溅射系统和可转动的水平布置的转盘，转盘位于镀膜室内，转盘上环形阵列布置有多个用于安装基片的基片安装位，磁控溅射系统包括至少一组上阴极磁控溅射组件和至少一组下阴极磁控溅组件，上阴极磁控溅射组件和下阴极磁控溅组件分别位于转盘的上方和下方，镀膜室包括腔体侧壁、顶盖和下底，腔体侧壁、顶盖和下底围合成镀膜室的内部容腔，顶盖可拆卸地盖合在腔体侧壁的顶面、下底位于侧壁的底面。本实用新型镀膜室长期处于稳定的真空环境，不破空，工艺状态稳定，可满足一次双面成膜，低温成膜，成膜重复性好，膜质稳定，长期工艺稳定。
一种真空磁控溅射双面镀膜

[实用新型]一种真空磁控溅射双面镀膜系统-CN202321387625.9有效
发明人： 祝海生;刘柏桢;黄乐;凌云;左莉;寇立;王聪 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空磁控溅射双面镀膜系统，包括抽真空机构、入口室、加热室、中转室和镀膜室，入口室、中转室和镀膜室依次连接，加热室和中转室连接，镀膜室上设有磁控溅射系统和可转动的水平布置的转盘，转盘位于镀膜室内，转盘上环形阵列布置有多个用于安装基片的基片安装位，磁控溅射系统包括至少一组上阴极磁控溅射组件和至少一组下阴极磁控溅组件，上阴极磁控溅射组件和下阴极磁控溅组件分别位于转盘的上方和下方。本实用新型基片两面可实现同步镀膜，制备的膜层附着力强，膜层致密、均匀性好、成膜稳定、效率高，适应导电膜、半导体、超硬AR膜、截止滤光片、车载激光雷达等膜层的镀制。
一种真空磁控溅射双面镀膜系统

[发明专利]一种真空磁控溅射卧式双面镀膜系统-CN202310646523.2在审
发明人： 祝海生;刘柏桢;黄乐;凌云;王聪;左莉;寇立 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空磁控溅射卧式双面镀膜系统，包括抽真空机构、入口室、加热室、中转室和镀膜室，入口室、中转室和镀膜室依次连接，加热室和中转室连接，镀膜室上设有磁控溅射系统和可转动的转盘，转盘上环形阵列布置有多个基片安装位，磁控溅射系统包括分别位于转盘上方和下方的上阴极磁控溅射组件和下阴极磁控溅组件，抽真空机构包括低真空泵组、高真空泵组和深冷泵组，镀膜室连接至少一组低真空泵组、至少一组高真空泵组和至少一组深冷泵组。本发明基片两面可实现同步镀膜，制备的膜层附着力强，膜层致密、均匀性好、成膜稳定、效率高，适应导电膜、半导体、超硬AR膜、截止滤光片、车载激光雷达等膜层的镀制。
一种真空磁控溅射卧式双面镀膜系统

[发明专利]用于双室磁控镀膜机的前处理室-CN202011236500.7有效
发明人：陈立;杨恒;金诚明;薛闯;寇立;祝海生;孙桂红;黄乐;黄国兴 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2020-11-09 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明公开一种用于双室磁控镀膜机的前处理室，用于双室磁控镀膜机的前处理室包括呈矩形的前处理仓，所述前处理仓具有用于容置承载有工件的承载架的处理腔室，所述前处理室能够与镀膜室连通，在所述处理腔室的内部设有四个加热组件，四个所述加热组件分设在所述处理腔室的四个角部。本发明提供的用于双室磁控镀膜机的前处理室有效提高了工件的镀膜效率及镀膜效果。
用于双室磁控镀膜处理

[发明专利]一种大面积真空镀膜的玻璃基片角度调节装置-CN202210048058.8有效
发明人： 祝海生;胡聪芳;彭涛;陈立;凌云;唐莲;金诚明;黄乐;李俊杰;孙桂红;梁红 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种大面积真空镀膜的玻璃基片角度调节装置，包括底板，设置在底板下表面用于支撑整个所述玻璃基片角度调节装置的底座，固定于所述底板的后壁，固定于所述后壁上的顶板，所述底板、后壁和顶板构成开口状，固定于后壁的后壁丝杆导轨机构，所述连接杆的另一端连接所述后壁丝杆导轨机构；固定于顶板的顶部丝杆导轨机构，所述顶部丝杆导轨机构表面固定有上轮辊机构；固定于所述上轮辊机构和所述下轮辊机构之间的基片；其中，所述后壁丝杆导轨机构和所述顶部丝杆导轨机构以预设的行程比使得所述上轮辊机构和所述下轮辊机构以确定角度调节的进行。
一种大面积真空镀膜玻璃角度调节装置

[发明专利]立式长管镀膜设备-CN202110975682.8有效
发明人： 祝海生;黄国兴;孙桂红;黄乐;梁红;唐洪波;左莉 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种立式长管镀膜设备，立式长管镀膜设备包括真空壳体、第一靶架、第二靶架、第三靶架以及工件架，真空壳体上开设有第一舱门、第二舱门以及第三舱门，第一舱门和第二舱门相对设置，真空壳体的内部具有真空腔，第一靶架和第二靶架分别设于第一舱门和第二舱门两侧且第一靶架和第二靶架能够分别沿靠近真空壳体的方向移动以封闭第一靶门和第二靶门，第一靶架和第二靶架上均设置有溅射阴极，工件架设置在第三靶架内，工件架上承载有管状工件，第三靶架能够将工件架通过第三舱门进入真空腔内。本发明公开的立式长管镀膜设备能够有效提高管状工件的镀膜效率。
立式镀膜设备

[外观设计]多室真空镀膜机-CN202230164694.8有效
发明人： 祝海生;唐莲;唐洪波;孙桂红 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：多室真空镀膜机。2.本外观设计产品的用途：用于连续式磁控溅射镀膜。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状与图案的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
真空镀膜

[发明专利]磁控溅射镀膜装置-CN202011236269.1有效
发明人：唐莲;杨恒;孙桂红;祝海生;黄乐;黄国兴 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2020-11-09 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种磁控溅射镀膜装置，磁控溅射镀膜装置包括壳体、设置于所述壳体顶部的真空组件、设置于所述壳体外侧壁的多个溅射阴极，所述壳体内部开设有用于容纳承载有工件的承载架的镀膜腔体，所述真空组件与所述镀膜腔体连通以抽取所述镀膜腔体的气体，多个所述溅射阴极绕所述壳体的外周壁均匀间隔布置，以均匀地对位于所述镀膜腔体的工件的外壁面镀膜，所述镀膜腔体的底壁和顶壁上分别设置有第一固定组件以及第二固定组件，所述第一固定组件和所述第二固定组件相对设置，所述第一固定组件和所述第二固定组件用于将流转至所述镀膜腔体内的所述承载架进行固定。本发明提供的磁控溅射镀膜装置解决了现有承载架悬空使用而导致镀膜质量下降的问题。
磁控溅射镀膜装置

[发明专利]多室连续光学镀膜机-CN202010714409.5有效
发明人：孙桂红;祝海生;梁红;陈立;唐莲;唐洪波 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种多室连续光学镀膜机，所述镀膜机包括运转机构、至少一个传送部、至少一个前室，以及至少一个镀膜室，镀件设于一工件转架上，所述传送部与前室衔接，所述前室与镀膜室衔接，所述传送部、前室和镀膜室形成镀件的镀膜通道，所述前室与镀膜室独立设置真空设备，所述前室和镀膜室为单独的密封腔室，所述工件转架通过运转机构在镀膜室内转动。本发明提供多室连续光学镀膜机，提高了镀膜效率，节约能源，并且镀膜后镀件的膜厚均匀。
连续光学镀膜

[发明专利]镀膜生产线控制方法-CN201911082246.7有效
发明人： 祝海生;陈立;唐洪波;唐莲;薛闯;金诚明;凌云;孙桂红;梁红;黄国兴;黄乐 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2019-11-07 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种镀膜生产线控制方法，方法应用到上位机中，传送流水线和镀膜生产线首尾相连形成一环形流水线，上位机与传送流水线以及镀膜生产线相通信连接，以通过上位机对所述传送流水线和所述镀膜生产线进行控制，上述方法可以实时检测基片的位置，并根据基片的位置对整个镀膜生产线各个腔室的真空范围进行调节，此外还可以对基片的传动速度进行调节，从而可以对整个生产线进行控制，进而保证了镀膜的准确性。形成一环形流水线，节约占地面积，整个镀膜生产线中基片传送采用智能控制，节约人力物力，提供生产效率，镀膜流水线中各腔室依据产品需求更换或增加，整条镀膜生产线适应多种镀膜工艺要求，使用寿命延长，节约资源。
镀膜生产线控制方法

[实用新型]真空镀膜用溅射阴极-CN202123444324.9有效
发明人： 祝海生;唐洪波;唐莲;孙桂红;黄乐;潘继峰 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种真空镀膜用溅射阴极，其包括安装板，所述安装板的顶部设有驱动装置，所述安装板上设有左挡板以及右挡板，所述左挡板和所述右挡板与所述安装板共同形成用于安装靶管的容置腔，所述驱动装置同时和所述左挡板和所述右挡板连接，以同时驱动所述左挡板和所述右挡板转动而关闭或露出所述容置腔；所述左挡板和所述右挡板彼此靠近的一端分别设置有在关闭所述容置腔时彼此抵靠的左连接结构和右连接结构。本实用新型提供的真空镀膜用溅射阴极可以在不需要使用靶管时，可关闭容置腔，对靶管进行保护，防止靶管污染。
真空镀膜溅射阴极

[实用新型]可调节可加偏压工件架-CN202123405684.8有效
发明人： 祝海生;左莉;唐洪波;孙桂红;黄乐;潘继峰 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开一种可调节可加偏压工件架，其包括安装底座、轴承座、转动齿轮、旋转主轴，转动齿轮包括齿轮本体以及安装轴，安装轴一端伸入至转动齿轮的轴心处，安装轴的另一端与齿轮本体连接，旋转主轴两端分别设置在齿轮本体远离安装轴一侧的轴心处和上安装座的轴心处，齿轮本体的圆周方向上设置有多个用于管状工件以及多个支撑杆，相邻两支撑杆之间具有至少五个管状工件；管状工件的顶部设有安装夹具，安装夹具与管状工件卡接连接，安装夹具连接有偏压加载系统。本实用新型提供的可调节可加偏压工件架通过设置安装夹具来固定管状工件，从而可以直接通过偏压加载引入偏压，同时带动工件自转，从而保证工件镀膜时加偏压的稳定性。
调节偏压工件

[实用新型]真空镀膜工件架-CN202123405787.4有效
发明人： 祝海生;唐洪波;唐莲;孙桂红;黄乐;潘继峰 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开一种真空镀膜工件架，其包括上支撑盘、下支撑盘以及连接柱，所述连接柱的上下两端分别和所述上支撑盘和所述下支撑盘彼此相对的壁面连接以形成安装间隙，所述安装间隙内设有多个旋转桶，所述旋转桶的外壁面用于安装待镀膜工件；所述真空镀膜工件架还包括设于所述下支撑盘下方的顶升机构和设置于所述上支撑盘上方的旋转机构，以在所述顶升机构顶起下支撑盘后，旋转机构与上支撑盘接触并带动上支撑盘旋转，所述顶升机构和所述下支撑盘之间设有用于转运所述工件架的滑移轨道。本实用新型提供的真空镀膜工件架可以实现工件架在不同工艺区或工位间进行移动，并且可以设置多个工件架实现连续、多种工艺生产，提高效率。
真空镀膜工件

[发明专利]应用于狭窄空间的三室镀膜机-CN202011188916.6有效
发明人：唐莲;杨恒;祝海生;唐洪波;梁红;孙桂红;黄乐;黄国兴 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2020-10-30 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开一种应用于狭窄空间的三室镀膜机，应用于狭窄空间的三室镀膜机包括第一流转平台、第一处理室、镀膜室、第二处理室、第二流转平台、连接平台以及多个承载架，所述镀膜室的两侧分别与所述第一处理室和所述第二处理室连通，所述第一处理室远离所述镀膜室的一侧与所述第一流转平台连通，所述第二处理室远离所述镀膜室的一侧与所述第二流转平台连通，所述连接平台的一端与所述第一流转平台相连通，所述连接平台的另一端与所述第二流转平台相连通，以使所述第一流转平台、连接平台以及第二流转平台呈U型，所述承载架用于承载工件在所述镀膜机内流转。本发明提供了一种适用于狭窄空间使用的三室镀膜机。
应用于狭窄空间镀膜

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
下一页»
尾页
共 176 条