[发明专利]凸块结构与其制作方法有效
申请号: | 201610103905.0 | 申请日: | 2016-02-25 |
公开(公告)号: | CN106876353B | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 卢东宝;徐子涵 | 申请(专利权)人: | 南茂科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L21/60;C25D5/00;C25D15/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 马雯雯;臧建明 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 结构 与其 制作方法 | ||
1.一种凸块结构的制作方法,其特征在于,包括:
将多个气泡掺杂于电镀液中;以及
藉由所述电镀液形成凸块本体于镀件上,且所述多个气泡混入所述凸块本体中,以构成分布于所述凸块本体中的多个孔隙,其中所述多个孔隙的直径介于0.05微米至1微米之间,且所述凸块本体与所述多个孔隙间的孔隙度介于25%至75%之间。
2.根据权利要求1所述的凸块结构的制作方法,其特征在于,所述多个气泡藉由在所述电镀液中加入起泡剂所产生。
3.根据权利要求1所述的凸块结构的制作方法,其特征在于,所述电镀液中的多个离子堆栈沉积构成所述凸块本体,所述多个气泡掺杂于所述多个离子之间,以在所述多个离子堆栈时混入所述凸块本体并构成所述多个孔隙。
4.根据权利要求3所述的凸块结构的制作方法,其特征在于,所述电镀液包括含有金、银或铜离子的材质,而所述多个离子包括金、银或铜离子。
5.根据权利要求3所述的凸块结构的制作方法,其特征在于,藉由所述电镀液形成所述凸块本体的步骤包括均匀搅拌所述电镀液,使所述多个气泡悬浮于所述电镀液中。
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