[发明专利]具有在金属化层之下的应力缓冲层的LED有效

专利信息
申请号: 201480037882.7 申请日: 2014-06-23
公开(公告)号: CN105340089B 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: S.阿克拉姆;Q.邹 申请(专利权)人: 亮锐控股有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 孙慧;景军平
地址: 荷兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 金属化 之下 应力 缓冲 led
【权利要求书】:

1.一种发光器件,包括:

基本上透明的生长衬底;

布置在衬底上的发光二极管(LED)层,LED层包括p型层和n型层;

电气接触p型层和n型层以形成p金属接触件和n金属接触件的一个或多个金属接触层;

布置在p金属接触件和n金属接触件之上的电介质聚合物应力缓冲层,应力缓冲层在p金属接触件和n金属接触件之上形成基本上平面的表面,应力缓冲层具有暴露p金属接触件的部分和n金属接触件的部分的两个或更多开口;以及

布置在应力缓冲层之上的金属焊接垫,其中金属焊接垫通过应力缓冲层中的开口电气连接到p金属接触件和n金属接触件。

2.权利要求1的器件,其中应力缓冲层是弹性的以便当金属焊接垫在施加热量时以与其下面的材料不同的速率膨胀时变形。

3.权利要求1的器件,其中应力缓冲层包括苯并环丁烯(BCB)。

4.权利要求1的器件,其中生长衬底具有在其上外延生长LED层的生长表面,其中生长表面在生长LED层之前被图案化。

5.权利要求1的器件,其中蚀刻LED层以暴露p型层和n型层之一以用于电气连接到p金属接触件或n金属接触件,其中蚀刻还创建围绕器件的沟槽,其中应力缓冲层至少部分地填充沟槽。

6.权利要求1的器件,还包括在应力缓冲层与p金属接触件和n金属接触件之间的钝化层。

7.权利要求1的器件,其中器件是倒装芯片LED。

8.权利要求1的器件,还包括焊接垫上的焊料凸块。

9.权利要求1的器件,其中衬底包括蓝宝石并且LED是基于GaN的。

10.权利要求1的器件,其中一个或多个金属接触层包括与p型层和n型层之一物理接触的金属接触层以及在接触层与焊接垫之间的界面层。

11.权利要求1的器件,其中焊接垫包括多个金属层。

12.一种用于形成发光器件的方法,包括:

在基本上透明的生长衬底上外延生长发光二极管(LED)层,LED层包括p型层和n型层;

沉积和图案化一个或多个金属接触层,所述一个或多个金属接触层电气接触p型层和n型层以形成p金属接触件和n金属接触件;

在p金属接触件和n金属接触件之上沉积电介质聚合物应力缓冲层,应力缓冲层在p金属接触件和n金属接触件之上形成基本上平面的表面,应力缓冲层具有暴露p金属接触件的部分和n金属接触件的部分的两个或更多开口;以及

在应力缓冲衬底层之上形成金属焊接垫,金属焊接垫通过应力缓冲层中的开口电气接触p金属接触件和n金属接触件。

13.权利要求12的方法,其中应力缓冲层是弹性的以便当金属焊接垫在施加热量时以与其下面的材料不同的速率膨胀时变形。

14.权利要求12的方法,其中应力缓冲层包括苯并环丁烯(BCB)。

15.权利要求12的方法,还包括蚀刻LED层以暴露p型层和n型层之一以用于电气连接到p金属接触件或n金属接触件,其中蚀刻还创建围绕器件的沟槽,其中应力缓冲层至少部分地填充沟槽。

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